JPS62135737A - Wavelength modulation type differential spectrometer - Google Patents

Wavelength modulation type differential spectrometer

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JPS62135737A
JPS62135737A JP27596785A JP27596785A JPS62135737A JP S62135737 A JPS62135737 A JP S62135737A JP 27596785 A JP27596785 A JP 27596785A JP 27596785 A JP27596785 A JP 27596785A JP S62135737 A JPS62135737 A JP S62135737A
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wavelength
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diffraction grating
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泉 卓佑
Masayuki Kanai
金井 誠之
Tsuneo Suzuki
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Abstract

PURPOSE:To discriminate easily a bright line spectrum of a target, and to grasp exactly its variation quantity by providing a wavelength modulating device, a diffraction grating, a wavelength scanning mechanism, a photoelectric converter, a synchronous detecting circuit, a sampling circuit. etc. CONSTITUTION:A wavelength modulating device 6 vibrates a reflected luminous flux by a plane mirror 8 attached to a vibrator 7, by a prescribed frequency by a vibrator driving circuit 21, and also measures its vibration amplitude. Subsequently, a diffraction grating 14 outputs a diffraction spectrum by dispersing the reflected luminous flux which is brought to a vibration modulation by the device 6. Also, a wavelength operating mechanism 25 varies continuously an incident angle to the grating 14 of the reflected luminous flux by turning the grating 14. On the other hand, a photoelectric converter 17 photodetects the diffraction spectrum which is outputted from the grating 14 and converts an optical modulation component contained therein, to an electric signal, and a synchronous detecting circuit 24 brings the electric signal which has been outputted from the converter 17, to a synchronous detection by a frequency of two times of an oscillation frequency of the vibrator 7, and also brings it to a DC amplification 18. Next, an output signal of the amplifier 18 is brought to sampling 19 by synchronizing it with the oscillation frequency of the vibrator 7 or the frequency of two times.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は波長変調装置を用いて光スペクトル強度測定に
おける輝線ピークの変化量を精度良く測定できるととも
に絶対量も同時に測定できる波長変調型微分分光計に関
する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is a wavelength modulation type differential spectrometer that uses a wavelength modulation device to accurately measure the amount of change in a bright line peak in optical spectrum intensity measurement, and can also measure the absolute amount at the same time. Regarding the meter.

[従来の技術] 例えば半導体のIC素子等の製造工程におけるプラズマ
エツチング、プラズマアッシング、リアクティブイオン
エツチング等において、エツチング処理が終了したこと
を検出する手段として、エツチングされる物質のプラズ
マスペクトルの変化を検出する方法がある。
[Prior Art] For example, in plasma etching, plasma ashing, reactive ion etching, etc. in the manufacturing process of semiconductor IC devices, changes in the plasma spectrum of the material being etched are used as a means of detecting the completion of the etching process. There is a way to detect it.

例えばIC素子のアルミ配線パターンをプラズマエツチ
ング処−する場合、第7図(a>に示すように、スペク
トル分光計を用いてエツチング処理中に放出されるプラ
ズマスペクトルを測定する。
For example, when an aluminum wiring pattern of an IC element is subjected to plasma etching, a spectrometer is used to measure the plasma spectrum emitted during the etching process, as shown in FIG. 7(a).

そして、測定されたスペクトル特性中における顕著な例
えば3082人の輝線スペクトル八に検出波長を固定し
て輝線スペクトルAの強度を連続測定する。そして、第
7図(b)に示すようにこの波長3082人の輝徨スペ
クトルAの強度が大きく変化した時刻をエツチング終了
時刻としてエツチング処理を停止する。
Then, the intensity of the bright line spectrum A is continuously measured by fixing the detection wavelength to, for example, the bright line spectrum 8 of 3082 people, which is prominent among the measured spectral characteristics. Then, as shown in FIG. 7(b), the etching process is stopped at the time when the intensity of the fluorescence spectrum A of 3082 wavelengths changes significantly.

しかしながら、一般にプラズマスペクトル特性には目的
物質以外の物質からの種々の波長を有するスペクトルが
含まれるので、これ等の物質による妨害スペクトルが目
標スペクl〜ルにiffしている。その結果、目標スペ
クトルの強度が正しく測定されない場合がある。これ等
の妨害スペクトルには広帯域のブロードスペクトルと線
状の輝線スペクトルが混在している。従って、エツチン
グ時とエツチング終了時とで強度に明瞭な差が生じる輝
線スペクトルを全体のスペクトル特性中から捜す必要が
ある。このような考えでもって第7図(a)のエツチン
グ時のスペクトル特性と同図(b)のエツチング終了時
のスペクトル特性とを比較すると、4000人近傍の輝
線スペクトルBが発見される。したがって、スペクトル
分光計の検出波長λをこの輝線スペクトル8の中心波長
λ0に合せて、この輝線スペクトルBの強度変化を検出
することによって、エツチング処理終了を検出できる。
However, since plasma spectral characteristics generally include spectra having various wavelengths from substances other than the target substance, interference spectra caused by these substances interfere with the target spectrum. As a result, the intensity of the target spectrum may not be measured correctly. These interference spectra include a wide band broad spectrum and a linear emission line spectrum. Therefore, it is necessary to search the entire spectral characteristic for a bright line spectrum that shows a clear difference in intensity between the time of etching and the end of etching. Based on this idea, when the spectral characteristics during etching shown in FIG. 7(a) are compared with the spectral characteristics at the end of etching shown in FIG. 7(b), an emission line spectrum B near 4000 is discovered. Therefore, by adjusting the detection wavelength λ of the spectrometer to the center wavelength λ0 of the bright line spectrum 8 and detecting the change in the intensity of the bright line spectrum B, it is possible to detect the end of the etching process.

