JPS62126175A - キノリン誘導体及び該化合物を含有する除草剤 - Google Patents

キノリン誘導体及び該化合物を含有する除草剤

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JPS62126175A
JPS62126175A JP61262063A JP26206386A JPS62126175A JP S62126175 A JPS62126175 A JP S62126175A JP 61262063 A JP61262063 A JP 61262063A JP 26206386 A JP26206386 A JP 26206386A JP S62126175 A JPS62126175 A JP S62126175A
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ヘルムート、ハーゲン
ウルリヒ、アイヒェンアウアー
ペーター、プラト
ノルベルト、マイヤー
ブルーノ、ヴュルツァー
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BASF SE
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、新規の誘導体、該化合物を有効物質として含
有する除草剤、並びに該新規化合物を用いて好ましくな
い植物の生長を防除する方法に関する。
従来の技術 置換されたキノリンが除草剤として有効であることは公
知である(ドイツ連邦共和国特許出願公開第31088
73号、同第3210979号、同第3233089号
明細書)。
発明の構成 ところで1式: 〔式中。
R1はハロゲン原子又はC8〜C4−アルキル基を表し
又はハロゲン原子を表し。
2は酸素原子、ヒドロキシイミノ基、C8〜04−アル
コキシイミノ基又はヒドラゾ7基を表し、原基は嶋〜C
!−アルJP/I/基、a、〜−−アルコキシカルボニ
ル基、アリールスルホニル基、l、3−オキサゾール−
2−イル基又は1,3−チアゾ′−ルー2−イル基によ
って置換されており、この際最後に挙げた複素環式基も
C7〜C4−アルキル基、−〜04−ヒドロキシアルキ
ル基又はヒドロキシル基によって置換されており、かつ Yは2が酸素原子を表す場合には、基ニーNR2R3(
該式中 R2は水素原子及びR3は01〜C4−ヒドロ
キシアルキル基、C7〜C3−アルコキシ基、又は−〇
mN又は02〜0.−アルフキジカルボニル基によって
置換されたC7〜0.−アルケニル基、又は場合により
置換されたアリールスルホニル基、  1. 3−オキ
サゾール−2−イル基又は1,3−チアゾール−2−イ
ル基を表し、又はR2とR3は一緒に。
0、〜C4−ジアルキルアミ7基、ヒドロキシアミノM
 又ハ(11〜C4−アルコキシアミノ基によって置換
されたO、 /%/ O,−アルキリデン基を表し);
場合により偽〜O3−アルキルカルボニル基、C2〜a
、−アルフキジカルボニル基、CI〜04−アシル基、
02〜C0−アルキリデン基、チオカルバモイル基、C
1〜C4−アルコキシ−オキサリル基、アミノ−オキサ
リル基又は場合によりメチル、クロル、ブロム又はニト
ロ置換基によって置換されたアリールスルホニル基によ
って置換されたヒドラジ7基;場合にJ: リ02〜)
−アルコキシカルボニル基によって置換されたC1〜C
4−アルキル基; 又ハ0.NO,−ジアルキルアミ7
基又は04〜06−アルキレンイミノ基によって置換さ
れたC3〜0.−シクロアルケニル基を表し。
2がC1〜04−アルコキシイミノ基又は前記の置換さ
