JPS62149841U - - Google Patents

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JPS62149841U
JPS62149841U JP3759586U JP3759586U JPS62149841U JP S62149841 U JPS62149841 U JP S62149841U JP 3759586 U JP3759586 U JP 3759586U JP 3759586 U JP3759586 U JP 3759586U JP S62149841 U JPS62149841 U JP S62149841U
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JP
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container
trap
semiconductor manufacturing
top surface
passing
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JP3759586U
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図はこの考案の半導体製造装置の一実施例
に使用されるトラツプの第1の例の一部切欠斜視
図、第2図は第1図トラツプの側面図、第3図は
上記一実施例に使用されるトラツプの第2の例を
示す断面図、第4図は上記一実施例に使用される
トラツプの第3の例を示す側面図、第5図はIn
Pの減圧MOCVD装置の配管構造図、第6図は
従来のトラツプを示す断面図である。 21……密閉筒状容器、22……筒体、23…
…ガイド、24……通路、25……第1の管、2
6……第2の管。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 反応管の下流側に、蒸発物や反応出成物である
    固形物を除去するトラツプを有する半導体製造装
    置において、 (a) 密閉筒状容器と、 (b) この密閉筒状容器内に同軸的に収容された
    筒体と、 (c) この筒体の外壁に螺旋状に設けられ、該筒
    体の外壁と前記容器の内壁間に、下端にて前記筒
    体内に連通する螺旋状の通路を形成するガイドと
    、 (d) 前記容器の上面を貫通して、容器の上端に
    て前記通路に連通する第1の管と、 (e) 前記容器の上面を貫通して、容器の上端に
    て前記筒体内に連通する第2の管とにより前記ト
    ラツプを構成したことを特徴とする半導体製造装
    置。
JP3759586U 1986-03-17 1986-03-17 Pending JPS62149841U (ja)

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JP3759586U JPS62149841U (ja) 1986-03-17 1986-03-17

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JP3759586U JPS62149841U (ja) 1986-03-17 1986-03-17

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JPS62149841U true JPS62149841U (ja) 1987-09-22

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ID=30849065

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JP3759586U Pending JPS62149841U (ja) 1986-03-17 1986-03-17

Country Status (1)

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JP (1) JPS62149841U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01302816A (ja) * 1988-05-31 1989-12-06 Tel Sagami Ltd 縦型熱処理装置
JPH04176118A (ja) * 1990-11-08 1992-06-23 Nec Kyushu Ltd 減圧cvd装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01302816A (ja) * 1988-05-31 1989-12-06 Tel Sagami Ltd 縦型熱処理装置
JPH04176118A (ja) * 1990-11-08 1992-06-23 Nec Kyushu Ltd 減圧cvd装置

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