JPS6214028B2 - - Google Patents
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、真空蒸着の際、特に亜鉛を速い被覆
速度で真空蒸着する際に、移動する帯状基板、特
に金属基板の背面を保護するための装置に関す
る。一般に帯状鋼鉄は、表面が腐蝕されない様に
加工するため両面に蒸着がなされる。特別な場合
（例えば自動車車体用鉄板の場合）には蒸着を一
方の面だけ実施しその背面は何も付着していない
清潔な面であることを保証することが必要であ
る。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an apparatus for protecting the back side of a moving strip substrate, in particular a metal substrate, during vacuum deposition, in particular during vacuum deposition of zinc at high coating rates. Generally, steel strips are processed by vapor deposition on both sides to prevent surface corrosion. In special cases (for example in the case of steel plates for automobile bodies) it is necessary to perform the vapor deposition on only one side and to ensure that the back side is clean and free of any adhesion.
帯状の材料の一方の表面にのみ蒸着するため次
に述べる方法が公知になつている。即ちプラスチ
ツク箔への真空蒸着が、一般に該箔を冷却された
ローラー上を導くことにより行われている。真空
蒸着が行われている時凝縮熱と輻射熱を取り除く
上記の如き配置はそれと同時に背面に蒸着がなさ
れるのを阻止している。 The following method is known for depositing only on one surface of a strip of material. Thus, vacuum deposition on plastic foil is generally carried out by guiding the foil over cooled rollers. This arrangement, which removes condensation and radiant heat during vacuum deposition, simultaneously prevents backside deposition.
また蒸着を阻止すべき、或いは一般に構造的な
蒸着がなされるべき基板の表面の近傍に停止又は
近傍を移動する様に配置されたマスクを用いるこ
とも知られている。 It is also known to use a mask which is positioned so as to stop or move near the surface of the substrate where the deposition is to be prevented, or generally where the structural deposition is to be made.
更に移動する基板（例えばプラスチツク箔）上
の或る範囲への金属蒸気の凝縮が次の様にして阻
止されることも知られている。即ち該基板上に蒸
着される物質の逆の流れが惹起され、そのことは
一般に油を前以て蒸発させることによつて達成さ
れる。 Furthermore, it is known that condensation of metal vapors onto certain areas on a moving substrate (for example a plastic foil) can be prevented in the following manner. That is, a reverse flow of the material deposited onto the substrate is induced, which is generally achieved by preevaporating the oil.
上記した如き公知の方法は帯状鋼鉄の一方の表
面のみに蒸着を行うために使用することは不可能
でありそしてまたそのために修正を加えることも
不可能である。帯状鋼鉄に真空蒸着を行う場合に
は被覆速度が、上記の原理を応用した方法による
被覆速度の２乃至４倍程度だけ大になつている。
蒸着材料と被覆される帯状鋼鉄との間には103Pa
の数倍に達する圧力を有する比較的濃厚な蒸気の
雲が形成されている。蒸着材料から帯状鋼鉄に到
達する途上で材料粒子の強い交互作用が発生し、
かくして蒸着材料粒子はこの範囲でも、帯状鋼鉄
の向う側でも、あらゆる方向に向う速度成分を所
有することになり、そのことは背面の蒸着を惹起
する。蒸着過程の間帯状鋼鉄の背面を保護してい
るローラーの表面には、数分後に厚い蒸着層が付
着し、かくして蒸着サイクルを中止しなければな
らなくなる。同じ理由により、同様な作用を持つ
ている工業生産過程のための循環するベルトも十
分な作業時間を持つことができない。 The known methods as described above cannot be used to deposit only on one surface of the steel strip, nor can they be modified for this purpose. When performing vacuum deposition on steel strips, the coating speed is approximately two to four times higher than the coating speed using the method applying the above-mentioned principle.
10 3 Pa between the deposited material and the steel strip to be coated.
A relatively dense cloud of vapor is formed with a pressure several times that of . A strong interaction of material particles occurs on the way from the deposited material to the steel strip,
The deposited material particles thus possess velocity components in all directions in this range and on the other side of the steel strip, which causes back side deposition. The surface of the roller, which protects the back side of the steel strip during the deposition process, develops a thick deposition layer after a few minutes, thus making it necessary to stop the deposition cycle. For the same reason, circulating belts for industrial production processes with a similar effect also do not have enough working time.