[発明が解決しようとする問題点コ しかしながら、上記のように測定波長λをλ0に固定し
てスペクトル分光計でもって鐸線スベク]・ルBの強度
変化を連続測定することによって、プラズマエツチング
処理の終了を検出する場合においても、まだ次のような
問題がある。すなわち、波長2口のI!i線スペクトル
Bは図示するように広いバックグラウンドスペクトルに
重心している場合が多い。例えば第7図(a)において
輝線スペクトルB全体の強度をC、バックグラウンドス
ペクトルの強度をbとし、バックグラウンドスペクトル
から突出している変動分の強度をaとすると、エツチン
グ終了検出においては最終的に変動強度aの変化量を測
定する必要がある。しかし、実際のスペクトル分光計に
おいてはバックグラウンドスペクトル強度すを含んだ全
体のスペクトル強度Cが測定される。
[Problems to be Solved by the Invention] However, as mentioned above, by fixing the measurement wavelength λ to λ0 and continuously measuring the intensity change of the ray B with a spectrometer, plasma etching processing can be performed. Even when detecting the end of the process, there are still problems as follows. In other words, I! with two wavelengths! As shown in the figure, the i-line spectrum B is often centered on a wide background spectrum. For example, in FIG. 7(a), if the intensity of the entire bright line spectrum B is C, the intensity of the background spectrum is b, and the intensity of the variation that sticks out from the background spectrum is a, then in the end of etching detection, the final It is necessary to measure the amount of change in the fluctuation strength a. However, in an actual spectrum spectrometer, the entire spectral intensity C including the background spectral intensity is measured.

一般に、従来のスペクトル分光計におけるスペクトル強
度の測定精度は高々0.1%のオーダである。したがっ
て、検出すべきスペクトルのt動強度aがバックグラウ
ンドスペクトルの強gbに比較して小さい場合は、変動
強度aの変化を精度よく測定することは不可能であった
Generally, the measurement accuracy of spectral intensity in conventional spectrometers is on the order of 0.1% at most. Therefore, when the t-dynamic intensity a of the spectrum to be detected is smaller than the intensity gb of the background spectrum, it has been impossible to accurately measure changes in the variation intensity a.

前述したように、半導体IC素子のプラズマエツチング
工程においては上記変動強度aの値が第7図(b)に示
すように検出できなくなるとエツチング終了と判断する
ので、上記したように変動強度aの値が正確に測定でき
ない場合は、エツチング処理が終了していないのに変動
強度aが零になったと判断してエツチング処理を中止し
てしまう場合がある。この場合、半導体表面にエツチン
グ処理が完全に実行されていない部分が残り、IC製品
の歩留りが低下する懸念があった。
As mentioned above, in the plasma etching process of semiconductor IC devices, when the value of the fluctuation intensity a becomes undetectable as shown in FIG. 7(b), it is determined that etching has ended. If the value cannot be measured accurately, it may be determined that the fluctuation intensity a has become zero even though the etching process has not been completed, and the etching process may be stopped. In this case, there remains a portion on the semiconductor surface where the etching process has not been completely performed, and there is a concern that the yield of IC products will decrease.

本発明はこのような事情に基づいてなされたものであり
、その目的とするところは、波長変¥JA8置およびサ
ンプリング回路を用いることによって、たとえバックグ
ラウンドスペクトルの強度が大きくとも、輝線スペクト
ルにおける微少なスペクトル変化を精度よく測定できる
とともにスペクトルの絶対値も同時に測定でき、目標と
する輝線スペクトルを容易に判別しその変化量を適確に
把(屋できる波長変調型微分分光計を提供することにあ
る。
The present invention has been made based on these circumstances, and its purpose is to reduce the minute amount in the emission line spectrum even if the intensity of the background spectrum is large, by using a wavelength variable position and a sampling circuit. To provide a wavelength modulation type differential spectrometer that can accurately measure spectral changes and simultaneously measure the absolute value of the spectrum, easily distinguish the target emission line spectrum, and accurately grasp the amount of change. be.

[問題点を解決するための手段1 本発明の波長変調型微分分光計は、振動子の振動片に測
定すべき光の光束を反射させるための平面鏡を取付け、
振動子駆動回路でもって平面鏡により反射された反射光
束を所定の周波数で振動させ、さらに振動させた反射光
束の振動振幅を測定するための振幅測定手段とを有した
波長変調装置と、この波長変調装置により得られる振動
変調された反射光束を分散させて回折スペクトルを出力
させるための回折格子と、この回折格子を回動させて反
射光束の前記回折格子に対する入射角を連続変化させる
波長走査機構と、この回折格子より出力された回折スペ
クトルを受光して回折スペクトルに含まれる光変調成分
を電気信号に変換する充電変換器と、この光電変換器か
ら出力された電気信号を振動子の振動周波数の2倍の周
波数で同期検波する同期検波回路と、光電変換器から出
力された電気信号を増幅する直流増幅器と、この直流増
幅器の出力信号を振動子の振動周波数又は2倍の周波数
に同期してサンプリングするサンプリング回路とを備え
たものである。
[Means for Solving the Problems 1] The wavelength modulation type differential spectrometer of the present invention includes a plane mirror for reflecting the beam of light to be measured on the vibrating element of the vibrator,
A wavelength modulation device having an amplitude measuring means for vibrating a reflected light beam reflected by a plane mirror at a predetermined frequency using a vibrator drive circuit and measuring the vibration amplitude of the vibrated reflected light beam, and the wavelength modulation device. a diffraction grating for dispersing the vibration-modulated reflected light beam obtained by the device and outputting a diffraction spectrum; a wavelength scanning mechanism for rotating the diffraction grating to continuously change the incident angle of the reflected light beam with respect to the diffraction grating; , a charging converter that receives the diffraction spectrum output from this diffraction grating and converts the optical modulation component included in the diffraction spectrum into an electrical signal; A synchronous detection circuit that performs synchronous detection at twice the frequency, a DC amplifier that amplifies the electrical signal output from the photoelectric converter, and a synchronous detection circuit that synchronizes the output signal of this DC amplifier with the vibration frequency of the vibrator or the twice the frequency. The sampling circuit includes a sampling circuit for sampling.

