JPS62152185A - Light-emitting element - Google Patents
Light-emitting elementInfo
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- JPS62152185A JPS62152185A JP60292210A JP29221085A JPS62152185A JP S62152185 A JPS62152185 A JP S62152185A JP 60292210 A JP60292210 A JP 60292210A JP 29221085 A JP29221085 A JP 29221085A JP S62152185 A JPS62152185 A JP S62152185A
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- light
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- inp
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
端面発光型発光ダイオードにおいて、発光端面とは反対
側の端面をエツチングして粗面とし、発光端面に無反射
コートを施したことを特徴とする。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Summary] An edge-emitting type light-emitting diode is characterized in that the end face opposite to the light-emitting end face is etched to have a rough surface, and the light-emitting end face is coated with a non-reflection coating.
本発明は発光素子に関するもので、さらに詳しく言えば
、端面発光型発光ダイオードのチップ内での光の端面反
射の防止に関するものである。The present invention relates to a light emitting device, and more specifically, to prevention of edge reflection of light within a chip of an edge emitting type light emitting diode.
発光ダイオード(LED)として最初開発された第4図
に示すものにおいては、光31が発光ダイオードの表面
33に設けた窓34から放出する構成のものであった。In the first developed light emitting diode (LED) shown in FIG. 4, light 31 was emitted from a window 34 provided on the surface 33 of the light emitting diode.
レーザダイオードにおいては、チップの端面を鏡面仕上
げし、内部での光の反射を利用し、チップ内で光を共振
させ増幅して光を取り出すものであるが、第5図に示す
端面発光型ダイオード41においては、光の放出する端
面42とその反対側端面43に無反射コート膜(Ant
i−Reflection+ へR膜ともいう)を付け
、ダイオードの内部で光の反射のない状態を作り、光の
増幅をなすことなしに光44を取り出す自然放出光の構
成をとる。なお、端面発光型ダイオードは、従来の発光
ダイオードとは、表面45からではなく 6::’1面
42から光を放出する点が異なる。In a laser diode, the end surface of the chip is finished with a mirror finish and the light is reflected inside the chip to resonate and amplify the light to extract the light. 41, an anti-reflection coating film (Ant
i-Reflection+ (also referred to as R film) is attached to create a state in which no light is reflected inside the diode, and a spontaneous emission light configuration is adopted in which light 44 is extracted without amplifying the light. Note that the edge-emitting diode differs from a conventional light-emitting diode in that it emits light not from the surface 45 but from the 6::'1 surface 42.
従来のチップ内での光の端面反射防止には、前記した如
く、無反射コート膜を端面に付けることで行われていた
。しかし、この方法では端面に付ける膜の厚さのバラツ
キで端面の反射率がばらつき、完全な無反射コー1−1
1ffを付けることはかなり困難である。Conventional techniques for preventing light from being reflected at the end faces within a chip have been carried out by applying a non-reflective coating to the end faces, as described above. However, with this method, the reflectance of the end face varies due to variations in the thickness of the film applied to the end face, and a completely non-reflective coat 1-1
It is quite difficult to attach 1ff.
第6図は無反射コート膜の膜厚人(横軸)と光反射率%
(縦軸)との関係を示す線図である。光の反射を0.1
%以下に抑えるには無反射コート膜の膜厚、その屈折率
などが影響するのであるが、膜厚の制御について言うと
バラツキを90人程度以内にしなければならず、このよ
うな狭いA単位の範囲に膜をきっちりと付けないと特性
に優れた発光ダイオードが得られない。Figure 6 shows the film thickness (horizontal axis) and light reflectance % of the non-reflective coating film.
(vertical axis). Light reflection 0.1
% or less depends on the thickness of the anti-reflection coating film, its refractive index, etc., but when it comes to controlling the film thickness, the variation must be kept within about 90 people, and such a narrow A unit A light emitting diode with excellent characteristics cannot be obtained unless the film is tightly attached within the range of .