れたヒドラジノ基を表す場合には、水素原子又はハロゲ
ン原子を表し、かつ 2がヒドロキシイミノ基を表す場合には、ハロゲン原子
、アミノ基、0.〜04−アルコキシ基又はC8〜04
−アルキルチオ基を表し、原基はカルボキシ基又は02
〜龜−アルコキシカルボニル基によって置換されており
又は式中基: ク ー°\ は基ニー〇−N0−00又は5員環の複素環式基を表し
、該複素環式基は窒素原子の他に、窒素原子。
酸素原子及び硫黄原子から成る群から選択される1又は
2個の別の複素原子、並びに1又は2個の二重結合を有
し、かつ場合により置換及び/又は別の炭素環又は複素
環によって縮合環化されておりかつ炭素原子を介してキ
ノリン環に結合されている〕で示されるキノリン誘導体
が、除草剤として有効であることが判明した。
式I中 R1は例えば弗素原子、塩素原子、臭素原子、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル。
ブチル、イソブチル、ブドー2−イル又はt−ブチル、
有利には塩素原子及びメチルを表す。
式■中、Xは側えば弗素原子、塩素原子又は臭素原子、
有利には塩素原子を表す。
式■中、2は例えば酸素原子;ヒドロキシイミノ;メト
キシイミハエトキシイミノ、プロポキシイミノ又はブト
キシイミノ;メチルヒドラジノ。
エチルヒドラゾノウイソプロピルヒドラジノ、プチルヒ
ドラゾノ、メトキシ力ルポニルヒドラゾノ。
エトキシカルボニルヒドラゾへプロボキシ力ルポニルヒ
ドラゾノ、t−プトキシカルポニルヒドラゾノ、フェニ
ルスルホニルヒドラゾノ、2−メチルフェニルスルホニ
ルヒドラジノ、4−メチルフェニルスルホニルヒドラジ
ノ、4−クロルフェニルスルホニルヒドラジノ、4−メ
チル−1,3−チアゾール−2−イルーヒドラゾノ、4
−エチル−1,3−オキサゾール−2−イル−ヒドラゾ
ノウ4−t−ブチル−1,3−チアゾール−2−イルー
ヒドラゾノ、4−ヒドロキシ−1,3−オキサゾール−
2−イル−ヒドラゾノウ4−t−ブチル−1,3−チア
ゾール−2−イルーヒドラゾノ、4−ヒドロキシ−1,
3−オキサゾール−2−イルーヒドラゾノ、4−ヒドロ
キシ−1,3−チアゾール−2−イル−ヒドラジノ、4
−(2−ヒドロキシエチル)−1,3−チアゾール−2
−イル°−ヒドラジノ又は3−(2−ヒドロキシエチル
)−4−ヒドロキシ−1,3−チアゾール−2−イル−
ヒドラジノを表す0 式I中のYが表すものは、基2が表すもの次第である。
2が酸素原子を表す場合には、Yは例えば2−ヒドロキ
シエチルアミノ、(1−メチル−2−ヒドロキシ)エチ
ルアミノ、3−ヒドロキシプロピルアミノ、(1,1−
ジメチル−2−ヒドロキシ)エチルアミノ;メトキシア
ミノ、エトキシアミノ、プロポキシアミノ、インプロポ
キシアミノ。
ブトキシアミノ、イソブトキシアミノ;2−シアノ−2
−メチルエチニルアミノ、2−(メトキシカルボニル)
エチルアミノ、2−(エトキシカルボニル)−2−メチ
ルエチニルアミノ、3−(エトキシカルボニル)プロペ
−2−エン−2−イルアミノ;フェニルスルホニルアミ
ノ;2−メチルフェニルスルホニルアミノ、4−メチル
フェニルスルホニルアミノ、4−クロルフェニルスルホ
ニルアミノ、1,3−オキサゾール−2−イルアミノ、
1.3−チアゾール−2−イルアミノ;ジメチルアミノ
メチリデンアミノ、1−(ジメチルアミノ)エチリデン
アミノ;ヒドロキシアミノメチリデンアミノ;l−(ヒ
ドロキシアミノ)エチリデンアミノ;メトキシアミノメ
チリデンアミノ。
1−(エトキシアミノ)エチリデンアミノ;ヒドラゾノ
、エトキシカルボニルヒドラゾノ、イソプロボキシカル
ボニルヒドラゾノ、t−プトキシ力ルポニルヒドラゾノ
