JPS62132152A - 反射率測定方法 - Google Patents
反射率測定方法Info
- Publication number
- JPS62132152A JPS62132152A JP60271503A JP27150385A JPS62132152A JP S62132152 A JPS62132152 A JP S62132152A JP 60271503 A JP60271503 A JP 60271503A JP 27150385 A JP27150385 A JP 27150385A JP S62132152 A JPS62132152 A JP S62132152A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- reflectance
- absolute
- reflectance measuring
- mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
- G01N21/274—Calibration, base line adjustment, drift correction
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/06—Illumination; Optics
- G01N2201/065—Integrating spheres
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は反射＊ ｎｔｑ定装研装置り、特に物質の絶対
反射率を測定するときに絶対反射率ｔ１す足機構と相対
反射率測定機構とを組合せて絶対反射率を測定するのに
好適な反射率測定装置に関するものである。
反射率を測定するときに絶対反射率ｔ１す足機構と相対
反射率測定機構とを組合せて絶対反射率を測定するのに
好適な反射率測定装置に関するものである。
従来、１０ｃｍＸ１０ｍ以上の試料の反射率を相対反射
率のみで管理していたため、基準試料が経年変化で反射
率が変化すると、相対反射率が変化するので、管理指標
が変化していた。また、測定装置を変えると、反射率の
値が異なってくるなどのクレームが多かった。
率のみで管理していたため、基準試料が経年変化で反射
率が変化すると、相対反射率が変化するので、管理指標
が変化していた。また、測定装置を変えると、反射率の
値が異なってくるなどのクレームが多かった。
また、試料の絶対反射率を測定するとき分光器と積分球
を組み合せて測定していたが、従来の積分球の試料ホル
ダは、第１０図、第１１図に示すように、積分球７の出
方口部をばね７ｏで押える方式がとられていたため、試
料１４の測定位置が不正確であり、試料１４が大きくな
り、中心より離れた位置を測定するときは、ばね７ｏの
押えだけでは固定できながった。また、直接試料１４を
試料ホールダ１７に接触させていたため、試料１４が傷
つきやすく、測定後は不良品として廃棄せねばならない
などの欠点があった。なお、第１０図、第１１図におい
て、８は白板、９は検知器、１６は１０°スペーサ、２
２はベースである。
を組み合せて測定していたが、従来の積分球の試料ホル
ダは、第１０図、第１１図に示すように、積分球７の出
方口部をばね７ｏで押える方式がとられていたため、試
料１４の測定位置が不正確であり、試料１４が大きくな
り、中心より離れた位置を測定するときは、ばね７ｏの
押えだけでは固定できながった。また、直接試料１４を
試料ホールダ１７に接触させていたため、試料１４が傷
つきやすく、測定後は不良品として廃棄せねばならない
などの欠点があった。なお、第１０図、第１１図におい
て、８は白板、９は検知器、１６は１０°スペーサ、２
２はベースである。
本発明は上記に鑑みてなされたもので、その目的とする
ところは、基準試料の絶対値を同一試料室と同一光路で
実ｓｌ！Ｉでき、しかも、被８１り定試料の実寸法の状
態での絶対反射率を求めることができ、かつ、４１１Ｉ
定再現性が良好な積分球、ホールダを用いた反射率測定
装置を提供することにある。
ところは、基準試料の絶対値を同一試料室と同一光路で
実ｓｌ！Ｉでき、しかも、被８１り定試料の実寸法の状
態での絶対反射率を求めることができ、かつ、４１１Ｉ
定再現性が良好な積分球、ホールダを用いた反射率測定
装置を提供することにある。
本発明の特徴は、絶対反射率測定機構と相対反射率測定
機構とを備え、上記絶対反射率測定機構で実１１１１１
した基準試料の絶対反射率を記憶させる記憶手段と、」
１記相対反射率測定機構で実測した被測定試料の相対反
