JPS62140415A - 電子線露光装置の標準マ−ク支持機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は電子線露光装置に係わり、特に標準マークの平
行度を精度良く規定するのに好適な標準マーク支持機構
に関する。

〔発明の背景〕

電子線露光装置において、電子ビーム偏向器の偏向歪を
補正して電子ビームの位置を較正するために用いられる
標準マークは、高精度な描画を実現するために必要不可
欠である。偏向器の偏向歪補正では、標準マークを用い
て、電子ビーム位置のＸ、Ｙ方向のズレやｘ＠Ｙ軸から
の回転によるズレを補正するため、標準マークとステー
ジのＸ軸、Ｙ軸との平行度を精度良く設定する必要があ
る。従来は、試料ステージ上に平行度の微調機構を備え
た標準マーク支持機構を設置し、標準マークの平行度調
整を行っていた。この平行度調整は煩雑な作業であり、
平行度を精度良く出すためには熟練を必要とするという
欠点を持っていた。

なお、この種の装置として関連するものには例えば特開
昭５８−１２７１０７号等が挙げられる。

〔発明の目的〕

本発明の目的は、簡便にかつ精度良く標準マークを設定
することができる標準マーク支持機構を提供することに
ある。

〔発明の概要〕

標準マークは、試料ステージのＸ軸、Ｙ軸との高い平行
度が必要である。試料ステージのＸ軸。

Ｙ軸は、試料ステージの位置計測用のレーザ干渉計によ
って定められ、レーザ干渉計の精度を決めているのが、
試料ステージ上に設けられている反射ミラーの平行度と
直交度である。したがって、反射ミラーの反射面を基準
にして、ｆ！４準マークを設定できれば、標準マークの
平行度を精度良く設定することが可能になる。そこで、
反射ミラーの反射面の反対側の面に着目すると、この面
を反射面と平行度良く加工しさえすれば、標準マークを
設定する際の基準面とすることが可能である。以上から
、標準マークの基準面をこの反射ミラー背面の基準面に
押しつけて標準マークを固定すれば、ステージの座標系
と平行度良く標準マークを設定できる。

〔発明の実施例〕

以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。試料
ステージ８上には、位置計測用の反射ミラー１　（一部
のみ図示）が設置され、レーザ光９によって位置計測さ
れる。さらに露光試料保持機構７との間に標準マーク４
が設置されている。反射ミラー１には、反射面２と平行
度良く加工された基準面ｚ３が設けられており、この面
と標準マーク４の基準面５とを一致され、試料ステージ
上に設けたネジ穴（図示せず）に対してガタを有するよ
う作られた固定穴６を通してネバ止めすれば、標準マー
ク４と反射面１とを平行度良く固定することができる。

対掌、反射面２の平担度を１０μｒａｄ程度であり、こ
れに名する基準面３の平行度を１ｍｒａｄ以下とするこ
とは容易である。以上のことより、本実施例によれば、
標準マーク４と反射面２の平行度を精度良く、かつ、簡
便に設定することができる。

〔発明の効果〕

本発明のによれば、標準マークの平行度を１ｍｒａｄの
以下の精度で、かつ、熟練を要せず簡便に設定すること
において著しい効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は、試料ステージの平面図である。 １・・・反射ミラー、２・・・反射面、３・・・基準面
、４・・・標準マーク、５・・・標準マークの基準面、
６・・・固定穴、７・・・露光試料保持機構、８・・・
試料ステージ９・・・レーザ光。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　露光試料支持機構と試料ステージの位置計測用レーザ
   干渉計の反射ミラーと電子ビーム位置較正用の標準マー
   クとを具備して成る電子線露光装置の試料ステージにお
   いて、該標準マークを設定する際に該標準マークと前記
   反射ミラーとの平行度を規定するための基準面を、前記
   反射ミラーの背面に設けたことを特徴とする電子線露光
   装置の標準マーク支持機構。