JPS62145513A - Magnetic head - Google Patents

Magnetic head

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JPS62145513A
JPS62145513A JP28609785A JP28609785A JPS62145513A JP S62145513 A JPS62145513 A JP S62145513A JP 28609785 A JP28609785 A JP 28609785A JP 28609785 A JP28609785 A JP 28609785A JP S62145513 A JPS62145513 A JP S62145513A
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JP
Japan
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polymer
film
gap
magnetic
glass
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JP28609785A
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Japanese (ja)
Inventor
Mitsuo Satomi
三男 里見
Koichi Kugimiya
公一 釘宮
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To prevent the generation of the loosened glass layer or core deviation during the adhesion of a gap of a magnetic head having the construction in which both sides of a magnetic material are sandwiched by substrates by constituting the adhesive layer thereof a specific material. CONSTITUTION:An amorphous alloy layer 7 is formed as a soft magnetic metallic film by an apparatus for manufacturing the thin film by sputtering onto the surface of the substrate 6 finished to a specular surface and further a polymer is coated on the opposite side surface of a substrate material 8. The polymer is a polymer crosslinked with an org. metal in which the polycarboxilane part consisting of carbosilane skeleton is crosslinked and bound by a titanium compd. An optional density and viscosity are obtd. by dilution and the polymer is prepd. according to purposes. Both are then superposed in such a manner that the amorphous alloy film 7 and the polymer layer 9 face each other and are cured by heating while pressure is exerted to the substrates 6 and 8. A winding window 11 is then formed and a gap spacer film 12 and welding glass film 13 for gap bonding are stuck to the necessary part of the butt surfaces of at least one side faces of a set of the core blocks 10, 10'.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は磁性体を基板で挾んだ構造を有するヘッドコ
アを用いた磁気ヘッドに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of the Invention This invention relates to a magnetic head using a head core having a structure in which a magnetic material is sandwiched between substrates.

従来の技術 材 従来より磁気ヘッド用コア1として、耐摩耗性が良いと
いう特長からフェライトが広く使用されているが、飽和
磁束密度が合金材料に比べて30〜・60%低いので、
近年登場してきた高抗磁力の高密度記録用媒体に使用し
た場合、ヘッドコア材料の磁気飽和が問題となる。
Conventional technical materials Ferrite has been widely used as the core 1 for magnetic heads due to its good wear resistance, but its saturation magnetic flux density is 30 to 60% lower than that of alloy materials.
When used in high-density recording media with high coercive force that have appeared in recent years, magnetic saturation of the head core material becomes a problem.

このような観点より、高密度記録媒体の対応ヘットトシ
て、パーマロイやセンダストなどの合金材料を使った磁
気ヘッドが実用化されている。
From this point of view, magnetic heads using alloy materials such as permalloy and sendust have been put into practical use as heads compatible with high-density recording media.

他方、耐掌粍性、磁気特性ともに優れた材料とし二非晶
質合金が脚光をあびている。非晶質合金材料は、その製
造上の特徴より、約50μm以下の薄い膜を作るのに適
している。また金属材料は、フェライト材料にくらべて
比抵抗が非常に小さいので、高周波領域におけるうず電
流損失が大きく、その点でも好都合である。
On the other hand, bi-amorphous alloys are attracting attention because they are materials with excellent scratch resistance and magnetic properties. Due to its manufacturing characteristics, amorphous alloy materials are suitable for making thin films of about 50 μm or less. Further, since metal materials have a much lower resistivity than ferrite materials, they have a large eddy current loss in the high frequency range, which is also advantageous.

しかしながらこのような薄板単独では、磁気ヘッドとし
て構成する場合、機械加工上または強度上問題があるの
で、通常耐摩耗性が良好な基板材料て両ll1llから
挾持した、いわゆるサンドイッチ構造の磁気ヘッドか実
用に供されている。
However, when such a thin plate is used alone to form a magnetic head, there are problems in machining or strength. It is served to.