射率の値に上記記憶手段に記憶された上記基準試料の絶
対反射率を各波長毎に掛け合せて上記被測定試料の絶対
反射率を求める演算手段とを具備した構成とした点にあ
る。
機構とを備え、上記絶対反射率測定機構で実１１１１１
した基準試料の絶対反射率を記憶させる記憶手段と、」
１記相対反射率測定機構で実測した被測定試料の相対反
射率の値に上記記憶手段に記憶された上記基準試料の絶
対反射率を各波長毎に掛け合せて上記被測定試料の絶対
反射率を求める演算手段とを具備した構成とした点にあ
る。
以下本発明を第１図〜第９図に示した実施例を用いて詳
細に説明する。
細に説明する。
第１図は本発明の反射率測定装置の絶対反射率測定機構
をセットした場合の一実施例を示す全体構成図である。
をセットした場合の一実施例を示す全体構成図である。
第１図において、１は白色光を単色光に分光し、その分
光した光を対照光２と試料光３として取り出す光源を含
めた分光器である。
光した光を対照光２と試料光３として取り出す光源を含
めた分光器である。
分光器１よりの試料光３はトロイダルミラー４によって
、９０°方向に反射し、トロイダルミラー５で再び９０
″方向に反射してレンズ６で収光され、絶対反射率測定
機構６０に入る。この絶対反射率測定機構６０は、平面
ミラー６１、基準ミラー６２および回転ミラー６３より
なるＶＮ方式のものが例示してある。実線はベースライ
ン補正時のミラー状態を示し１点線は試料測定時（ここ
では、相対反射率測定機構による基準試料の測定）を示
している。したがって１図中のミラー６２とミラー６２
′および回転ミラー６３と６３′とは同一ミラーを示し
ている。６４は絶対反射率測定機構６０をベース１５に
取り付けるためのガイドピンで、ベース１５側に付いて
いる。したがって、絶対反射率測定機Ｗ６０は容易にベ
ース１５上に着脱可能となっている。７は積分球で、回
転ミラー６３での反射光は、試料による鏡面反射を１０
″の入射角で積分球７の内壁に当てて拡散反射させる１
０°スペーサ１６と筒状の試料ホルダ１７にばね１８の
圧力とホールダ２６でサポートされている拡散反射をす
る白板８ａに照射されて拡散反射され、検知器９に照射
されて電気信号に変換される。同様にして対照光２はト
ロイダルミラー１０．１１、平面ミラー１２を介して積
分球７に入り、拡散性のある白板８ｂに照射され、拡散
反射されて試料光３と同様に検知器９に照射されて電気
信号に変換される。試料光２と対照光３の電気信号は、
分光器１側のデータ処理部１３へ送信される。そして、
各波長毎に試料光２と対照光３の補正係数を記憶装置（
ＲＡＭ）に記憶する。次に、絶対反射率８１す定装置と
して使用するために、基準試料６５をセットし、基準ミ
ラー６２を前述のように６２′とし、また、回転ミラー
６３を点線位ｆｆ！６３’ にセットする。このように
、ミラー６２．６３を６２’ 、６３’にセットし直す
と、基準試料６５の表面反射の絶対値が測定される。
、９０°方向に反射し、トロイダルミラー５で再び９０
″方向に反射してレンズ６で収光され、絶対反射率測定
機構６０に入る。この絶対反射率測定機構６０は、平面
ミラー６１、基準ミラー６２および回転ミラー６３より
なるＶＮ方式のものが例示してある。実線はベースライ
ン補正時のミラー状態を示し１点線は試料測定時（ここ
では、相対反射率測定機構による基準試料の測定）を示
している。したがって１図中のミラー６２とミラー６２
′および回転ミラー６３と６３′とは同一ミラーを示し
ている。６４は絶対反射率測定機構６０をベース１５に
取り付けるためのガイドピンで、ベース１５側に付いて
いる。したがって、絶対反射率測定機Ｗ６０は容易にベ
ース１５上に着脱可能となっている。７は積分球で、回
転ミラー６３での反射光は、試料による鏡面反射を１０
″の入射角で積分球７の内壁に当てて拡散反射させる１
０°スペーサ１６と筒状の試料ホルダ１７にばね１８の
圧力とホールダ２６でサポートされている拡散反射をす
る白板８ａに照射されて拡散反射され、検知器９に照射
されて電気信号に変換される。同様にして対照光２はト
ロイダルミラー１０．１１、平面ミラー１２を介して積
分球７に入り、拡散性のある白板８ｂに照射され、拡散
反射されて試料光３と同様に検知器９に照射されて電気
信号に変換される。試料光２と対照光３の電気信号は、
分光器１側のデータ処理部１３へ送信される。そして、
各波長毎に試料光２と対照光３の補正係数を記憶装置（
ＲＡＭ）に記憶する。次に、絶対反射率８１す定装置と
して使用するために、基準試料６５をセットし、基準ミ
ラー６２を前述のように６２′とし、また、回転ミラー