本発明の目的は基板の背面に蒸着物質が付着す
るのを確実に阻止しそして長い作業時間を持つ装
置を創成することである。該装置のための経費は
比較的廉価であり保守の費用がかからないもので
なければならない。即ち本発明は、移動する帯状
基板、特に帯状鋼鉄の表面に大なる蒸着速度で蒸
着が行われる場合に、背面に蒸着物質が付着する
のを阻止する装置を創成するものであり、該装置
は、帯状物体の巾に関係なく使用可能でありそし
て帯状物体の巾の誤差、縁の位置の側方への変位
並びに帯状物体の振動に適合し得るものである。 The purpose of the present invention is to create an apparatus that reliably prevents deposition material from adhering to the back side of the substrate and has a long working time. The cost for the device should be relatively low and maintenance free. That is, the present invention creates an apparatus that prevents deposition substances from adhering to the back surface of a moving strip substrate, particularly a steel strip, when deposition is performed at a high deposition rate on the surface. , it can be used regardless of the width of the strip and can accommodate errors in the width of the strip, lateral displacements of the position of the edges as well as vibrations of the strip.
上記の目的は本発明により次の様にして達成さ
れる。即ち蒸着装置容器の範囲において基礎物体
の双方の縁に対して平行に滑り板が垂直に配置さ
れ、該滑り板はそれの全長に亘り角柱の面で支え
られていることにより達成される。この支え装置
は基板の平面内で変位可能になつており、基板の
巾が種々異なつた場合それに適合することができ
る様になつている。それと同時に該支え装置は該
装置に配置されている気密板を用いて蒸着装置の
上方の空間に蒸発物質の蒸気が侵入するのを阻止
している。支え装置又は滑り板は静的平衡位置で
帯状物体に直角に位置する如く形成されており、
従つて滑り板は帯状物体に水平方向の力をほどん
と加えることなく接触している。従つて滑り板は
帯状物体の縁が振動する時又は縁が平坦でない場
合容易に回避することが可能である。平衡位置を
超えて帯状物体の縁に追従することを可能ならし
めるためには、付加的な水平方向の力が滑り板を
帯状物体の縁に押し付けなければならない。この
ために必要な力には、蒸着系に内在する力、即ち
蒸発物質の蒸気圧力が利用される。滑り板の位置
に無関係に、上記蒸気圧によりほどんと一定の力
が帯状物体の縁に作用する。 The above objects are achieved by the present invention as follows. This is achieved by arranging a sliding plate perpendicularly and parallel to both edges of the base body in the region of the vapor deposition apparatus container, which sliding plate is supported over its entire length on a prismatic surface. This support device is displaceable in the plane of the substrate, so that it can be adapted to different widths of the substrate. At the same time, the supporting device prevents the vapor of the evaporated substance from penetrating into the space above the deposition device using a gas-tight plate arranged on the device. The supporting device or sliding plate is configured such that it lies at right angles to the strip in a static equilibrium position;
Therefore, the sliding plate contacts the strip-shaped object without applying much horizontal force. The sliding plate can therefore be easily avoided when the edge of the strip vibrates or if the edge is not flat. In order to be able to follow the edge of the strip beyond the equilibrium position, an additional horizontal force must press the sliding plate against the edge of the strip. For the force necessary for this purpose, the force inherent in the vapor deposition system, that is, the vapor pressure of the evaporated substance is utilized. Regardless of the position of the sliding plate, the steam pressure exerts a fairly constant force on the edge of the strip.
滑り板を熱に対して安定な硬い材料、特に硬質
合金で造るのが有利である。 It is advantageous for the sliding plate to be made of a heat-stable hard material, in particular a hard metal.
更に本発明の装置の部材、即ち滑り板およびそ
れの支え装置を加熱するのが合目的である。この
ためには蒸気の熱を利用して滑り板および隣接し
ている部材を400℃の温度まで加熱するのが有利
である。基板と接触している部分では滑り板の表
面が冷却され、従つてこの部分に蒸気の凝縮が惹
起される。再蒸発のための一定の厚さを超えるこ
とがない上記凝縮層は帯状鋼鉄に亜鉛を蒸着する
場合に滑剤としてすぐれた作用をすることが証明
されている。 Furthermore, it is expedient to heat the components of the device according to the invention, namely the sliding plate and its supporting device. For this purpose, it is advantageous to use the heat of the steam to heat the sliding plate and adjacent parts to a temperature of 400°C. The surface of the slide plate is cooled in the area in contact with the substrate, so that vapor condensation occurs in this area. The above-mentioned condensation layer, which does not exceed a certain thickness for reevaporation, has proven to be an excellent lubricant when depositing zinc on steel strips.
