JPS62146062A - レ−ザビ−ム走査装置 - Google Patents

レ−ザビ−ム走査装置

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Publication number
JPS62146062A
JPS62146062A JP60287453A JP28745385A JPS62146062A JP S62146062 A JPS62146062 A JP S62146062A JP 60287453 A JP60287453 A JP 60287453A JP 28745385 A JP28745385 A JP 28745385A JP S62146062 A JPS62146062 A JP S62146062A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
semiconductor laser
laser
laser beam
signal
Prior art date
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Pending
Application number
JP60287453A
Other languages
English (en)
Inventor
Masao Ito
昌夫 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP60287453A priority Critical patent/JPS62146062A/ja
Publication of JPS62146062A publication Critical patent/JPS62146062A/ja
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  • Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
  • Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
  • Laser Beam Printer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、複数本出射されるレーザビームを感光体近傍
の非画像領域上に設けられた受光素子に順次−木ずつ入
射させて光量を測定し、制御回路によって半導体レーザ
のレーザビーム発光光量を制御するようにした複数のレ
ーザビーム走査装置に関する。
〔従来の技術〕
従来の複数のレーザビーム走査装置として、例えば特開
昭59−12416に示すものがある。
この装置は出射された2つのレーザビームが垂直に交わ
るように配置された2つの半導体レーザと、直交した2
つのレーザビームを一方向へ合成するビームスプリフタ
と、ビームスプリンタからのレーザビームを感光体に向
けて偏向走査する回転多面鏡と、該回転多面鏡によって
偏向走査されたレーザビームの中央部と端部とで走査光
点の偏差を集束補正するFθレンズと、Fθレンズより
レーザビームが照射される感光体とより構成されている
以上の構成において、2つの半導体レーザから出射され
た2つのレーザビームはビームスブリフタで直交し、一
方向へ合成されて回転多面鏡の回転によって偏向走査さ
れ、Fθレンズにより集束補正されたのち、感光体上に
同時に2本の走査線を形成することができる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、従来の複数のレーザビーム走査装置によれば、
各半導体レーザから出力されたレーザビームの光量を測
定し、各半導体レーザの発光光量を制御しようとする場
合、各半導体レーザの光学系に対する出射面とは反対側
から出射されるレーザビームを測定して半導体レーザの
発光光量を制御しようとするため、それぞれの透過率、
反射率で光学系を透過、反射して感光体上に照射される
複数のレーザビームの光量と光量を測定されたレーザビ
ームの光量との値がそれぞれ異なり、感光体上に照射さ
れるレーザビームの光量は所望の値と異ってしまい、プ
リントに明暗の編笠発生するような不都合があった。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕本発明は上記
に鑑みてなされたものであり、複数のレーザビームが所
望の値の光量で、感光体上に照射されるようにするため
、感光体近傍の非画像領域にレーザビームの受光素子を
配置し、この受光素子による受光量信号に基づいて制御
回路が働き、複数の半導体レーザの発光光量を順次制御
するようにした複数のレーザビーム走査装置を提供する
ものである。
〔実施例〕
以下、本発明による複数のレーザビーム走査装置を詳細
に説明する。第1図乃至第2図実施例を示し、出射され
た2つのレーザビームL2及びL2が垂直に交わるよう
に配置された半導体レーザ1及び2と、該半導体レーザ
1及び2よりのレーザビームL1及びL2をそれぞれ平
行ビームにするコリメータレンズ3及び4と、直交した
2つのレーザビームし、及びL2を一方向へ合成するビ
ームスプリッタ5と、ビームスプリッタ5よりのレーザ
ビームLl、L2を集光するシリンダーレンズ6と、シ
リンダーレンズ6を透過したレーザビームL、 、L、
を感光体10に向けて偏向走査する回転多面鏡7と、該
回転多面鏡7によって偏向走査されたレーザビームl、
+、Lzの中央部と端部での走査光点の偏査を集束補正
するFθレンズ8と、Fθレンズ8からのレーザビーム
L+、Lzを更に集光するシリンダーレンズ9と、シリ
ンダーレンズ9よりのレーザビームL+、Lzが照射さ
れる感光体10と、感光体10近傍のレーザビーム走査
領域内で且つ非画像領域に配置された受光素子11と、
受光素子11からのレーザビームの光量信号を受信して
、半導体レーザ1及び2の発光光量を制御する制御回路
12とより構成されており、更に、制御回路12は受光
素子11で受けた光量信号を増幅して電圧に変換するア
ンプ22と、基準電圧を発生する基準電圧発生器24と
アンプ22から送られてきた電圧を比較し差信号を出力
する比較器23と、半導体レーザ1及び2の光量制御の
変換を行う切り換えスイッチ25と、比較器23より出
力された差信号に基づいて半導体レーザ1用の印加電流
を記録するLDI用印加電流記録器26及び半導体レー
ザ2用のLD2用印加電流記録器27と、半導体レーザ
1及び2を駆動するLDI用ドラドライバー2829と
、半導体レーザ1あるいは2に対して発光光量を制御す
るよう切り換えるタイミングをとる切り換えタイミング