この時間順となるのは、磁性体と基板材料の接着である
。有機接着剤は取扱いが簡単で、硬化による加熱も比較
的簡単であるが、実用的な強度を得るにはちる程度の接
着層の厚みが必要である(例えば数十ミクロンオーダ)
寸だ接着後の温度、湿度の変化に対する信頼性は乏しく
、ビデオテープレコーダ用ヘッドなどの狭ギャップ長の
ヘッド特注を維持することは困難である。
This time order is due to the adhesion between the magnetic material and the substrate material. Organic adhesives are easy to handle and can be heated for curing relatively easily, but in order to obtain practical strength, the adhesive layer needs to be thick enough to break (for example, on the order of tens of microns).
The reliability against changes in temperature and humidity after bonding is poor, and it is difficult to maintain custom-made heads with narrow gap lengths, such as heads for video tape recorders.

したがって信頼性の高い接着となると、ガラス接着によ
る方法が現在の所最も信頼の高い接着方法である。
Therefore, when it comes to highly reliable bonding, glass bonding is currently the most reliable bonding method.

他方非晶質合金の磁気特注を考慮した場合について説明
する。第3図にσ−T曲線を示す。
On the other hand, a case will be explained in which magnetic customization of an amorphous alloy is considered. FIG. 3 shows the σ-T curve.

一般的には第3図に示したようにキュリ一温度TCで磁
化が零となる。結晶化温度Tx 付近より再び磁化が出
てくるのは結晶質の合金の磁性が出てくる為である。
Generally, as shown in FIG. 3, the magnetization becomes zero at the Curie temperature TC. The reason why magnetization appears again near the crystallization temperature Tx is because the magnetism of the crystalline alloy appears.

磁気ヘッドの磁性材料としての特性を考慮した時透磁率
が高い程mましいが、高透磁率を得るため(ては磁性膜
中の異方性を取り除く事が必要でちる。
When considering the characteristics of the magnetic material of the magnetic head, the higher the magnetic permeability, the better, but in order to obtain high magnetic permeability, it is necessary to remove anisotropy in the magnetic film.

従ってこれを実現するにはT。より高< Tx より低
い温度領域で熱処理すれば良い。
Therefore, to achieve this, T. The heat treatment may be performed in a temperature range higher than Tx and lower than Tx.

他方上記T。とTxが逆転した材料もあるが、この材料
の場合通常の熱処理では高透磁率は得られず磁場中熱処
理などの特殊な熱処理が必要であり、実用上問題があり
通常は第3図に示した特性の非晶質合金が使用される。
On the other hand, the above T. There is also a material in which Tx is reversed, but in the case of this material, high magnetic permeability cannot be obtained by normal heat treatment and special heat treatment such as heat treatment in a magnetic field is required, which poses a practical problem and is usually shown in Figure 3. Amorphous alloys with similar properties are used.

一方ガラス接着による非晶質合金を使用した磁気ヘッド
の製造工程を考慮した場合、少なくとも基板材料と非晶
質合金を接着する熱処理工程とギャップ形成する熱処理
工程の2つは必要である。
On the other hand, when considering the manufacturing process of a magnetic head using an amorphous alloy by glass bonding, at least two steps are necessary: a heat treatment step for bonding the substrate material and the amorphous alloy, and a heat treatment step for forming a gap.

ガラスのゆるみ、移動を考えれば基板と非晶質合金の接
着は軟化温度の高いガラス、ギャップ形成は軟化温度の
低いガラスと使いわけ出来れば理想的であるが、異方性
を取り除く立場から考慮すると、ヘッド製造工程の最終
熱処理工程が少なくともそれ以前の熱処理工程と同等の
温度かそれ以上にする必要がある。
Considering the loosening and movement of glass, it would be ideal if glass with a high softening temperature could be used to bond the substrate and amorphous alloy, and glass with a low softening temperature could be used to form a gap, but this should be considered from the perspective of eliminating anisotropy. Then, the final heat treatment step in the head manufacturing process needs to be at least at the same temperature as the previous heat treatment step or higher.