[作用] このように構成された波長変調型微分分光計であれば、
測定すべき光の光束は波長変調装置にて所定の周波数F
で振動されて回折格子へ入力される。したがって、回折
格子への入射角θが中心入射角θ0を中心に周波数Fで
振動するので、この回折格子の出カスベクトルを受光す
る光電変換器にて得られる電気信号は前記中心入射角θ
0で測定中心波長λ0対して周波数Fで波長がλ0±Δ
λで振動する振動スペクトル信号となる。
[Function] If the wavelength modulation type differential spectrometer is configured in this way,
The luminous flux of the light to be measured is adjusted to a predetermined frequency F by a wavelength modulation device.
is vibrated and input to the diffraction grating. Therefore, since the incident angle θ to the diffraction grating oscillates at the frequency F around the central incident angle θ0, the electrical signal obtained by the photoelectric converter that receives the output dregs vector of this diffraction grating is
0 and the measurement center wavelength λ0, and the wavelength at frequency F is λ0±Δ
It becomes a vibration spectrum signal that vibrates at λ.

この振動スペクトル信号をバイパスフィルタを介して周
波数2Fで同期検波すると、測定中心波長2口における
スペクトルの変動分が(qられる。
When this vibration spectrum signal is synchronously detected at a frequency of 2F via a bypass filter, the variation of the spectrum at two measurement center wavelengths is (q).

また、光電変換器の出力電気信号を直流増幅器を介して
周波数2Fでサンプリングすると、中心周波数λaにお
けるスペクトルの直流成分が得られる。さらに、波長走
査機構を駆動すると、振動された光束の回折格子に対す
る中心入射角θDが変化するので、測定中心波長λGが
変化する。
Furthermore, when the output electrical signal of the photoelectric converter is sampled at a frequency of 2F via a DC amplifier, a DC component of the spectrum at the center frequency λa is obtained. Further, when the wavelength scanning mechanism is driven, the central incident angle θD of the vibrated light beam with respect to the diffraction grating changes, so the measurement central wavelength λG changes.

[実施例] 以下本発明の一実施例を図面を用いて説明する。[Example] An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は実施例の波長変調型微分分光計の概略構成を示
す模式図である。図中1は半導体IC素子等におけるエ
ツチング処理部等のプラズマ発生源であり、このプラズ
マ発生源1から放射された被、111定光の光束2はケ
ース3の入射窓に嵌込まれたコンデンサレンズ4にて入
口スリット5を介して波長変調vL置6を構成する振動
子7の一対の振動片の一方に取付けられた第1の平面鏡
8に集光される。
FIG. 1 is a schematic diagram showing a schematic configuration of a wavelength modulation type differential spectrometer according to an embodiment. In the figure, reference numeral 1 indicates a plasma generation source such as an etching processing section in a semiconductor IC device, etc., and a constant light beam 2 of 111 emitted from this plasma generation source 1 is transmitted to a condenser lens 4 fitted in an entrance window of a case 3. The light is focused through the entrance slit 5 on a first plane mirror 8 attached to one of the pair of vibrating pieces of the vibrator 7 that constitutes the wavelength modulation vL arrangement 6 .

この振動子7は例えば第2図に示すように構成されてい
る。すなわち、U字形音叉9の内部に電[fiミコイル
1が配置されており、この電磁コイル10の軸心にコア
11が挿入されている。そして、U字形音叉9の一対の
自由端、すなわち一対の振動片にそれぞれ前記第1の平
面鏡8および第2の一定周波数Fおよび電磁コイル10
に流れる励磁電流1lIIIで定まる振幅Wで振動する
This vibrator 7 is configured as shown in FIG. 2, for example. That is, an electromagnetic coil 1 is disposed inside the U-shaped tuning fork 9, and a core 11 is inserted into the axis of the electromagnetic coil 10. Then, the first plane mirror 8, the second constant frequency F and the electromagnetic coil 10 are attached to a pair of free ends of the U-shaped tuning fork 9, that is, a pair of vibrating pieces, respectively.
It vibrates with an amplitude W determined by the excitation current 1lIII flowing through the oscillator.