本発明はこのような点に鑑みて創作されたもので、無反
射コート膜を付ける前に化学エツチングにより端面を粗
面にし、完全な無反射状態を作り出すことを目的とする
。The present invention was created in view of these points, and the object of the present invention is to roughen the end face by chemical etching before applying the anti-reflection coating film, thereby creating a completely non-reflection state.
第1図と第2図は本発明の第1と第2実施例の斜視図、
第3図は第1図と第2図の端面発光型の発光ダイオード
の断面図である。1 and 2 are perspective views of the first and second embodiments of the present invention,
FIG. 3 is a cross-sectional view of the edge-emitting type light emitting diode of FIGS. 1 and 2. FIG.
本発明の第1実施例においては、端面発光型の発光ダイ
オード11の無反射コートを施した光放出端面12の反
対側の端面13を粗面とし、また第2実施例においては
、活性層を含む平面14を光放出端面12に対しである
角度をもって傾斜せしめ、その傾斜した平面14を粗面
とする。In the first embodiment of the present invention, the end surface 13 of the edge-emitting type light emitting diode 11 opposite to the light-emitting end surface 12 provided with the anti-reflection coating is roughened, and in the second embodiment, the active layer is roughened. A flat surface 14 including the light emitting end surface 12 is inclined at a certain angle with respect to the light emitting end surface 12, and the inclined plane 14 is made a rough surface.
本発明は、端面の化学エツチングにより発光ダイオード
の光放出面の反対側端面を粗面にし乱反射を発生させて
端面での反射率を低下させ、なお光放出端面には無反射
コートを施して完全な無反射状態を作り出すものである
。In the present invention, the end surface opposite to the light emitting surface of the light emitting diode is roughened by chemical etching of the end surface to generate diffuse reflection and reduce the reflectance at the end surface. This creates a non-reflective state.
第3図には第1図と第2図の端面発光型の発光ダイオー
ド(以下単に発光ダイオードという)11の1例である
V溝を基板に埋めたヘテロ構造(V−grooved
5ubstrate Buried−heterost
ructure。FIG. 3 shows a heterostructure (V-grooved) in which a V-groove is buried in a substrate, which is an example of the edge-emitting type light-emitting diode (hereinafter simply referred to as a light-emitting diode) 11 shown in FIGS. 1 and 2.
5ubstrate Buried-heterost
structure.
νSR)が示され、同図において、15はn−Inp基
板、16はn−1nP層\ 17はn−11GaAsP
活性層、18はp−[nr’層(厚さり、8 tlm
) 、19はn−InP層(厚さ0.2 pm ) 、
20はn−InGaAsP層、21はp−1nP層(厚
さ2.5μm)、22はp−InGaAsP層(厚さ
0.5μm)、23はp電極、24はn電極で、発光ダ
イオード11は300μm口で高さは100μm±20
.crm、活性層17は中央部分で厚さ0.15μm1
幅2〜2.5μmあり、■溝の上方幅は5μmのもので
、かかる構成およびその動作は知られたものである。νSR) is shown, and in the figure, 15 is an n-Inp substrate, 16 is an n-1nP layer\17 is n-11GaAsP
Active layer 18 is p-[nr' layer (thickness, 8 tlm
), 19 is an n-InP layer (thickness 0.2 pm),
20 is an n-InGaAsP layer, 21 is a p-1nP layer (thickness 2.5 μm), and 22 is a p-InGaAsP layer (thickness
0.5 μm), 23 is a p electrode, 24 is an n electrode, and the light emitting diode 11 has a 300 μm opening and a height of 100 μm±20
.. crm, the active layer 17 has a thickness of 0.15 μm1 in the central part.
The width is 2 to 2.5 .mu.m, and the upper width of the groove is 5 .mu.m, and this structure and its operation are known.