また、実用的にはTx は通常500℃付近であり、T
oは磁気ヘッド材料としての磁束密度を考慮すれば46
0℃付近以上となる。
In addition, in practice, Tx is usually around 500°C;
o is 46, considering the magnetic flux density of the magnetic head material.
The temperature will be around 0℃ or higher.

従って実用的な材料を考慮すればT。−Tx間の温変幅
はあまり広く出来ない事、作業温度はT 以下という事
は、現在の新任融点鉛ガラスしかない。
Therefore, considering practical materials, T. The current new melting point lead glass is the only one because the temperature change range between -Tx cannot be made very wide and the working temperature is below T.

軟化温度を下げるにはガラス中の鉛の含量を多くすれば
良いが、多くすればガラス自身が不安定になる事、また
機械的強度も弱くなるなどの理由でむやみに軟化温度が
下げられないのが現状である。
In order to lower the softening temperature, it is possible to increase the lead content in the glass, but if the lead content is increased, the glass itself will become unstable and its mechanical strength will also weaken, so the softening temperature cannot be lowered unnecessarily. is the current situation.

このような背景より、現在の新任融点ガラスが実用に供
されている(特開昭58−14313号公報)。
Against this background, new melting point glasses are currently being put into practical use (Japanese Unexamined Patent Publication No. 14313/1983).

発明が解決しようとする問題点 基板接着とギャップ形成ガラスは同一が、使いわけても
上記理由で極めて軟化温度の近いガラス;てな;ので、
基板接着時のガラス層がギャップ形成時の時にゆるむ/
)第4図に示したように、ギャップ精度が悪かったり、
コアずれを起こしギヤツブ晴度の低下ならびにヘッド歩
留りの低下が問題となっている。
Problems to be Solved by the Invention Although the substrate adhesion and gap forming glasses are the same, even if they are used differently, the softening temperatures are very similar for the above reasons.
The glass layer loosens when forming a gap when bonding the substrate/
) As shown in Figure 4, the gap accuracy is poor,
This causes core misalignment, resulting in a decrease in gear tooth clarity and a decrease in head yield.

第4図は模式的に拡大して示したが、実際はミクロンオ
ーダの動きである。同図において、基板1は溶着ガラス
層3により磁性材料2と接合されている。ギャップ4は
しっかりしているが、溶着ガラス層3の部分がゆるみ、
スキマ5が生じている。
Although FIG. 4 is schematically shown in an enlarged manner, the actual movement is on the order of microns. In the figure, a substrate 1 is bonded to a magnetic material 2 through a welded glass layer 3. The gap 4 is solid, but the welded glass layer 3 is loose.
Gap 5 has occurred.

本発明は、従来の硝子接着の技術を用いた場合に生ずる
ーような、ギャップ接着時の硝子層のゆるみ、ないしは
コアずれの発生を停止することを目的とする。
The object of the present invention is to prevent the loosening of the glass layer or core shift during gap bonding, which occurs when conventional glass bonding techniques are used.

問題点を解決するための手段 磁性体と基板材料の接着層を、カルボシラン骨格からな
るポリカルボシラン部分がチタン化合物によって架橋結
合された有機金属架橋重合体、前記重合体が部分分解し
て成るケイ素、チタン、炭作   用 上記のような構成とすることにより、熱処理工程である
ギャップ形成では、該接着層のゆるみ、移動によるコア
ずれが発生しないので、ヘッド歩留りが飛躍的に向上す
る。
Means for Solving the Problems The adhesive layer between the magnetic material and the substrate material is made of an organometallic crosslinked polymer in which a polycarbosilane portion consisting of a carbosilane skeleton is crosslinked with a titanium compound, and silicon made by partially decomposing the above polymer. , titanium, charcoal action With the above structure, core displacement due to loosening or movement of the adhesive layer does not occur in the gap forming step, which is a heat treatment process, so that the head yield is dramatically improved.