６３を点線位ｆｆ！６３’ にセットする。このように
、ミラー６２．６３を６２’ 、６３’にセットし直す
と、基準試料６５の表面反射の絶対値が測定される。
なぜならば、平面ミラー６１、基準ミラー６２′、回転
ミラー６３′の反射率は、前述と同じであり。
ミラー６３′の反射率は、前述と同じであり。
基準試料６５の反射率のみが前記の記憶値と異なってく
るからである。この値は、各波長毎に前述の補正係数と
は別のエリアに記憶され、以下に述べる相対値が求まっ
たとき、各油長毎にデータ処理部１３のＣＰ Ｕ内で演
算され、データ処理部１３内の表示部１例えば、ディス
プレ、記録計などに表示または記憶される。
るからである。この値は、各波長毎に前述の補正係数と
は別のエリアに記憶され、以下に述べる相対値が求まっ
たとき、各油長毎にデータ処理部１３のＣＰ Ｕ内で演
算され、データ処理部１３内の表示部１例えば、ディス
プレ、記録計などに表示または記憶される。
第２図は第１ ｒｌ！Ｉの絶対反射率測定機構を外した
相対反射測定を行う場合の全体構成図である。以下第２
図を用いて試料の相対反射率測定方法について説明する
。第２図において、最初に絶対反射率を実測し、記憶素
子にその値を記憶させた基準試料６５を１０°スペーサ
１６と試料ホールダ１７でセットする（この場合は白板
８ａは取り外す）。この状態で再度ベースライン補正を
行い、各波長毎の補正係数を記憶する。もし、固定波長
の場合はオートゼロスイッチを押すのみでよい。
相対反射測定を行う場合の全体構成図である。以下第２
図を用いて試料の相対反射率測定方法について説明する
。第２図において、最初に絶対反射率を実測し、記憶素
子にその値を記憶させた基準試料６５を１０°スペーサ
１６と試料ホールダ１７でセットする（この場合は白板
８ａは取り外す）。この状態で再度ベースライン補正を
行い、各波長毎の補正係数を記憶する。もし、固定波長
の場合はオートゼロスイッチを押すのみでよい。
次に、試料ホールダ１７より基準試料６５を取り外し、
測定しようとする被測定試料１４をホールダ２６にセッ
トする。ホールダ２６の詳細は第３図〜第６図に示す。
測定しようとする被測定試料１４をホールダ２６にセッ
トする。ホールダ２６の詳細は第３図〜第６図に示す。
なお、試料１４の大きさに応じてホールダ２６の左右お
よび上下の位置を可変として、試料１４の測定位置を可
変とすることができる。レンズ６で収光された光は、試
料面で鏡面反射し、積分球７の内壁で拡散反射し、検知
器９（ここでは１個しか図示してないが、必要に応じて
特性の異なる複数の検知器を配置してもよい）で光信号
が電気信号に変換され、その値をデータ処理部１３の演
算処理部で前に記憶した基準試料６５の絶対値を掛けて
８１１１定試料１４の絶対値を表示部、例えば、ディス
プレーやプリンタまたは記録計に表示または記録する。
よび上下の位置を可変として、試料１４の測定位置を可
変とすることができる。レンズ６で収光された光は、試
料面で鏡面反射し、積分球７の内壁で拡散反射し、検知
器９（ここでは１個しか図示してないが、必要に応じて
特性の異なる複数の検知器を配置してもよい）で光信号
が電気信号に変換され、その値をデータ処理部１３の演
算処理部で前に記憶した基準試料６５の絶対値を掛けて
８１１１定試料１４の絶対値を表示部、例えば、ディス
プレーやプリンタまたは記録計に表示または記録する。
本装置で′６１す定する試料は表面に接触傷がつくこと
をきらうため、１０°スペーサ１６と試料スペーサ１７
には樹脂材で作った接触ピン１９をそれぞれに埋め込ん
で接着してある。また、大形の試料をセットするとき、
操作性をよくするため、つまみ２０にストッパピン２１
を設け（第３図参照）。
をきらうため、１０°スペーサ１６と試料スペーサ１７
には樹脂材で作った接触ピン１９をそれぞれに埋め込ん
で接着してある。また、大形の試料をセットするとき、
操作性をよくするため、つまみ２０にストッパピン２１
を設け（第３図参照）。
第３図の右方向に引いてベース２２にネジ２３で固定し
たサポータ２４よりストッパピン２１の先端が抜けた位
置でつまみ２０を回転することによって試料ホールダ１
７を試料１４の背面より離し、その位置で、ロックする
ことができるようにしてある。したがって、大形の試料
を両手で自由に操作することができる。なお、サポータ
２４にはストッパピン２１のガイド溝２５が設けである
（第４図参照）、試料１４をホールダ２６にセット後は
再びつまみ２０をサポート２４のガイド溝２５の位置に
戻すと、ばね１８の弾力で試料ホールダ１７は試料１４
の背面を押し、サポートすることができる。