種々異なる基板の巾に無段階的に適合するため
の機構は、基板を装入した状態で蒸発装置が交換
可能な様に基板の面から離れる方向に旋回可能な
如く形成されるのが合目的である。 The mechanism for stepless adaptation to different substrate widths is expediently designed in such a way that it can be pivoted away from the plane of the substrate so that the evaporator can be replaced with the substrate loaded. It is.
滑り板の支え装置は、固定された支えが刃とし
て形成されそして滑り板には角柱が配置される。
しかし固定された支えが角柱として形成されそし
て滑り板に刃として形成された部材を配置するこ
とも可能である。完成された滑り板は、帯状物体
の縁を押す力が縁を破損したり曲げたりしない様
な強さのものに形成されていなければならない。
その際基板の周囲の蒸気圧力の影響と基板の厚さ
とを一緒に考慮しなければならない。 In the support device for the sliding plate, the fixed support is formed as a blade and a prism is arranged on the sliding plate.
However, it is also possible for the fixed support to be designed as a prismatic column and for the sliding plate to have an element designed as a blade. The completed sliding plate must be formed with such strength that the force pushing against the edge of the strip-shaped object will not damage or bend the edge.
In this case, the influence of the vapor pressure around the substrate and the thickness of the substrate must be considered together.
添附図において本発明による帯状鋼鉄に蒸着す
る装置が断面図により示されており、その際図の
右側では滑り板が角柱により支えられている本発
明の装置の右側の部分が、別の側では滑り板が刃
によつて支えられている別の実施例の左側部分が
示されている。 In the accompanying drawing, an apparatus for depositing steel strips according to the invention is shown in cross-section, with the right-hand part of the apparatus in which the sliding plate is supported by a prism on the right side of the figure, and the right-hand part of the apparatus according to the invention on the other side. The left part of another embodiment is shown, in which the sliding plate is supported by a blade.
図の右側の滑り板１は帯状基板の移動する方向
におけるそれの全長に亘り角柱２と確実に気密
（例えばグラフアイトの箔を挿入する）に結合さ
れている。 The sliding plate 1 on the right side of the figure is connected to the prism 2 over its entire length in the direction of movement of the strip substrate in a reliable and airtight manner (for example by inserting a graphite foil).
該角柱はそれの長手方向の全長に亘り刃３に載
せられ、該刃はレバー４に結合している。レバー
４を、上方に位置する公知の真空鐘貫通装置を用
いて旋回させることにより、刃３およびそれと共
に滑り板１は帯状鋼鉄５の巾に適合させられるこ
とが可能である。刃３には平面状の気密板６が可
撓的に結合しており、従つて該気密板は帯状物体
の巾に適合する際に何時も蒸発装置容器７の縁に
密着している。その際気密板６の重量により生ず
る力は、蒸発空間８の内部の蒸気圧力と気密板６
の面積から発生する反対向きの力よりも何時も大
でなければならない。刃３は衝き当て部分９を所
有し、帯状物体の縁が鋭い縁を有する如く破損し
た場合に滑り板が落下するのを阻止している。 The prism rests over its entire longitudinal length on a blade 3, which is connected to a lever 4. By pivoting the lever 4 using a known vacuum bell piercing device located above, the blade 3 and with it the sliding plate 1 can be adapted to the width of the steel strip 5. A planar gas-tight plate 6 is flexibly connected to the blade 3, so that it always lies tightly against the edge of the evaporator container 7 when adapted to the width of the strip-shaped object. At this time, the force generated by the weight of the airtight plate 6 is the vapor pressure inside the evaporation space 8 and the force generated by the weight of the airtight plate 6.
must always be greater than the opposing force generated by the area of . The blade 3 has an abutment part 9 which prevents the sliding plate from falling if the edge of the strip is broken so that it has a sharp edge.