振動子7の第1の平面鏡8にて反射された光束2はコリ
メータ13へ入射される。前述したように振動子7は一
定周波数F、一定振幅Wで振動しているので、第1の平
面鏡8にて反射された光束2は一定周波数Fおよび一定
振幅Wで振動する匠動光になる。コリメータ13にて反
射された摂動光は固定部に対して回動自在に取付けられ
たブレーズ型の回折格子14へ入射される。この回折格
子14にて、格子寸法、入射角θ等にて定まる波長λの
スペクトルが分光されてコレクタ15へ入射される。こ
のコレクタ15にて反射されたtG IJスペクトルが
結像する位置に出口スリット16が配設されており、こ
の出口スリット16の裏面に隣接して、前記コレクタ1
5て反射され出口スリット16上に結像した振動スペク
トルを受光する光電変換器17が設けられている。この
光電変換器17から出力された直流成分および交流成分
を含んだ電気信号fは、直流増幅器18で増幅された後
、サンプリング回路19へ入力される。このサンプリン
グ回路1つは入力した増幅後の電気信号fをタイミング
回路20から出力される周波数2Fのサンプリングパル
スQでもってサンプリングする。なお、タイミング回路
20には前記波艮変調装四6の振動子7を駆動する振動
子駆動回路21から出力された振動子7の振動周波数F
の2倍の周波数2Fを有する同期信号りが入力されてお
り、タイミング回路20は同期信号りの出力タイミング
を調整してサンプリングパルスQとしてサンプリング回
路19へ送出する。サンプリング回路19にて周波数2
Fでサンプリングされた電気信号fのサンプリングデー
タは測定スペクトルの直流成分強度eとしてマイクロプ
ロセッサ等で構成された制御[1演算回路22へ入力さ
れる。
The light beam 2 reflected by the first plane mirror 8 of the vibrator 7 is incident on the collimator 13. As mentioned above, since the vibrator 7 vibrates at a constant frequency F and a constant amplitude W, the light beam 2 reflected by the first plane mirror 8 becomes a moving light that vibrates at a constant frequency F and a constant amplitude W. . The perturbed light reflected by the collimator 13 is incident on a blazed diffraction grating 14 rotatably attached to a fixed part. The diffraction grating 14 separates a spectrum of wavelength λ determined by the grating dimensions, the incident angle θ, etc., and enters the collector 15 . An exit slit 16 is arranged at a position where the tG IJ spectrum reflected by the collector 15 forms an image.
A photoelectric converter 17 is provided for receiving the vibration spectrum reflected by the light source 5 and imaged onto the exit slit 16. The electrical signal f containing a DC component and an AC component output from the photoelectric converter 17 is amplified by a DC amplifier 18 and then input to a sampling circuit 19 . This one sampling circuit samples the input amplified electrical signal f using a sampling pulse Q of a frequency of 2F output from the timing circuit 20. Note that the timing circuit 20 receives the vibration frequency F of the vibrator 7 output from the vibrator drive circuit 21 that drives the vibrator 7 of the wave modulation device 46.
The timing circuit 20 adjusts the output timing of the synchronization signal and sends it as a sampling pulse Q to the sampling circuit 19. Frequency 2 in sampling circuit 19
The sampling data of the electrical signal f sampled at F is input as the DC component intensity e of the measurement spectrum to the control [1 calculation circuit 22, which is comprised of a microprocessor or the like.

また、光電変換器17から出力された電気信号fはコン
デンサ23からなるバイパスフィルタでもって直流成分
が除去された後、同期検波回路24へ入力される。電気
信号fの交流成分は、この同期検波回路24でもって振
動子駆動回路21から送出された同期信号りの周波数2
Fで同期検波されて、測定スペクトルの変動強度aとし
てυ]御演算回銘22へ入力される。
Further, the electric signal f output from the photoelectric converter 17 is inputted to the synchronous detection circuit 24 after a DC component is removed by a bypass filter consisting of a capacitor 23 . The alternating current component of the electrical signal f is determined by the frequency 2 of the synchronous signal sent from the vibrator drive circuit 21 using the synchronous detection circuit 24.
It is synchronously detected at F and inputted to the control calculation input 22 as the fluctuation intensity a of the measured spectrum.

また、図中25は回折格子14を回動させてコリメータ
13からこの回折格子14へ入射される振動光の中心入
射角θ0を連続変化させる波長走査機構であり、この波
長走査機構25において、ケース3に刻設されたネジ穴
に螺合するネジ捧25aの一端に取付けられた駆動モー
タ25bを制御演算回路22にて制御されるモータ駆動
回路25cでもって回転させると、ネジ捧25aが回転
し、ネジ捧25aの他端近傍に取付けられた係止部材2
5dの水平位置が移動する。係止部材25dの水平位置
が移動すると、回動軸25eにて固定部に対して回動自
在に取付けられた回折格子14の回動アーム25fが移
動して、回折格子14が回動する。その結果、上記振動
光の中心入射角θ0が変化する。中心入射角θ0が変化
すると、この回折格子14から出力されコレクタ15へ
入射する振動回折スペクトルの中心波長λqの値が変化
する。
In addition, 25 in the figure is a wavelength scanning mechanism that rotates the diffraction grating 14 to continuously change the central incident angle θ0 of the oscillating light incident on the diffraction grating 14 from the collimator 13. When the motor drive circuit 25c controlled by the control calculation circuit 22 rotates the drive motor 25b attached to one end of the screw stud 25a which is screwed into the screw hole formed in the screw hole 3, the screw rod 25a rotates. , a locking member 2 attached near the other end of the screw foot 25a
The horizontal position of 5d moves. When the horizontal position of the locking member 25d moves, the rotation arm 25f of the diffraction grating 14, which is rotatably attached to the fixed part by the rotation shaft 25e, moves, and the diffraction grating 14 rotates. As a result, the central incident angle θ0 of the oscillating light changes. When the central incidence angle θ0 changes, the value of the central wavelength λq of the vibrational diffraction spectrum output from the diffraction grating 14 and incident on the collector 15 changes.