たサポータ２４よりストッパピン２１の先端が抜けた位
置でつまみ２０を回転することによって試料ホールダ１
７を試料１４の背面より離し、その位置で、ロックする
ことができるようにしてある。したがって、大形の試料
を両手で自由に操作することができる。なお、サポータ
２４にはストッパピン２１のガイド溝２５が設けである
（第４図参照）、試料１４をホールダ２６にセット後は
再びつまみ２０をサポート２４のガイド溝２５の位置に
戻すと、ばね１８の弾力で試料ホールダ１７は試料１４
の背面を押し、サポートすることができる。
第５図、第６図はホールダ２６の詳細を示す図で、試料
の大きさおよび測定位置を任意に可変できるようになっ
ている。第５図において、３０はつまみで１反時計方向
に回転するとロックが外れて指針３１、側板３２を左右
方向に移動できる。
の大きさおよび測定位置を任意に可変できるようになっ
ている。第５図において、３０はつまみで１反時計方向
に回転するとロックが外れて指針３１、側板３２を左右
方向に移動できる。
また、時計方向に回転すると、ロックする機構系となっ
ている。３３は試料受部で、試料１４の右側端面から測
定位置までの寸法目盛板２７が貼付してある。３４もつ
まみで、つまみ３４を反時計方向に回転すると、試料受
部３３を上下に移動でき、試料】４の大きさによる試料
受部３３の位置調整ができる。３５はガイドレール、３
６（第６図）は上下方向の測定位置を示す指針で、上下
移動機構部３７に取り付けである。３８は寸法目盛板で
、目盛板３８の目盛と指針３６の合った数字が試料１４
の下端よりの測定距離を示す。そして、つまみ３４を時
計方向に回転するとロックされる。
ている。３３は試料受部で、試料１４の右側端面から測
定位置までの寸法目盛板２７が貼付してある。３４もつ
まみで、つまみ３４を反時計方向に回転すると、試料受
部３３を上下に移動でき、試料】４の大きさによる試料
受部３３の位置調整ができる。３５はガイドレール、３
６（第６図）は上下方向の測定位置を示す指針で、上下
移動機構部３７に取り付けである。３８は寸法目盛板で
、目盛板３８の目盛と指針３６の合った数字が試料１４
の下端よりの測定距離を示す。そして、つまみ３４を時
計方向に回転するとロックされる。
ガイドレール３５は上下移動機構部３７の案内溝３９（
第５図）を有するアルミ引抜き材よりなっている。ガイ
ドレール３５の案内溝３９を回転機構４０が回転移動す
る。
第５図）を有するアルミ引抜き材よりなっている。ガイ
ドレール３５の案内溝３９を回転機構４０が回転移動す
る。
左右の移動機構も上下移動機構部３７とほぼ同じで、そ
の移動機構部の断面図を第７図に示す。
の移動機構部の断面図を第７図に示す。
４１は回転機構４０の軸で、ナツト４２で移動ブロック
４３に取り付けてあり、ガイドレール３５の案内溝３９
をスライドする。
４３に取り付けてあり、ガイドレール３５の案内溝３９
をスライドする。
第８図、第９図に移動ブロック４３の形状の詳細を示す
。移動ブロック４３の切り込み部４４は、移動ブロック
４３のすベリを調整するためのもので、これを広げると
すべりがきつくなる。
。移動ブロック４３の切り込み部４４は、移動ブロック
４３のすベリを調整するためのもので、これを広げると
すべりがきつくなる。
このような構成になっているめで、本発明の実施例によ
れば、試料１４の大きさおよび測定点に合せてあらかじ
め寸法をセットしておけば、試料１４のＫｌ’ｌ定位置
が明確となるので、試料１４の反射率の各部におけるば
らつき分布を簡単に再現性よく測定できる。また、試料
には傷がつくことがなく、測定後もそのサンプルを利用
することができる。また、実試料の状！（例えば、８イ
ンチの大きさのまま）で絶対反射率を容易にｉｌり定で
き、さらに、ホールダ２６に目盛が付いているので、広
い試料１４の各点を自由に測定ができ、試料１４の蒸着
分布なども測定できる。
れば、試料１４の大きさおよび測定点に合せてあらかじ
め寸法をセットしておけば、試料１４のＫｌ’ｌ定位置
が明確となるので、試料１４の反射率の各部におけるば
らつき分布を簡単に再現性よく測定できる。また、試料
には傷がつくことがなく、測定後もそのサンプルを利用
することができる。また、実試料の状！（例えば、８イ
ンチの大きさのまま）で絶対反射率を容易にｉｌり定で
き、さらに、ホールダ２６に目盛が付いているので、広
い試料１４の各点を自由に測定ができ、試料１４の蒸着
分布なども測定できる。
［発明の効果〕
以上説明したように、本発明によれば、絶対反射率を常
に測定でき、基準試料の経年変化や装置などの構造差に