図の左側の滑り板１は、刃３の形状に形成され
た腕１０と結合され、該腕は角柱２の中で支えら
れている。角柱１１は気密板１２と結合し、該気
密板はレバー４の回転中心距離に対応する如く彎
曲し、何時も蒸発装置容器７の縁に密着すること
が保証されている。気密板１２は気密板６よりも
薄く形成することが可能でありそして熱の作用に
より変形しない様に公知になつている補強材を上
面に取り付けることが可能である。 The sliding plate 1 on the left side of the figure is connected to an arm 10 formed in the shape of a blade 3, which arm is supported in a prism 2. The prism 11 is connected to an airtight plate 12 which is curved to correspond to the distance between the center of rotation of the lever 4 and is guaranteed to be in close contact with the edge of the evaporator container 7 at all times. The airtight plate 12 can be made thinner than the airtight plate 6 and can be fitted with a known reinforcement on its upper surface to prevent it from deforming under the influence of heat.
亜鉛およびそれに類似の高い蒸気圧を有する金
属を蒸発させるため、帯状鋼鉄５の直前に配置さ
れている蒸気出口を有する閉鎖された蒸発装置容
器７が使用される。この容器内では比較的高い圧
力（103Paの数倍に達する）の蒸気が、幾何学的
に限定された範囲の中にある蒸発装置から発生さ
せられる。滑り板１の背後の空間において凝縮が
発生しないならば、即ち滑り板部材が加熱されて
おり、蒸気の露点に到達していないならば、滑り
板１の背後でも上記の高い蒸気圧力が形成されて
いる。滑り板の支えの幾何学的配置と帯状鋼鉄５
の面の配置を適当に選択することにより、蒸気圧
力によつて得られる力が、滑り板１を軽くそして
一定の力で帯状鋼鉄の縁に押し付けるに充分なも
のになる。 For evaporating zinc and similar metals with high vapor pressure, a closed evaporator vessel 7 with a vapor outlet located directly in front of the steel strip 5 is used. In this vessel, steam at a relatively high pressure (up to several times 10 3 Pa) is generated from an evaporator located within a geometrically limited area. If condensation does not occur in the space behind the sliding plate 1, that is, if the sliding plate member is heated and the dew point of the steam has not been reached, the above-mentioned high steam pressure will also be formed behind the sliding plate 1. ing. Geometrical arrangement of sliding board supports and steel strips 5
By suitably selecting the arrangement of the surfaces, the force obtained by the steam pressure is sufficient to press the sliding plate 1 with a light and constant force against the edge of the steel strip.
添附図は帯状鋼鉄に蒸着するための装置を示す
断面図であり、一方の側の滑り板が角柱を取り付
けられた実施例を、そして他方の側の滑り板が刃
を取り付けられた実施例を示している。
図において、１…滑り板、２…角柱、３…刃、
４…レバー、６，１２…気密板、７…蒸発装置容
器、８…蒸発空間、である。
The accompanying drawing is a cross-sectional view of an apparatus for vapor deposition on steel strips, showing an embodiment in which the sliding plate on one side is fitted with a prism and an embodiment in which the sliding plate on the other side is fitted with a blade. It shows. In the figure, 1...sliding plate, 2...prismatic column, 3...blade,
4... lever, 6, 12... airtight plate, 7... evaporator container, 8... evaporation space.