本発明の第1□第2実施例において、光放出端面12は
従来例と同様に無反射コート膜が付けられ、その反対側
の端面が粗面にされる。第1実施例においては、光放出
端面12に平行な端面のすべてが粗面13にされる。第
2実施例においては、少なくとも活性層17を含む平面
は光放出端面12に対しである角度傾斜しており、この
傾斜した平面の表面を粗面14にする。なお第1図にお
いて、25は発光ダイオードから放出される光、26は
発光ダイオードと結合し光25を伝達する光ファイバを
示す。端面12に無反射コート膜を付ける理由は、発光
ダイオードからの光反射強度の分布をガウス曲線状にし
、最高強度の光が光ファイバ26に入るようにするため
である。In the first □ second embodiment of the present invention, the light emitting end face 12 is coated with an anti-reflection coating film as in the conventional example, and the opposite end face is made rough. In the first embodiment, all end faces parallel to the light emitting end face 12 are roughened. In the second embodiment, the plane including at least the active layer 17 is inclined at a certain angle with respect to the light emitting end face 12, and the surface of this inclined plane is made into a rough surface 14. In FIG. 1, reference numeral 25 indicates light emitted from the light emitting diode, and reference numeral 26 indicates an optical fiber that couples with the light emitting diode and transmits the light 25. The reason why the anti-reflection coating film is provided on the end face 12 is to make the distribution of light reflection intensity from the light emitting diode into a Gaussian curve shape so that the highest intensity light enters the optical fiber 26.
本発明の端面13を粗面にする実施例としてはエツチン
グによるものであり、エツチング溶液として■肝−11
NO3(1: 1) 、■ H鄭、■IIF−tlNO
3+ 1lci!の3種を使用している。■の場合は端
面のInGaAsP層を荒らし、■の場合は端面のIn
P層を荒らし、■の場合はInGaAsP層、 InP
層共に荒らしたものである。これは前記した各層のエツ
チングレートの相違を利用するものである。本発明者の
確認したところによると、■、■の場合は完全な無反射
状態を作り出すことができ、■の場合は若干バラツキが
あったが、それは従来例に比べてはるかに改善されたも
のである。An example of roughening the end surface 13 of the present invention is by etching, and the etching solution is
NO3 (1: 1), ■H Zheng, ■IIF-tlNO
3+ 1lci! Three types are used. In the case of ■, the InGaAsP layer on the end surface is roughened, and in the case of ■, the InGaAsP layer on the end surface is roughened.
The P layer is destroyed, and in the case of ■, the InGaAsP layer, InP
Both layers have been destroyed. This utilizes the difference in etching rate of each layer as described above. According to the inventor's confirmation, it is possible to create a completely non-reflective state in the cases of ■ and ■, and although there was some variation in the case of ■, it is much improved compared to the conventional example. It is.
なお、端面を荒らす場合、化学エンチング以外の方法と
して、ガスやプラズマ、イオンエツチング等も同様に有
効である。Note that when roughening the end face, methods other than chemical etching, such as gas, plasma, and ion etching, are equally effective.
以上述べてきたように本発明によれば、端面発光型の発
光ダイオードの端面の一方を粗面にすることにより、発
光ダイオード内での光の端面反射が防止され、自然放出
光が得られる効果がある。As described above, according to the present invention, by making one of the end faces of an edge-emitting type light emitting diode rough, end face reflection of light within the light emitting diode is prevented, and spontaneous emission light can be obtained. There is.
なお、発光ダイオードは第3図に示した構造のものに限
定されるものでない。Note that the light emitting diode is not limited to the structure shown in FIG.
