JPS6213831B2 - - Google Patents

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JPS6213831B2
JPS6213831B2 JP50078923A JP7892375A JPS6213831B2 JP S6213831 B2 JPS6213831 B2 JP S6213831B2 JP 50078923 A JP50078923 A JP 50078923A JP 7892375 A JP7892375 A JP 7892375A JP S6213831 B2 JPS6213831 B2 JP S6213831B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
region
junction
diffused
impurity
silicon
Prior art date
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Expired
Application number
JP50078923A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS522389A (en
Inventor
Katsuhiko Nishida
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
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Publication of JPS522389A publication Critical patent/JPS522389A/ja
Publication of JPS6213831B2 publication Critical patent/JPS6213831B2/ja
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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy

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  • Photovoltaic Devices (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、太陽電池の如く光照射により半導体
表面近傍に生成した少数キヤリアを収集して起電
力を得る半導体装置に関し、上記半導体表面に選
択的に形成せられているP+及びN+領域間に表面
に沿つて濃度勾配を有するアクセプター分布を付
与することにより、少数キヤリアの移動を加速し
上記半導体装置の効率を改良したものである。
太陽電池は、可視から近赤外までの広い波長範
囲に渡つて効率よく起動させるために、一般にシ
リコン単結晶にPN接合を形成したものが利用さ
れている。シリコンでは近赤外の光の吸収係数が
小さくなるためある程度PN接合を深く形成して
おく必要があるが、一方可視光は表面近傍で吸収
されてしまうためPN接合が深いと少数キヤリア
の表面再結合による損失が影響してわずかな起電
力しか得ることができなくなる。このような欠点
は、同一表面にPN接合を形成した横型PN接合構
造ではある程度解決できるが、この場合は少数キ
ヤリアが表面近傍で表面方向に沿つて拡散して
PN接合に達したものだけが起電力に寄与する。
そのためPN接合から遠距離にある領域で生成さ
れた少数キヤリアは、拡散の途中で表面や内部で
の再結合過程により失なわれてしまい、起電力に
寄与しなくなる。
本発明は、簡単な方法で作られる横方向(表面
に沿つた方向)不純物分布をP+、N+領域間に付
与し、少数キヤリアの移動の効率を高めることに
より、従来の太陽電池の欠点を除去した。即ち、
横方向の変位dxに対してアクセプタ濃度変化が
dNAあれば横方向に電界 E=(KT/qNA)(dNA/dx) が発生する。ここにKはボルツマン定数、Tは絶
対温度、qは電子電荷をあらわす。このような不
純物濃度勾配を有するP領域中の電子は、電界E
を受けてN+領域の方に加速されるので、拡散運
動のみの場合より効率よくキヤリアが収集され大
きい起電力を得ることができる。
次に本発明の内容を一実施例としてシリコン太
陽電池に適用した場合につき図面を用いて詳述す
る。
第1図は、本発明に基づく一実施例である太陽
電池の断面構造の一部を示したものである。N形
基板1の一表面に選択的にP+領域2とN+領域3
(リンを約1020cm-3の濃度で約1μm拡散)があ
り、その間にP領域4が形成せられている。5は
誘電体被膜で、6,7は出力を取り出すリード線
である。P領域4の表面近傍の表面に沿つた方向
の不純物分布は、第2図の如く示されている。第
2図の距離は第1図に対応しており、アクセプタ
濃度分布はP+領域で最も高くなりN+領域に近づ
くほどその濃度が減少する傾斜分布となつてお
り、電子をN+領域の方向に加速する電界が生じ
る。このため光照射したとき、素子表面の大部分
を占めるP領域で電子―正孔対が発生し、そのう
ち少数キヤリアである電子が表面に沿つてN+
域に向つて速やかに移動し、効率よく起電力を発
生する。かかる素子構造は、次のような簡単な製
法で得られる。即ち、N形基板1の一表面に公知
の選択拡散法でN+領域3を形成する。ついで前
記表面上に二酸化シリコン膜を約1000Åの厚さに
つけ、更にその上に約1500Åの厚さの窒化シリコ
ン膜を付着して誘電被膜5を形成する。この誘電
被膜2の領域に開口部を設け、この開口部を介し
てガリウムを拡散する。ガリウムを深さ約10μm
に拡散したとき横方向には約40μm拡散され、第
2図のような傾斜分布となる。ガリウムは窒化シ
リコン膜中には透過しにくいが、二酸化シリコン
膜中にはシリコン中よりもはるかに大きい拡散定
数を持つているため、開口部から入つたガリウム
は開口部から横方向に二酸化シリコン膜中を速や
かに拡散しついでシリコン中に再拡散するために
深さ方向より横方向に2倍以上長い上記のような
不純物分布となる。最後に同じ開口部からボロン
を約1020cm-3の濃度で約1μm拡散し、リード線
6.7をそれぞれN+領域とP+領域に接触させて
望みの太陽電池が得られる。
この実施例によれば、P領域の不純物濃度分布
による電場によりキヤリアはN+領域に移動す
る。この結果拡散のみによる移動では長い距離移
動できなかつた(拡散長程度)が、この発明では
電場があるためキヤリアはより長い距離移動でき
起電力に寄与するキヤリア数が数倍に増え効率の
向上が得られた。第3図に光起電力の波長依存性
を示すが、光の吸収係数の大きい短波長側で、光
起電力の改善効果が大きいことが分る。
本発明によれば、上記の通り簡単な工程で、し
かし少ない工程数で、横方向に濃度勾配を有する
不純物領域を付与したPN接合を有し効率の高い
太陽電池が得られることを示したが、本実施例以
外に本発明思想に逸脱することなく不純物の導電
形やPN接合構造を変えても有効であることはい
うまでもない。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例である太陽電池の断
面を示し、第2図はその表面近傍のアクセプタ濃
度分布を示す。第3図は光起電力の波長依存性を
示し、本発明による改善効果を示している図。1
は半導体基板、2,3,4は不純物領域、5は誘
電体被膜、6,7はリード線をそれぞれ示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 単結晶基板の同一表面上に選択的に形成せら
    れたP+及びN+領域の間に、アクセプター濃度が
    N+領域に近いほど小さくなり、かつ、接合の深
    さに傾斜を持たせた傾斜接合を有するP領域を備
    え、さらに、このP領域が単結晶基板中よりも誘
    電体膜中の方が拡散係数が大きい元素の拡散によ
    り形成されたことを特徴とする光起電力利用の半
    導体装置。
JP50078923A 1975-06-24 1975-06-24 Semiconductor device Granted JPS522389A (en)

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JP50078923A JPS522389A (en) 1975-06-24 1975-06-24 Semiconductor device

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JP50078923A JPS522389A (en) 1975-06-24 1975-06-24 Semiconductor device

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JPS522389A JPS522389A (en) 1977-01-10
JPS6213831B2 true JPS6213831B2 (ja) 1987-03-28

Family

ID=13675367

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016092238A (ja) * 2014-11-05 2016-05-23 信越化学工業株式会社 太陽電池及びその製造方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5013636A (ja) * 1973-06-11 1975-02-13

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5013636A (ja) * 1973-06-11 1975-02-13

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JPS522389A (en) 1977-01-10

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