実施列 本発明の一実施例の磁気ヘッドの構成を第1図のヘッド
製造工程の順に従って説明する。
Embodiment The structure of a magnetic head according to an embodiment of the present invention will be explained in accordance with the order of the head manufacturing process shown in FIG.

第1図Aに示すように基板6を鏡面に仕上げた表面にス
パッタリングの薄膜作製装置で軟磁性金属膜として非晶
質合金膜7を形成した。さらに反対側の基板材料8の表
面に、ポリマーを塗布する。
As shown in FIG. 1A, an amorphous alloy film 7 was formed as a soft magnetic metal film on the mirror-finished surface of the substrate 6 using a sputtering thin film forming apparatus. Furthermore, a polymer is applied to the surface of the substrate material 8 on the opposite side.

このポリマーは、カルボシラン骨格からなるポリカルボ
シラ/部分がチタン化合物によって架橋結合された有機
金属架橋重合体であり、適当な有機溶媒で希釈すること
により任意の濃度と粘度が得られ、目的に応じ調製する
。このポリマーの塗布はブレード法、スプレー法、スク
リーン印刷。
This polymer is an organometallic crosslinked polymer in which a polycarbosilane/moiety consisting of a carbosilane skeleton is crosslinked with a titanium compound. Any concentration and viscosity can be obtained by diluting it with an appropriate organic solvent, and it can be prepared according to the purpose. . This polymer can be applied using the blade method, spray method, or screen printing.

はけ塗り、スピンナーなどいずれの方法でもよい。Any method such as brushing or spinner coating may be used.

なお非晶質合金膜7の特性は飽和磁束密度Bs−80o
Oガウス、結晶化温度Tx=560℃、キューリ点TC
=450℃であった。
The characteristics of the amorphous alloy film 7 are saturation magnetic flux density Bs-80o
O Gauss, crystallization temperature Tx = 560°C, Curie point TC
=450°C.

然る後第1図Bに示すように、双方を非晶質合金膜7と
上記ポリマー“會9が対面するよう、で−π7−合わせ
て、上下面すなわち基板6と8二王力を“:5えながら
非酸化性雰囲気で500℃で加ハ硬化巳た。加熱硬化後
は少なくとも便化温度とで1−〇′4蕃変に再加熱して
もゆるまない。接着層の厚み:寸前記ポリマーの粘度と
加えた圧力により決定てれる。
Thereafter, as shown in FIG. 1B, the upper and lower surfaces of the substrates 6 and 8 are aligned so that the amorphous alloy film 7 and the polymer layer 9 face each other. : 5, and was cured at 500°C in a non-oxidizing atmosphere. After being heated and hardened, it will not loosen even if it is reheated to a degree of 1-0'4 at least to the softening temperature. Adhesive layer thickness: Determined by the viscosity of the polymer and the applied pressure.

基板の表面性、そり、模の強度から考えると51m以下
、望ましくは3μm以下が良′ハっ 本、願発明のよう
に、ポリマーを有機溶媒シて希釈した液状で用いること
により、接着面のそり2表面のアレ、スキマなどがあっ
ても完全に行き渡る特長がある。
Considering the surface properties of the substrate and the strength of warpage and patterning, it is recommended that the thickness be 51 m or less, preferably 3 μm or less. Sled 2 has the advantage of completely covering even if there are irregularities or gaps on the surface.

このポリマーは昇温に従い約300℃よりポリカルボシ
ランの揮発が始まり、順次H2,CH4:Thどの揮発
により無機化が進行し、1300℃迄はSi、Ti、C
,Oからなる非晶質構造を有する。従って5o○℃程度
の加熱硬化では、ポリマーとSi、Ti、C,○からな
る非晶質物質の混在したものとなる。
As the temperature rises, polycarbosilane begins to volatilize from about 300°C, and mineralization progresses by sequential volatilization of H2, CH4:Th, and up to 1300°C, Si, Ti, and C
,O has an amorphous structure. Therefore, when heat-cured at about 50° C., a polymer and an amorphous substance consisting of Si, Ti, C, and O are mixed together.