第1図は本発明第1実施例の斜視図、
第2図は本発明第2実施例の斜視図、
第3図はVSBの断面図、
第4図と第5図は従来例斜視図、
第6図はAR膜の膜厚と反射率の関係を示す線図である
。
第1図ないし第3図において、
11は発光ダイオード、
12は光放出端面、
13は粗面、
14は傾斜した粗面、
15はn−1nP基板、
16はn−InP層、
17はp−InGaAsP層(活性層)18はp−In
P層、
19はn−1nP層、
20はn−1nGaAsP層、
21はp−1nP層、
22はp−1nGaAsP Nt %
23はp電極、
24はn電極、
25は光、
26は光ファイバである。
代理人 弁理士 久木元 彰
復代理人 弁理士 大 菅 義 之
本発明費胞イ列千i口
第1図
従憂劉平面口
第3図
従来4PJ平面図
第4囚
77 ゛ノートー7L”へ 21
ラング−15
征来引V龜図
第6図
イ謬り遇54ヂコ1イri日
第7図
昭和60年特許願第292210号
21発明の名称 発光素子
3、補正をする者
事件との関係 特許出願人
住 所 神奈川県用崎市中原区上小田中1015番地氏
名 富士通株式会社
4、代理人
住 所 東京都新宿区新宿1丁目31番3−808号6
、補正の対象 図面
1ゴ =ト /7.’% 1=
・ −尤糎4If112
し本;メンくヨ戸 9てつi邑イクリ斜ネLルU第1図
本わ膝施θ1用机服
第2図
悦引?11月猥7
第4ワ1
イ11(+ll MCI!1
第5図
々身搏(%)
Cは惣且
第6図Fig. 1 is a perspective view of the first embodiment of the present invention, Fig. 2 is a perspective view of the second embodiment of the invention, Fig. 3 is a sectional view of the VSB, Figs. 4 and 5 are perspective views of the conventional example, FIG. 6 is a diagram showing the relationship between the film thickness and reflectance of the AR film. 1 to 3, 11 is a light emitting diode, 12 is a light emitting end face, 13 is a rough surface, 14 is an inclined rough surface, 15 is an n-1nP substrate, 16 is an n-InP layer, 17 is a p- InGaAsP layer (active layer) 18 is p-In
P layer, 19 is n-1nP layer, 20 is n-1nGaAsP layer, 21 is p-1nP layer, 22 is p-1nGaAsP Nt%, 23 is p-electrode, 24 is n-electrode, 25 is light, 26 is optical fiber be. Agent Patent attorney Akifuku Kuki Agent Patent attorney Yoshio Suga No. 1 Inventor expense cell 1,000 mouths Figure 1 Liu plane mouth Figure 3 Conventional 4PJ floor plan No. 4 prisoner 77 Go to Note 7L” 21 Lang-15 Seirai-hiki V head diagram Figure 6 I Error 54 Diko 1 Iri day Figure 7 1985 Patent application No. 292210 21 Title of the invention Light-emitting device 3, Relationship with the amended person case Patent applicant address: 1015 Kamiodanaka, Nakahara-ku, Yozaki-shi, Kanagawa Prefecture Name: Fujitsu Ltd. 4 Agent address: 1-31-3-808-6 Shinjuku, Shinjuku-ku, Tokyo
, Target of correction Drawing 1 GO = TO /7. '% 1=
・ -尤糎4If112 Shimoto; Menkuyoto 9 Tetsui Ikuri Oblique Nell U Fig. 1 Book, Knees, θ1 Desk Clothes, Fig. 2, Pleasure? November obscene 7 4th wa 1 i 11 (+ll MCI! 1 5th figure body movement (%) C is so and 6th figure
Claims (2)
光端面(12)の反対側の端面の表面を粗面(13)と
し、発光端面(12)には無反射コートを施したことを
特徴とする発光素子。(1) In the edge-emitting type light-emitting diode (11), the surface of the end surface opposite to the light-emitting end surface (12) is a rough surface (13), and the light-emitting end surface (12) is coated with an anti-reflection coating. A light-emitting element that
層(17)を含む平面を端面(12)に対しある角度を
もって傾斜した表面とし、その表面を粗面(14)とし
た特許請求の範囲第1項記載の発光素子。(2) A plane including at least the active layer (17) on the end face opposite to the end face (12) is a surface inclined at a certain angle with respect to the end face (12), and the surface is a rough surface (14). The light emitting device according to scope 1.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60292210A JPS62152185A (en) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | Light-emitting element |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60292210A JPS62152185A (en) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | Light-emitting element |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62152185A true JPS62152185A (en) | 1987-07-07 |
Family
ID=17778943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60292210A Pending JPS62152185A (en) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | Light-emitting element |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62152185A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4975752A (en) * | 1987-09-29 | 1990-12-04 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Light-emitting diode |
-
1985
- 1985-12-26 JP JP60292210A patent/JPS62152185A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4975752A (en) * | 1987-09-29 | 1990-12-04 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Light-emitting diode |
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