なお、前記回折格子14の回転角度は回転角度検出器2
6にて検出され、制御演算回路22へ入力される。
Note that the rotation angle of the diffraction grating 14 is determined by the rotation angle detector 2.
6 and input to the control calculation circuit 22.

面記波長変調装fffi6においては、図示するように
振動子7の第2の平面鏡12にコンデンサレンズ27を
介してLED等の発光素子で構成された発光装置28か
ら出力される検出光29が入射される。そして、この第
2の平面鏡12で反射された検出光29は一定周波数F
の振動光となり、この検出光29の振動振幅を測定する
ポジションセンサ等で構成された振幅測定器30へ入力
される。
In the surface wavelength modulation device fffi6, as shown in the figure, detection light 29 outputted from a light emitting device 28 composed of a light emitting element such as an LED is incident on the second plane mirror 12 of the vibrator 7 via a condenser lens 27. be done. The detection light 29 reflected by this second plane mirror 12 has a constant frequency F
The vibration amplitude of this detection light 29 is inputted to an amplitude measuring device 30 including a position sensor and the like, which measures the vibration amplitude of the detection light 29.

この振幅測定器30にて測定された検出光29の振動撮
幅信号は、振動子7のU字形音叉9の内側に組込まれた
電Effコイル10へ励磁電流Iを送出する1厄動子駆
動回路21へ入りされる。
The vibration width signal of the detection light 29 measured by the amplitude measuring device 30 is used to drive a single element that sends an excitation current I to an electric Eff coil 10 incorporated inside the U-shaped tuning fork 9 of the vibrator 7. The signal is input to the circuit 21.

振動子駆動回路21には、前記制御演算回路22から送
出された振幅設定信号iが入力されている。そして、賑
幅′JA11定器30から入力された1肢幅振動信号か
ら換口された振動子7の測定撮幅が、設定信号iに対応
する設定振幅〜Vになるように振動子7の電磁コイル1
0に供給する駆!Il電流1の値をもり御する。したが
って、振動子7の振動振幅は常に制御演算回路22から
送出された設定信号1に対応する振幅値Wとなる。また
、この振動子駆動回路21は同期検波回路24およびタ
イミング回路20へ振動子70振動因波数の2倍の周波
数2Fを有する同期信号りを送出する。
The amplitude setting signal i sent from the control calculation circuit 22 is input to the vibrator drive circuit 21 . Then, the transducer 7 is adjusted so that the measured imaging width of the transducer 7 obtained from the one-limb width vibration signal input from the vibration width 'JA11 regulator 30 becomes the setting amplitude ~V corresponding to the setting signal i. Electromagnetic coil 1
Kakeru to supply to 0! Controls the value of Il current 1. Therefore, the vibration amplitude of the vibrator 7 always becomes the amplitude value W corresponding to the setting signal 1 sent from the control calculation circuit 22. Further, the vibrator drive circuit 21 sends a synchronization signal having a frequency 2F, which is twice the vibration factor number of the vibrator 70, to the synchronous detection circuit 24 and the timing circuit 20.

このように構成された波長変調型微分分光計の動作原理
を第3図(a>(b)を用いて説明する。
The operating principle of the wavelength modulation differential spectrometer constructed in this way will be explained using FIG. 3 (a>(b)).

すなわち、測定すべき輝線スペクトルBの中心波長2口
を中心としてこの周辺(λ0±△λ)で波長λを変調し
ながらスペクトル強度を測定する。
That is, the spectral intensity is measured while modulating the wavelength λ around two central wavelengths (λ0±Δλ) of the bright line spectrum B to be measured.

このとき測定されるスペクトル強度波形は同図(b)に
示すように直流成分e【こ振幅dの交流成分(リップル
成分)が重心した波形りとなる。この波形りの交流成分
の周波数は波長変調周波数Fの2倍の周波数2Fとなる
。したがって、この波形りを周波数2Fで、波長変調に
同期さゼて検波すれば元のスペクトル強度が得られる。
The spectral intensity waveform measured at this time is a waveform in which the AC component (ripple component) with the DC component e and the amplitude d is centered, as shown in FIG. The frequency of the alternating current component of this waveform is 2F, which is twice the wavelength modulation frequency F. Therefore, if this waveform is detected at a frequency of 2F in synchronization with the wavelength modulation, the original spectral intensity can be obtained.

実際には測定輝線スペクトルBは同図(a)に示すよう
に強度すの広帯域のバックグラウンドスペクトルが重責
されているので、同図(b)に示す直流成分eをバイパ
スフィルタで除去した後、同期検波すれば、輝線スペク
トルBの変化分の変動強[aに対応する強度が得られる
In reality, the measured emission line spectrum B is heavily influenced by the broadband background spectrum of the intensity as shown in (a) of the same figure, so after removing the DC component e shown in (b) of the same figure with a bypass filter, If synchronous detection is performed, the intensity corresponding to the variation intensity [a] of the change in the bright line spectrum B can be obtained.