次に巻線窓11を形成し、1組のコアブロー)り10.
10’の少なくとも一方側面に、S 10’2等のギャ
ップスペーサ膜12とギャップボンディング用溶着ガラ
ス膜13とをスパッタリング等の方法で、上記コアブロ
ックの突き合わせ面の必要な部分に付着させた。この時
前記したポリマーをスペーサ膜12またはギャップボン
ディング用溶着ガラス膜13のかわりに使用しても一向
に支障りはない。
Next, a winding window 11 is formed, and a set of core blows 10.
On at least one side surface of the core block 10', a gap spacer film 12 such as S 10'2 and a welded glass film 13 for gap bonding were attached to necessary portions of the abutting surfaces of the core blocks by a method such as sputtering. At this time, there is no problem even if the above-mentioned polymer is used in place of the spacer film 12 or the welded glass film 13 for gap bonding.

但しギャップ精度を得るために、入オーダーの膜厚の制
御が必要となり、現在の技術では、膜厚の制御のだめに
はスパッタリングの方がペターである。もし膜厚制御が
スパッタリングと同程度で可能かギャップ長が大きい時
はどちらでも良い。
However, in order to obtain gap accuracy, it is necessary to control the film thickness of the incoming order, and with the current technology, sputtering is more difficult to control the film thickness. If the film thickness can be controlled to the same level as sputtering or the gap length is large, either method is fine.

次に第1図Cに示すように上記スペーサ膜12とガラス
膜13が対面するように突合わせて加熱す着する。この
時巻線窓11の先端にボンディング用ガラス14を置い
て500℃で同時に溶融する(ギャップ形成)。
Next, as shown in FIG. 1C, the spacer film 12 and the glass film 13 are brought together so as to face each other and heated. At this time, a bonding glass 14 is placed at the tip of the winding window 11 and simultaneously melted at 500° C. (gap formation).

この時も同様にボンディングガラス14のかわりに前記
ポリマーを使用してもよいが、バルクの強度という点て
はガラスの方が優れている( 500℃硬化の時)。
At this time as well, the above polymer may be used instead of the bonding glass 14, but glass is superior in terms of bulk strength (when cured at 500°C).

こうして第1図りに示すように必要なギャップ15を形
成する。その後、所定のコア厚みに切断線16.16’
 より切り出し、第1図Eに示すように、テープ摺動部
17を形成してヘッドチップが完成する。
In this way, a necessary gap 15 is formed as shown in the first diagram. Then, cut the line 16.16' to the predetermined core thickness.
Then, as shown in FIG. 1E, a tape sliding portion 17 is formed to complete the head chip.

こうして得られたヘッドチップにするまでの歩留りを第
1表に示す。参考迄に従来のガラス(軟化温度450℃
と500℃の各ガラス)をポリマー9の代わりに使用し
た時の歩留りも合わせて示す。
Table 1 shows the yield of head chips obtained in this manner. For reference, conventional glass (softening temperature 450℃
and 500°C glass) are used in place of Polymer 9. The yields are also shown.

なおいずれの材料もコアブロック1o、10′を形成す
る温度およびギャップ形成温度(d同一でちる。
Note that the temperature for forming the core blocks 1o, 10' and the gap forming temperature (d) are the same for both materials.

第   1   表 第1表より明らかなように、本発明によりヘッド歩留り
が飛躍的に向上したことがわかる。従来例の歩留りの低
さは、軟化温度が450℃のものは、ギャップ形成時の
ガラスのゆるみによる接着不良、軟化温度が500℃の
ものは溶着不良による溶着ガラス層のハガレが主原因で
ある。
Table 1 As is clear from Table 1, it can be seen that the head yield was dramatically improved by the present invention. The low yield of conventional examples is mainly due to poor adhesion due to loosening of the glass during gap formation for those with a softening temperature of 450°C, and peeling of the welded glass layer due to poor welding for those with a softening temperature of 500°C. .