;エチリデンヒドラゾノ、プロビー2゛−イリデンヒド
ラゾノ、2−メチルブト−3−イリデンヒドラジノ;チ
オカルバモイルヒドラジノ;メトキシオキサリルヒドラ
ゾノ、エトキシオキサリルヒドラゾノ;アミノオキサリ
ルヒドラジノ;フェニルスルホニルヒドラジノ、2−メ
チルフェニルスルホニルヒドラジノ、4−メチルフェニ
ルスルホニルヒドラジノ、4−クロルフェニルスルホニ
ルヒドラジノ、4−ブロムフェニルスルホニルヒドラジ
ノ、4−ニトロフェニルスルホニルヒドラジノ;メチル
、エチル、プロピル。
ブチル;エトキシカルボニルメチル;2−ジメチルアミ
ノシクロベント−1−エン−イル、2−ジエチルアミノ
シクロベント−1−エン−イル、2−ピロリジノシクロ
ベント−1−エン−1−イル。
2−ピロリジノシクロヘキセ−1−エン−1−イル又は
2−ピペリジノシクロヘキセ−1−エン−1−イルを表
す。
Z カO,〜04−アルコキシイミノ又は前記のヒドラ
ジノ基を表す場合には、Yは例えば水素原子。
塩素原子又は臭素原子を表す。
2がヒドロキシイミノを表す場合には、Yは例えば塩素
原子、臭素原子、アミノ;メトキシ、プロポキシ、イン
プロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ;カルボキシメチ
ルチオ又はエトキシカルボニルメチルチオを表す。
基: 一〇、 Y   ゛ は、基・−0−N(F′−00又は5員環を表すことも
できる。この場合には、複素環は場合によりヒドロキシ
又はO1へ04−アルコキシ基によって置換されたO5
へ04−アルキル、01〜a4−アルフキシワヒドロキ
シ、アミン、ジーClNC4−ジアルキルアミ/。
04〜C0−アルキレンイミノ、02〜05−アルコキ
シカルボニル、カルバモイル又はシアンによって置換さ
れていてもよく、及び/又は炭素環例えばシクロペンタ
ン又はシフ四ヘキサン、又は複素環例、 えばテトラヒ
ドロフラン又はテトラヒドロビランによって縮合環化さ
れていてもよい。
基: C に関しては例えば以下の複素環式基が挙げられるニトリ
アゾール例えばl、3.4−)リアゾール−2−イル、
l、2.4−トリアゾール−3−イル、オキサシリル例
えば1.3−オキサゾール−2−イル、1.2−オキサ
ゾール−3−イル、トリアゾリル例えば1.3−)リア
ゾール−2−イル、オキシジアゾリル例えばl、3.4
−オキシ。
シアシリA/−2−イル、部分的に水素化されたオキサ
シリル例えば4.5−ジヒドロ−1,3−オキサゾ−/
l/−1−イル、4,5−ジヒドロ−1゜2−オキサゾ
ール−3−イル、部分的に水素化されたチアゾリル例え
ば4.5−ジヒドロ−1,3−チアゾール−2−イル、
置換されたトリアゾリル例えば5−メチル−1,3,4
−トリアゾール−2−イル、置換されたオキサシリル例
えば4゜5−ジヒドロ−4−メチル−1,3−オキサゾ
ール−2−イル、4.5−ジヒドロ−5−エトキシ−1
,2−オキサゾール−3−イル、5−メトキシメチル−
1,2−オキサゾール−3−イル、4−メドキシ力ルボ
ニル−5−ヒドロキシ−1,2−オキサゾール−3−イ
ル、4−メトキシカルボニル−5−メチル−1,2−オ
キサゾール−3−イル、4.5−ジヒドロ−5−ヒト四
キシメチルー1.2−オキサゾール−3−イル、4.5
−ジヒドロ−5−メチル−5−メトキシカルボニル−1
,2−オキサゾール−3−イル、4.5−ジヒドロ−5
−メトキシカルボニル−1,2−オキサゾール−3−イ
ル、4.5−ジヒドロ−4,5−ビス(メトキシカルボ
ニル)−1,2−オキサゾール−3−イル(トランス)
、4. 5−ジヒドロ−4−シアノ−5−アミノ−1,