よる測定誤差を最小に抑えることができ、さらに、試料
の反射率の各部におけるばらつき分布を簡単に再現性よ
く測定でき、測定後の試料に傷をつけることがなく、？
ｌＩ！Ｉ定後もそのサンプルを使用できるという効果が
ある。
に測定でき、基準試料の経年変化や装置などの構造差に
よる測定誤差を最小に抑えることができ、さらに、試料
の反射率の各部におけるばらつき分布を簡単に再現性よ
く測定でき、測定後の試料に傷をつけることがなく、？
ｌＩ！Ｉ定後もそのサンプルを使用できるという効果が
ある。
第１図〜第９図は本発明の実施例を示す図で、第１図は
本発明の反射率測定装置の絶対反射測定機構をセットし
た状態を示す全体構成図、第２図は第１図から絶対反射
測定機構を外して相対反射率測定を行う場合の全体構成
図、第３図は第１図のホールダ付近の断面図、第４図は
第３図の平面図、第５図は第１図のホールダ部の移動機
構を示す平面図、第６図は第５図の正面図、第７図は左
右の移動機構を示す断面図、第８図は第７図の移動でロ
ックの正面図、第９図は第８図の側面図、第１０図は従
来の積分球、ホールダ付近の断面図、第１１図は第１０
図の平面図である。 １・・・分光器、２・・・対照光、３・・・試料光、４
，５゜１０．１１・・・トロイドミラー、６・・・レン
ズ、７・・・積分球、８ａ、８ｂ・・・白板、９・・・
検知器、１２・・・平面ミラー、１３・・・データ処理
部、１６・・・１０’スペーサ、１７・・・試料ホール
ダ、１８・・・ばね、】９・・・接触ピン、２０．３４
・・・つまみ、２１・・・ストッパーピン、２２・・・
ベース、２４・・・サポータ、２６・・・ホールシダ、
２７，３８・・・目盛板、３１゜３６・・・指針、３２
・・・側板、３３・・・試料受部、３５・・・ガイドレ
ール、３７・・・上下移動機摺部、３９・・・案内溝、
４０・・・回転機構、４１・・・軸、４２・・・ナツト
、４３・・・移動ブロック、４４・・・切り込み部、６
０・・・絶対反射５＄測定機構、６１・・・平面ミラー
、６２・・・基準ミラー、６３・・・回転ミラー、６４
・・・ガイドピン、６５・・・基準試料。
本発明の反射率測定装置の絶対反射測定機構をセットし
た状態を示す全体構成図、第２図は第１図から絶対反射
測定機構を外して相対反射率測定を行う場合の全体構成
図、第３図は第１図のホールダ付近の断面図、第４図は
第３図の平面図、第５図は第１図のホールダ部の移動機
構を示す平面図、第６図は第５図の正面図、第７図は左
右の移動機構を示す断面図、第８図は第７図の移動でロ
ックの正面図、第９図は第８図の側面図、第１０図は従
来の積分球、ホールダ付近の断面図、第１１図は第１０
図の平面図である。 １・・・分光器、２・・・対照光、３・・・試料光、４
，５゜１０．１１・・・トロイドミラー、６・・・レン
ズ、７・・・積分球、８ａ、８ｂ・・・白板、９・・・
検知器、１２・・・平面ミラー、１３・・・データ処理
部、１６・・・１０’スペーサ、１７・・・試料ホール
ダ、１８・・・ばね、】９・・・接触ピン、２０．３４
・・・つまみ、２１・・・ストッパーピン、２２・・・
ベース、２４・・・サポータ、２６・・・ホールシダ、
２７，３８・・・目盛板、３１゜３６・・・指針、３２
・・・側板、３３・・・試料受部、３５・・・ガイドレ
ール、３７・・・上下移動機摺部、３９・・・案内溝、
４０・・・回転機構、４１・・・軸、４２・・・ナツト
、４３・・・移動ブロック、４４・・・切り込み部、６
０・・・絶対反射５＄測定機構、６１・・・平面ミラー
、６２・・・基準ミラー、６３・・・回転ミラー、６４
・・・ガイドピン、６５・・・基準試料。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、分光器と積分球を組合せて被測定試料の絶対反射率
を測定するものにおいて、絶対反射率測定機構と相対反
射率測定機構とを備え、前記絶対反射率測定機構で実測
した基準試料の絶対反射率を記憶させる記憶手段と、前
記相対反射率測定機構で実測した前記被測定試料の相対
反射率の値に前記記憶手段に記憶された前記基準試料の
絶対反射率を各波長毎に掛け合せて前記被測定試料の絶
対反射率を求める演算手段とを具備することを特徴とす
る反射率測定装置。 ２、前記絶対反射率測定機構と相対反射率測定機構とは
同一試料室内にセットできるように構成してある特許請
求の範囲第１項記載の反射率測定装置。 ３、前記被測定試料は、前記積分球と一体のスペーサと
試料ホールダとでそれぞれ非金属材料からなる接触部材
を介して挾持されるように、測定位置を示す目盛が設け
てあり、上下、左右の移動機構を備えたホールダに押え