第2図にヘッドのテープ走行くり返しによるヘッド出力
の変化を示す。本発明のヘッドはくり返し走行しても出
力の変化はないが、従来構成のヘッド(溶着ガラス層が
450’Cの軟化温度)は前述のように溶着ガラス層の
ゆるみがあり、非晶質合金膜7と基板8の間に部分的に
スキマが発生し、そのスキマにテープカスが付着するこ
とでスペーシングロスによる出力低下が起こる。テープ
カスの付着の程度が、テープのくり返し回数により変化
するのでヘッド出力の変化となる。
FIG. 2 shows changes in head output due to the tape running and reversing of the head. The head of the present invention has no change in output even if it is repeatedly run, but the head with the conventional configuration (the softening temperature of the welded glass layer is 450'C) has a loosened welded glass layer as described above, and the amorphous alloy A gap is partially generated between the film 7 and the substrate 8, and tape residue adheres to the gap, resulting in a decrease in output due to spacing loss. The degree of adhesion of tape residue changes depending on the number of times the tape is repeated, resulting in a change in head output.

本発明の実施例で非晶質合金膜の形成はスパッタリング
による方法について述べたが、スパッタに限定されるも
のではなく、蒸着法などによっても可能である。
In the embodiments of the present invention, the method of forming an amorphous alloy film by sputtering has been described, but the method is not limited to sputtering, and vapor deposition methods can also be used.

また超急冷法によるリボンアモルファスでもよい。Alternatively, a ribbon amorphous material obtained by ultra-quenching may be used.

ただしリボンアモルファスの場合は第4図に示したよう
に、本発明のポリマ一層に相当する溶着ガラス層3を磁
性材料2の両側に配した構成となる。
However, in the case of ribbon amorphous, as shown in FIG. 4, a welded glass layer 3 corresponding to a single layer of the polymer of the present invention is arranged on both sides of the magnetic material 2.

非晶質合金膜としてはCo−Fe−5i−B、Ni−3
i−B系などのSt、B、C,P等を含むメタル−メタ
ロイド系はもとより、さらに耐摩耗性が良好で高磁束密
度、高結晶化温度の立場より、メタル−メタル系である
Co−M(MはNb、Ti、Ta、Zr、W等の金属元
素)やCo −M ’−M“(M’、M“は上記Mで示
された金属元素)系の非晶質金属磁性膜の方がより好ま
しい。
Co-Fe-5i-B, Ni-3 as the amorphous alloy film
In addition to metal-metalloid systems containing St, B, C, P, etc., such as the i-B system, Co-metallic systems, which are metal-metal systems, have good wear resistance, high magnetic flux density, and high crystallization temperature. M (M is a metal element such as Nb, Ti, Ta, Zr, W, etc.) or Co-M'-M"(M',M" is the metal element shown by M above) system amorphous metal magnetic film is more preferable.

また実施例中に述べたように溶着ガラス膜13゜ボンデ
ィングガラス14のかわりに本願構成のポリマーを使用
すると、約25o℃以上の温度であれば接着可能である
ので、特に結晶化温度の低いなお本実施例では非晶質合
金膜が単層のものについて述べたが、合金膜のうず電流
損失を防ぐ目的で、合金膜と層間絶縁材料を交互に形成
した積層コアを使用すればさらに望ましい。実施例では
非晶質合金膜に限定して述べたがセンダスト合金も同様
の効果がある。しかしながらセンダスト合金は結晶質で
あるので結晶化温度の制約がない分製造がより楽になる
と言える。
Furthermore, as described in the examples, if the polymer of the present invention is used in place of the welded glass film 13 and the bonding glass 14, bonding is possible at a temperature of about 25oC or higher, so especially for those with a low crystallization temperature. In this embodiment, a single layer of amorphous alloy film has been described, but it is more desirable to use a laminated core in which alloy films and interlayer insulating materials are alternately formed in order to prevent eddy current loss in the alloy film. In the examples, the description was limited to amorphous alloy films, but sendust alloys also have similar effects. However, since Sendust alloy is crystalline, it can be said that manufacturing is easier because there is no restriction on crystallization temperature.