また、振幅dの交流成分が重畳したままの波形りを周波
a2Fでサンプリングすると、元のスペクトル強度Cを
取出すことが可能である。第3図(b)の31.82.
33・・・・・・のタイミングで波形りをサンプリング
、すなわちfl、f2.f3・・・・・・をサンプリン
グすれば波長2口における元のスペクトル強度Cが得ら
れる。なお、サンプリング周波数2Fは振動子7の振動
周波数Fの2倍の周波数であり、振動子7の振動周波数
Fは2 K ’th稈度の値である。この値は波長走査
機構25による波長走査速度に比較して十分高い値であ
るので、サンプリング回路1つから出力されるサンプリ
ングデータはほぼ連続値とみなすことが可能である。
Furthermore, if the waveform in which the AC component of amplitude d remains superimposed is sampled at frequency a2F, it is possible to extract the original spectral intensity C. 31.82 in Figure 3(b).
33. The waveform is sampled at the timing of fl, f2. By sampling f3..., the original spectral intensity C at two wavelengths can be obtained. Note that the sampling frequency 2F is twice the vibration frequency F of the vibrator 7, and the vibration frequency F of the vibrator 7 is a value of 2 K'th culmness. Since this value is sufficiently high compared to the wavelength scanning speed by the wavelength scanning mechanism 25, the sampling data output from one sampling circuit can be regarded as a substantially continuous value.

したがって、第1図の実施例の波長変調型微分分光計に
おいては、館述したように、振動子7が一定周波数F、
一定振幅Wで振動しているので、回折格子14へ入射さ
れる振動光の入射角θも中心入射角0口を中心として一
定の角度筒器(θ8±Δθ)で振動する。その結果、出
口スリット16上には波長2口±Δλの振動スペクトル
が結像する。したがって、光電変換器7の受光面の入力
光は第3図(b)の波形りに示すように、直流成分eに
交流成分dが重畳した波形となる。
Therefore, in the wavelength modulation differential spectrometer of the embodiment shown in FIG. 1, the oscillator 7 has a constant frequency F,
Since it vibrates with a constant amplitude W, the incident angle θ of the oscillating light incident on the diffraction grating 14 also vibrates at a constant angle (θ8±Δθ) around the central incident angle 0. As a result, a vibration spectrum of two wavelengths ±Δλ is imaged on the exit slit 16. Therefore, the input light to the light receiving surface of the photoelectric converter 7 has a waveform in which an alternating current component d is superimposed on a direct current component e, as shown in the waveform of FIG. 3(b).

この波形りは光電変換器17にて電気信号fに変換され
る。したがって、コンデンサ23で直流成分eが除去さ
れ、同期検波回路24にて周波数2fの同期信号りによ
って同期検波された信号は、第3図(a)の輝線スペク
トルBの変動強度aに対応する直流信号となる。
This waveform is converted into an electrical signal f by a photoelectric converter 17. Therefore, the DC component e is removed by the capacitor 23, and the signal synchronously detected by the synchronous signal of frequency 2f by the synchronous detection circuit 24 is a DC component corresponding to the fluctuation intensity a of the bright line spectrum B in FIG. 3(a). It becomes a signal.

また、サンプリング回路1つにて周波v12Fのサンプ
リングパルスg(サンプリングポイントSl、82 、
S3・・・・・・)にてサンプリングされたデータ値は
同図(b)の直流成分子1 、 f2 。
In addition, in one sampling circuit, a sampling pulse g of frequency v12F (sampling point Sl, 82,
The data values sampled in S3...) are DC component elements 1 and f2 in FIG.

f3・・・・・・に対応した値となる。The value corresponds to f3...

したがって、制御演算回路22には輝線スペクトルBの
変動強度aと直流成分に対応する強度Cが入力される。
Therefore, the control calculation circuit 22 receives the fluctuation intensity a of the bright line spectrum B and the intensity C corresponding to the DC component.

次に、波長走査機構25のモータ駆研回路25Cにて駆
動モータ25bを一定速度で回転させると、第4図に示
すように回折スペクトルの中心波長λGが時間tととも
に順次ずれていく。その結果、第3図(b)の波形りに
含まれる波長(λG±Δλ)も順次ずれていく。したが
って、周波数2Fのサンプリングパルスqでこの波形り
をサンプリングすると、サンプリングされたデータに対
応する波長λが時間tとともに、λ1゜λ2.λ3.・
・・、λ、n8・・・へと順次変化していく。
Next, when the drive motor 25b is rotated at a constant speed by the motor drive circuit 25C of the wavelength scanning mechanism 25, the center wavelength λG of the diffraction spectrum gradually shifts with time t, as shown in FIG. As a result, the wavelengths (λG±Δλ) included in the waveform of FIG. 3(b) also shift sequentially. Therefore, when this waveform is sampled with a sampling pulse q having a frequency of 2F, the wavelength λ corresponding to the sampled data changes as time t changes from λ1° to λ2. λ3.・
..., λ, n8, and so on.

そして、このデータは順次制御演算回路22へ入力され
る。また、制御演算回路22には回転角度検出器26か
ら回折格子14の回動角、すなわち、中心波長λ0の情
報が入力されている。したがって、この制御演算回路2
2には各波長λに対応するスペクトルの直流強度Cが入
力されることになる。
This data is then sequentially input to the control calculation circuit 22. Further, information on the rotation angle of the diffraction grating 14, that is, the center wavelength λ0, is inputted to the control calculation circuit 22 from the rotation angle detector 26. Therefore, this control calculation circuit 2
2, the DC intensity C of the spectrum corresponding to each wavelength λ is input.

また、波形りの中心波長2口が順次変化すると、同期検
波回路24から出力される変動強度aの波長λも順次変
化する。
Further, when the two center wavelengths of the waveform sequentially change, the wavelength λ of the fluctuation intensity a output from the synchronous detection circuit 24 also changes sequentially.