てある特許請求の範囲第１項または第２項記載の反射率
測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60271503A JPS62132152A (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | 反射率測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60271503A JPS62132152A (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | 反射率測定方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62132152A true JPS62132152A (ja) | 1987-06-15 |
| JPH0445103B2 JPH0445103B2 (ja) | 1992-07-23 |
Family
ID=17500964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60271503A Granted JPS62132152A (ja) | 1985-12-04 | 1985-12-04 | 反射率測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62132152A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05240783A (ja) * | 1992-02-28 | 1993-09-17 | Shimadzu Corp | 分光光度計 |
| US7102753B2 (en) | 2003-02-27 | 2006-09-05 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Optical system for measurement |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5630183B2 (ja) * | 2009-11-27 | 2014-11-26 | コニカミノルタ株式会社 | 白色校正部材およびそれを用いた光学特性測定システム |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56119843A (en) * | 1980-02-26 | 1981-09-19 | Shimadzu Corp | Electrophoresis measuring device |
| JPS5979841A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-09 | Shimadzu Corp | 絶対反射率測定装置 |
-
1985
- 1985-12-04 JP JP60271503A patent/JPS62132152A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56119843A (en) * | 1980-02-26 | 1981-09-19 | Shimadzu Corp | Electrophoresis measuring device |
| JPS5979841A (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-09 | Shimadzu Corp | 絶対反射率測定装置 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05240783A (ja) * | 1992-02-28 | 1993-09-17 | Shimadzu Corp | 分光光度計 |
| US7102753B2 (en) | 2003-02-27 | 2006-09-05 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Optical system for measurement |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0445103B2 (ja) | 1992-07-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5543919A (en) | Apparatus and method for performing high spatial resolution thin film layer thickness metrology | |