発明の効果 本発明によれば、磁性体の両側を、基板で挾んだ構造を
有する磁気ヘッドにおいてその接着層を、カルボシラン
骨格からなるポリカルボシラン部分がチタン化合物によ
って架橋結合された有機金属架橋重合体またはケイ素、
チタン、炭素、酸素からなる非晶質状態、あるいはこれ
ら重合体と非晶質状態の混合物質からなる物質で構成す
る事により、基板と磁性材料の接着が安定に行われ、か
つギャップ形成時の接着層のゆるみがなくなる結果、加
工時のヘッド歩留りが飛躍的に向上すると共に、テープ
走行時のテープカスの付着がなくなるので安定したヘッ
ド出力が得られる。
Effects of the Invention According to the present invention, in a magnetic head having a structure in which both sides of a magnetic material are sandwiched between substrates, the adhesive layer is made of an organometallic crosslinked material in which a polycarbosilane portion consisting of a carbosilane skeleton is crosslinked with a titanium compound. polymer or silicon,
By using a substance made of titanium, carbon, and oxygen in an amorphous state, or a mixture of these polymers and an amorphous state, adhesion between the substrate and the magnetic material is achieved stably, and when a gap is formed, As a result of no loosening of the adhesive layer, the head yield during processing is dramatically improved, and since there is no tape residue adhering during tape running, stable head output can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の磁気ヘッドの実施例の製造工程を示す
斜視図、第2図は本発明ヘッドの出力を示す特性図、第
3図は非晶質合金の温度に対する磁化を示す特性図、第
4図は従来ヘッドの構成によるテープ摺動面を示す正面
図である。 7・・・・・・非晶質合金膜、6,8・・・・・・基板
、9・・・・・・ポリマ一層。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 (E) 第2図 走行回牧(@)
FIG. 1 is a perspective view showing the manufacturing process of an embodiment of the magnetic head of the present invention, FIG. 2 is a characteristic diagram showing the output of the head of the present invention, and FIG. 3 is a characteristic diagram showing magnetization versus temperature of an amorphous alloy. , FIG. 4 is a front view showing the tape sliding surface of the conventional head configuration. 7...Amorphous alloy film, 6, 8...Substrate, 9...Polymer single layer. Name of agent: Patent attorney Toshio Nakao and 1 other person No. 1
Figure (E) Figure 2 Traveling Memories (@)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)磁気コアを形成する磁性体と支持基板との複合体
を用いて構成され、各構成要素の接合部のうちの少くと
も一部に、カルボシラン骨格からなるポリカルボシラン
部分がチタン化合物によって架橋結合された有機金属架
橋重合体、前記重合体が部分分解してなるケイ素、チタ
ン、炭素、酸素からなる非晶質状態の物質、あるいは前
記重合体と非晶質状態の物質の混合物質からなる接着層
が設けられていることを特徴とする磁気ヘッド。
(1) Constructed using a composite of a magnetic material forming a magnetic core and a supporting substrate, at least a part of the joint of each component has a polycarbosilane part consisting of a carbosilane skeleton formed by a titanium compound. From a crosslinked organometallic crosslinked polymer, an amorphous substance consisting of silicon, titanium, carbon, and oxygen obtained by partially decomposing the above polymer, or a mixture of the above polymer and an amorphous substance. A magnetic head characterized by being provided with an adhesive layer.
(2)磁性体として、非晶質合金またはセンダスト合金
を用いたことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
磁気ヘッド。
(2) The magnetic head according to claim 1, wherein an amorphous alloy or a sendust alloy is used as the magnetic material.
JP28609785A 1985-12-19 1985-12-19 Magnetic head Pending JPS62145513A (en)

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JP28609785A JPS62145513A (en) 1985-12-19 1985-12-19 Magnetic head

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012065323A1 (en) * 2010-11-16 2012-05-24 Liu Bin Composite material of amorphous metal and plastic, composite shell and preparation methods thereof

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