その結果、制御演算回路22には各波長λに対する直流
強度Cと変動強度aとの二つのデータが同時に入力され
ることになる。
As a result, two data, the DC intensity C and the fluctuation intensity a for each wavelength λ, are input to the control calculation circuit 22 at the same time.

第5図は、半導体ウェーハ上に5i021Jをリアクテ
ィブイオンエツチングしている場合の実測例である。こ
のように、波長λに対して直流強度Cに対応する直流特
性Eと変動強度aに対応する変動特性Fとを同時に得る
ことが可能である。この図からも明らかなように、変動
特性Fは直流特性Eを2次微分した特性になっている。
FIG. 5 shows an example of actual measurement when reactive ion etching of 5i021J was performed on a semiconductor wafer. In this way, it is possible to simultaneously obtain the DC characteristic E corresponding to the DC intensity C and the fluctuation characteristic F corresponding to the fluctuation intensity a with respect to the wavelength λ. As is clear from this figure, the fluctuation characteristic F is a characteristic obtained by second-order differentiation of the DC characteristic E.

このように変動特性Fにおいては、第3図の直流成分e
を除去して交流成分dのみを分離して検出することが可
能であるので、輝線スペクトル已におけるバックグラウ
ンドスペクトルの強gbを除去して変動強度aのみ精度
よく測定できる。したがって、従来スペクトル分光計の
ように3111定する波長の値をλ0に固定してスペク
トル強度Cを直接測定する場合に比較して、測定精度を
格段に向上することが可能である。
In this way, in the fluctuation characteristic F, the DC component e in FIG.
Since it is possible to separate and detect only the AC component d by removing the AC component d, it is possible to remove the intensity gb of the background spectrum from the bright line spectrum and measure only the fluctuation intensity a with high accuracy. Therefore, it is possible to significantly improve the measurement accuracy compared to the case where the spectral intensity C is directly measured by fixing the wavelength value 3111 to λ0 as in the case of a conventional spectrum spectrometer.

例えば、同図において、波長λ=4510人およびλ=
4820人に存在する輝線スペクトルG。
For example, in the same figure, the wavelength λ=4510 people and λ=
Emission line spectrum G that exists in 4820 people.

Hがエツチング終了時にほとんど無くなることから、同
波長におけるlii線スペクトルの変動特性F値を監視
することによって、エツチング終了時刻を確実に検出で
きる。
Since H almost disappears at the end of etching, the end time of etching can be reliably detected by monitoring the fluctuation characteristic F value of the Lii line spectrum at the same wavelength.

また、変動特性Fの催に直流特性Eも同時に求められる
ので、全体の分光スペクトル特性を観測しながら目1票
とするlfi線スペクトルBの値を観測できるので、1
1iI!スペクトルBの変動情報をより確実に把1程で
きる。
In addition, since the DC characteristic E can be obtained at the same time as the fluctuation characteristic F, the value of the lfi line spectrum B can be observed while observing the overall spectral characteristic.
1iI! Fluctuation information of spectrum B can be grasped more reliably.

なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
い。実施例においては、振動子7としてU字形音叉9を
用いたが圧電型アクチュエータを用いても同様に一定周
波数、一定i幅の振動光を得ることが可能である。
Note that the present invention is not limited to the embodiments described above. In the embodiment, a U-shaped tuning fork 9 is used as the vibrator 7, but it is also possible to obtain vibrating light with a constant frequency and a constant i width by using a piezoelectric actuator.

さらに、実施例においては、タイミング回路20からサ
ンプリング回路19へのサンプリングパルス0の出力タ
イミングを第4図に示したように波形りの変動部分が一
点鎖線で示される中心位置を横切る瞬間に設定したが、
第6図に示すように波形りの変動部分が最大値および最
少直に達した瞬間に設定してもよい。このように設定す
れば、サンプリングされるデータに対応する波長は波形
りの折返し点の波長B1,82 、B3・・・になる。
Furthermore, in the embodiment, the output timing of sampling pulse 0 from the timing circuit 20 to the sampling circuit 19 is set at the moment when the fluctuating portion of the waveform crosses the center position shown by the dashed line, as shown in FIG. but,
As shown in FIG. 6, it may be set at the moment when the fluctuating portion of the waveform reaches its maximum value and minimum value. With this setting, the wavelengths corresponding to the sampled data become the wavelengths B1, 82, B3, . . . at the turning points of the waveform.

波形りの折返し点におけるデータの変化fi(dλ/d
t)が小さいので、サンプリングのゲート時間を広く設
定することが可能であるので、サンプリングされた各デ
ータの測定粘度を向上させることが可能である。
Change in data at the turning point of the waveform fi(dλ/d
Since t) is small, it is possible to set the sampling gate time widely, and therefore it is possible to improve the measured viscosity of each sampled data.

なお、この場合サンプリング時の波長が中心波長λ0か
ら±Δλだけずれることになるが、その時のΔλは振動
子7の振幅Wから算出できるので、制御演算回路22に
て上記波長の補正を実施すればよい。
In this case, the wavelength at the time of sampling will deviate from the center wavelength λ0 by ±Δλ, but since Δλ at that time can be calculated from the amplitude W of the vibrator 7, the control calculation circuit 22 should correct the wavelength. Bye.