Claims (1)
止するための装置において、蒸発装置容器７の範
囲において基板の双方の縁に対して平行に滑り板
１が垂直に配置され、該滑り板は帯状基板の移動
する方向におけるそれの全長に亘り角柱の面で支
えられていること、滑り板は基板の縁に圧力を加
えることなく接触していること、滑り板１の支え
装置には気密板６，１２が配置されており、該気
密板は蒸発装置容器７の縁に載つておりそして基
板の両側の蒸発空間８を閉鎖していること、滑り
板１は支え装置および気密板６，１２と共に、基
板の幅に応じて変位可能になつていること、およ
び滑り板１およびそれの支え装置は、蒸気圧力が
滑り板１を基板の縁に押し付ける様に形成されて
いることを特徴とする装置。 ２ 特許請求の範囲第１項記載の装置において、
滑り板１は角柱２に結合されており、該角柱は刃
３に支えられていることを特徴とする装置。 ３ 特許請求の範囲第１項記載の装置において、
滑り板１は角柱２に支えられている刃３に結合さ
れていることを特徴とする装置。 ４ 特許請求の範囲第１項から第３項までのうち
のいずれか一つに記載の装置において、滑り板１
は、熱に対して安定な硬い材料、特に硬質合金で
造られていることを特徴とする装置。 ５ 特許請求の範囲第１項から第４項までのうち
のいずれか一つに記載の装置において、滑り板１
およびそれの支え装置は、特に約400℃までに加
熱されていることを特徴とする装置。 ６ 特許請求の範囲第１項記載の装置において、
滑り板１とそれの支え装置は、該装置に配置され
ているレバー４を用いて、基板の幅に応じて変位
可能になつておりそしてまた蒸発装置の範囲から
旋回して遠ざかることが可能になつていることを
特徴とする装置。[Claims] 1. In an apparatus for preventing deposition substances from adhering to the back surface of a strip-shaped substrate, a sliding plate 1 is disposed perpendicularly in parallel to both edges of the substrate in the range of the evaporator container 7. that the sliding plate is supported by a prismatic surface over its entire length in the direction of movement of the strip substrate; that the sliding plate is in contact with the edge of the substrate without applying pressure; Gas-tight plates 6, 12 are arranged on the support device, which rest on the edge of the evaporator container 7 and close off the evaporation space 8 on both sides of the substrate, and the sliding plate 1 is arranged on the support device. and air-tight plates 6, 12, are displaceable according to the width of the substrate, and the sliding plate 1 and its supporting device are formed in such a way that steam pressure presses the sliding plate 1 against the edge of the substrate. A device characterized by: 2. In the device according to claim 1,
Device characterized in that the sliding plate 1 is connected to a prism 2, which is supported by a blade 3. 3. In the device according to claim 1,
A device characterized in that the sliding plate 1 is connected to a blade 3 supported on a prism 2. 4. In the device according to any one of claims 1 to 3, the sliding plate 1
is a device characterized in that it is made of a heat-stable hard material, in particular a hard alloy. 5. In the device according to any one of claims 1 to 4, the sliding plate 1
and a device characterized in that the supporting device thereof is heated to a temperature of approximately 400°C. 6. In the device according to claim 1,
The sliding plate 1 and its supporting device are made to be able to be displaced depending on the width of the substrate and also pivoted away from the range of the evaporator by means of a lever 4 arranged on the device. A device characterized by being traditional.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD23122081A DD159995B1 (en) | 1981-06-29 | 1981-06-29 | DEVICE FOR PREVENTING THE BACK SIDE TAMPERING OF BANDFOOHIGEN SUBSTRATES |
| DD23C/231220 | 1981-06-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS583974A JPS583974A (en) | 1983-01-10 |
| JPS6214028B2 true JPS6214028B2 (en) | 1987-03-31 |
Family
ID=5531920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1191982A Granted JPS583974A (en) | 1981-06-29 | 1982-01-29 | Device for preventing evaporation deposit from sticking to back side of tape-form article |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS583974A (en) |
| DD (1) | DD159995B1 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10055973B2 (en) | 2013-12-09 | 2018-08-21 | Greenwave Systems PTE Ltd. | Infrared detector |
| US10445998B2 (en) | 2016-02-24 | 2019-10-15 | Greenwave Systems Pte. Ltd. | Motion sensor for occupancy detection and intrusion detection |
| US10739190B2 (en) | 2016-02-03 | 2020-08-11 | Greenwave Systems Pte. Ltd. | Motion sensor using linear array of infrared detectors |
-
1981
- 1981-06-29 DD DD23122081A patent/DD159995B1/en not_active IP Right Cessation
-
1982
- 1982-01-29 JP JP1191982A patent/JPS583974A/en active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10055973B2 (en) | 2013-12-09 | 2018-08-21 | Greenwave Systems PTE Ltd. | Infrared detector |
| US10460594B2 (en) | 2013-12-09 | 2019-10-29 | Greenwave Systems Pte. Ltd. | Motion sensor |
| US10739190B2 (en) | 2016-02-03 | 2020-08-11 | Greenwave Systems Pte. Ltd. | Motion sensor using linear array of infrared detectors |
| US10445998B2 (en) | 2016-02-24 | 2019-10-15 | Greenwave Systems Pte. Ltd. | Motion sensor for occupancy detection and intrusion detection |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DD159995B1 (en) | 1986-08-13 |
| DD159995A1 (en) | 1983-04-20 |
| JPS583974A (en) | 1983-01-10 |
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