| US5956145A (en) | System and method for improving data acquisition capability in spectroscopic rotatable element, rotating element, modulation element, and other ellipsometer and polarimeter and the like systems | |
| US5291269A (en) | Apparatus and method for performing thin film layer thickness metrology on a thin film layer having shape deformations and local slope variations | |
| KR100484377B1 (ko) | 분광 엘립소미터 | |
| CN100395538C (zh) | 一种新型快速椭圆偏振光测量系统 | |
| US5218424A (en) | Flying height and topography measuring interferometer | |
| US4647207A (en) | Ellipsometric method and apparatus | |
| US20020012122A1 (en) | Coherent gradient sensing ellipsometer | |
| US6473179B1 (en) | Birefringence measurement system | |
| GB1419738A (en) | Ellipsometer | |
| US4781455A (en) | Method for measuring optical strain and apparatus therefor | |
| US4453828A (en) | Apparatus and methods for measuring the optical thickness and index of refraction of thin, optical membranes | |
| EP0737856B1 (en) | A method of investigating samples by changing polarisation | |
| US6697157B2 (en) | Birefringence measurement | |
| Pugh et al. | Automatic gauge block measurement using multiple wavelength interferometry | |
| EP0075689A1 (en) | Optical instruments for viewing a sample surface | |
| JPS62132152A (ja) | 反射率測定方法 | |
| CA1048806A (en) | Rotating-compensator ellipsometer | |
| King et al. | A comparison of methods for accurate film thickness measurement | |
| US3481671A (en) | Apparatus and method for obtaining optical rotatory dispersion measurements | |
| US2655073A (en) | Optical thickness gauge | |
| JPH0781840B2 (ja) | 光学式膜厚測定装置 | |
| JPS61182507A (ja) | 膜厚測定装置 | |
| Edwin | A recording refractometer for the measurement of refractive indices of solids in the wavelength range 8-14 mu m | |
| US5044754A (en) | Apparatus and method for use in determining the optical transmission factor or density of a translucent element |