制御器30と、画像信号に応じたレーザビームの出力信
号を半導体レーザ1.2に出力するLD発光パターン発
生器31とより構成されている。
以上の構成において、画像信号に基づいて半導体レーザ
1及び2よりレーザビームL、及びL2が出力され、コ
リメータレンズ3及び4がそれぞれのビームL、 、L
2を平行ビームにし、垂直に交わるレーザL1、L2は
ビームスプリッタ5によって一方向へ合成される。シリ
ンダーレンズ6を透過したビームL、、L2は回転多面
鏡7によって感光体10に向けて偏向走査され、Fθレ
ンズによって集束補正された後シリンダーレンズ9を透
過して感光体10に照射される。シリンダーレンズ9を
透過したビームLl、L2は感光体10近傍のレーザビ
ーム走査領域内で且つ非画像領域にある受光素子11に
も入射され、例えば、第2図、第3図に示すように、レ
ーザビーム1を補正する場合には切り換えスイッチ25
及び切り換えタイミング制御器30によって、光源切り
換え信号44が出力されて受光素子11上は半導体レー
ザのみが点灯し、受光素子11で受けた半導体レーザ1
の光量41の信号はアンプ22を介して、これを比較器
23と基準電圧発生器24によって比較され、比較器2
3からの基準の差信号43がLDI用印加電流記録器2
6に出力されてLDI用ドラドライバー28動を制御し
、半導体レーザ1の光量が制御される。半導体レーザ1
の光量補正が終了すると、光源切り換えスイッチ25及
び切り換えタイミング制御器30によって光源切り換え
信号44が出力されて受光素子11上は半導体レーザ2
のみが点灯し、受光素子11は半導体レーザ2の光量4
2を受けて上述の半導体レーザ1を制御する場合の手順
と同様にして、基準電圧発生器24との比較による比較
器23からの差信号43がLD2用印加電流記録器27
に出力されてLD2用ドラドライバー29動を制御し、
半導体レーザ2の光量出力を制御する。
尚、第3図中45は所望の光量の値を示し、46は半導
体レーザlの制御前の光量、47は半導体レーザ1の制
御後の光量、48は半導体レーザ2の制御前の光量、4
9は半導体レーザ2の制御後の光量をそれぞれ示すもの
である。
〔発明の効果〕
以上説明した通り、本発明の複数のレーザビーム走査装
置によれば、感光体近傍の非画像領域にレーザビームの
受光素子を配置し、この受光素子による受光量の信号に
基づいて制御回路が働き複数の半導体レーザの発光光量
を順次制御するようにしたため、複数のレーザビームが
所望の値の光量で感光体上に照射することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本願の一実施例を示す説明図、第2図は構成図
の制御回路の構成図、第3図は光量及び制御信号のタイ
ムチャート。 符号の説明 ■・・・半導体レーザ、   2・・・半導体レーザ、
3・・・コリメータレンズ、  4・・・コリメータレ
ンズ、5・・・ビームスプリンタ、 6川シリンダーレ
ンズ、7・・・回転多面鏡、     8・・・Fθレ
ンズ、9・・・シリンダーレンズ、 1o・・・感光体
、11・・・受光体、      12・・・制御回路
、22・・・アンプ、      23・・・比較器、
24・・・基準電圧発生器、  25・・・切り換えス
イッチ、26・・・記録器、      27・・・記
録器、28、29・・・LDI用ドライバ、 30・・・切り換えタイミング制御、 41・・・半導体レーザ1の光量、 42・・・半導体レーザ2の光量、 43・・・差信号、      44・・・光源切換え
信号。 特 許 出 願 人  冨士ゼロックス株式会社代理人
  弁理士  松 原 伸 2 同  同 村木清司 同  同 上島淳− 同      同     酒 井 宏  明第3図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  画像信号によって変調された複数本のレーザビームを
    偏向ならびに集束し、当該集束されたレーザビームによ
    って感光体上に複数本の走査線を画像信号によって露光
    し、画像形成するレーザビーム走査装置において、 感光体の非画像領域近傍に設けた複数本のレーザビーム
    を各々光量測定する受光素子と、該受光素子からの光量
    信号に基づいて複数本の半導体レーザの各々の発光光量
    を制御する制御部とを備えたことを特徴とするレーザビ
    ーム走査装置。
JP60287453A 1985-12-20 1985-12-20 レ−ザビ−ム走査装置 Pending JPS62146062A (ja)

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JP60287453A JPS62146062A (ja) 1985-12-20 1985-12-20 レ−ザビ−ム走査装置

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JPS62146062A true JPS62146062A (ja) 1987-06-30

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JP60287453A Pending JPS62146062A (ja) 1985-12-20 1985-12-20 レ−ザビ−ム走査装置

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JP (1) JPS62146062A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0358171A2 (en) * 1988-09-06 1990-03-14 Canon Kabushiki Kaisha Light intensity control apparatus
JP2004106419A (ja) * 2002-09-19 2004-04-08 Fuji Xerox Co Ltd 光源制御装置

Cited By (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0358171A2 (en) * 1988-09-06 1990-03-14 Canon Kabushiki Kaisha Light intensity control apparatus
US5043745A (en) * 1988-09-06 1991-08-27 Canon Kabushiki Kaisha Light intensity control apparatus
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