[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、例えバックグラウ
ンドスペクトルの強度が大きくとも、輝線スペクトル等
の微少なスペクトル変化を開度よく測定できるとともに
スペクトルの絶対値も同時に測定でき、目標とする輝線
スペクトルを容易に判別しその変化量を的確に把握でき
る。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention, even if the intensity of the background spectrum is large, minute spectral changes such as bright line spectra can be measured with good accuracy, and the absolute value of the spectrum can also be measured at the same time. The target emission line spectrum can be easily identified and the amount of change can be accurately grasped.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例に係わる波長変調型微分分光
計の概略構成を示す模式図、第2図は同実施例の振動子
を示す斜視図、第3図および第4図は同実施例の動作を
説明するための図、第5図は実測値を示す図、第6因は
本発明の他の実施例の波長変調型微分分光計の動作を説
明するための図、第7図はプラズマスペクトルを示す図
である。 1・・・プラズマ発生源、2・・・光束、3・・・ケー
ス、5・・・入口スリット、6・・・波長変調装置、7
・・・振動子、8・・・第1の平面鏡、9・・・U字形
音叉、10・・・rX SRコイル、12・・・第2の
平面鏡、13・・・コリメータ、14・・・回折格子、
15・・・コレクタ、16・・・出ロスリッ1−117
・・・光電変換器、18・・・直流増幅器、19・・・
サンプリング回路、20・・・タイミング回路、21・
・・蚤仙子駆動回路、22・・・制御演算回路、23・
・・コンデンサ、24・・・同期検波回路、25・・・
波長走査機構、26・・・回転角度検出器、28・・・
発光装置、2つ・・・検出光、30・・・振幅澗定器。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図 (a)      (b) 第3図 第4図 第6図 (a) (b) 第7図
FIG. 1 is a schematic diagram showing the general configuration of a wavelength modulation differential spectrometer according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing a vibrator of the same embodiment, and FIGS. 3 and 4 are the same. A diagram for explaining the operation of the embodiment, FIG. 5 is a diagram showing actual measured values, a sixth factor is a diagram for explaining the operation of the wavelength modulation differential spectrometer according to another embodiment of the present invention, and FIG. The figure shows a plasma spectrum. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Plasma generation source, 2... Luminous flux, 3... Case, 5... Entrance slit, 6... Wavelength modulation device, 7
... Vibrator, 8... First plane mirror, 9... U-shaped tuning fork, 10... rX SR coil, 12... Second plane mirror, 13... Collimator, 14... Diffraction grating,
15...Collector, 16...Output loss slip 1-117
...Photoelectric converter, 18...DC amplifier, 19...
Sampling circuit, 20... Timing circuit, 21.
...Flea Senko drive circuit, 22...Control calculation circuit, 23.
...Capacitor, 24...Synchronous detection circuit, 25...
Wavelength scanning mechanism, 26... Rotation angle detector, 28...
Light emitting device, 2...detection light, 30...amplitude meter. Applicant's representative Patent attorney Takehiko Suzue Figure 2 (a) (b) Figure 3 Figure 4 Figure 6 (a) (b) Figure 7

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)振動子と、測定すべき光の光束を反射させるため
の前記振動子の振動片に取付けられた平面鏡と、該平面
鏡により反射された反射光束を所定の周波数で振動させ
るための振動子駆動回路と、前記所定の周波数で振動さ
せた前記反射光束の振動振幅を測定するための振幅測定
手段とを有した波長変調装置と; 該波長変調装置により得れる変調された反射光束を分散
させて回折スペクトルを出力させるための回折格子と; 該回折格子を回動させて前記反射光束の前記回折格子に
対する入射角を連続変化させる波長走査機構と; 前記回折格子より出力された回折スペクトルを受光して
前記回折スペクトルに含まれる光変調成分を電気信号に
変換する光電変換器と; 該光電変換器から出力された前記電気信号を前記振動子
の振動周波数の2倍の周波数で周期検波する同期検波回
路と; 前記光電変換器から出力された前記電気信号を増幅する
直流増幅器と; 該直流増幅器の出力信号を前記振動子の振動周波数又は
2倍の周波数に同期してサンプリングするサンプリング
回路とを備えたことを特徴とする波長変調型微分分光計
(1) A vibrator, a plane mirror attached to the vibrating piece of the vibrator for reflecting the beam of light to be measured, and a vibrator for vibrating the reflected beam reflected by the plane mirror at a predetermined frequency. a wavelength modulation device comprising a drive circuit and an amplitude measuring means for measuring the vibration amplitude of the reflected light beam vibrated at the predetermined frequency; a diffraction grating for outputting a diffraction spectrum; a wavelength scanning mechanism for rotating the diffraction grating to continuously change the incident angle of the reflected light beam with respect to the diffraction grating; a photoelectric converter that converts an optical modulation component included in the diffraction spectrum into an electrical signal; and a synchronization device that periodically detects the electrical signal output from the photoelectric converter at a frequency twice the vibration frequency of the vibrator. a detection circuit; a DC amplifier that amplifies the electrical signal output from the photoelectric converter; and a sampling circuit that samples the output signal of the DC amplifier in synchronization with the vibration frequency of the vibrator or twice the frequency. A wavelength modulation differential spectrometer characterized by:
(2)前記振動子はU字形音叉を用いて構成されたこと
を特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載の波長変調
型微分分光計。
(2) The wavelength modulation type differential spectrometer according to claim (1), wherein the vibrator is constructed using a U-shaped tuning fork.
(3)前記振動子は圧電型アクチュエータを用いて構成
されたことを特徴とする特許請求の範囲第(1)項記載
の波長変調型微分分光計。
(3) The wavelength modulation type differential spectrometer according to claim (1), wherein the vibrator is constructed using a piezoelectric actuator.
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