2−オキサゾール−3−イル、縮合環化されたオキサシ
リル例えば3a、4,5.6−テトラヒドロ−6a−ピ
ロリジノーシクロペンタCa)l:1.g)オキサゾー
ル−3−イル、3a、4,5,6a−テトラヒトローフ
a〔3,g−a’l(1,2]オキサゾール−3−イル
、3a、4,6,6a−テトラヒドロ−70(3,4−
(1〕(1,2]オキサゾール−3−イル、4H−3a
、4,5,6.7a−テトラヒドロ−ピラノ(3,2−
a)(1,2)オキサゾール−3−イル、置換されたチ
アゾリル例、tば4.5−ジヒドロ−4−メチル−1,
3−チアゾール−2−イル、置換されたオキシジアゾリ
ル例えば5−エチル−1,3,4−オキシジアゾール−
2−イル、5−ヒドロキシ−1,3,4−オキシジアゾ
ール−2−イル、5−カルバモイル−1,3゜4−オキ
シジアゾール−2−イル又は3−メチル−1,2,4−
オキシジアゾール−5−イル。
R1及びXがへロゲン原子、特に塩素原子、2が酸素原
子及びYが基: −NHR3(R3は01〜01−7/
I/コキシ、特にエトキシを°表す)を表す化合物が特
に適当である。
本発明によるカルボン酸アミド及びカルボン酸ヒドラジ
ド(z=o、y=−rR2m又はヒドラジノ基)は、酸
りaリド(z=o、Y=OAりを当該のアミン又はヒド
ラジンと不活性溶剤中で酸結合剤を添加して反応させる
ことにより得られる。
不活性溶剤としては、塩素化された炭化水素例エバ塩化
メチレン又はクロルベンゼン;エーテル例えばテトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、1,2−ジメトキシエタン又
はジエチレングリコールジメチルエーテル;芳香族炭化
水素例えばトルエン又はキシレンが該当する。1.2−
ジメトキシメタン及び塩化メチレンが有利である。
酸結合剤としては、第三級アミン例えばトリエチルアミ
ン、ピリジン又はN、N−ジメチルアミノピリジンが該
当する。酸クロリド1モル当たり酸結合剤1〜2モルを
使用するのが有利である。
たいていの場合、相応する過剰のアミン又はヒドラジン
成分を酸結合剤として有利に使用することができる。ト
リエチルアミンを使用するのが有利である。
反応湿度は大きな範囲内で変動させることができる。一
般には、−30℃〜+80℃、有利には一10〜+25
℃の温度で操作することができる。
構造単位: (R2,R3=アルキリデン)を有する醗アミドを製造
する1つの方法は、相応する遊離アミドをアミドアセタ
ール(例えばN、N−ジメチルホルムアミド−ジメチル
アセタール又はM、N−ジメチルアセトアミド−ジメチ
ルアセタール)又はオルトカルボン酸エステル(例えば
オルト蟻酸トリメチルエステル又はオルト酢酸トリエチ
ルエステル)と反応させることにより成る。
溶剤としては、脂肪族アミド例えばN、N−ジメチルホ
ルムアミド、N、M−ジメチルアセトアミド並びに芳香
族炭化水素例えばトルエン、キシレン又はクロルベンゼ
ンが該当する。たいていの場合9反応を過剰のアミドア
セタール又はオルトカルボン酸エステル中で実施するこ
とができる。
反応の際に生成するアルコールは1度応混合物中に残し
ておくか又は有利には蒸留によって除去することができ
る。
反応温度としては、一般に100〜150℃である反応
混合物の還流温度を選択するのが有利である。
本発明によるケト化合物は、自体公知の方法でカルボン
醗エステルからグリニヤール反応を用いて得ることがで
き、その際意想外にも、この場合にはグリニヤール反応
がケト段階で止どまりかつ第三級アルコールは形成され
ない。複素環式置換基を有する本発明による化合物は、
複素環式化合物の自体公知の方法に基づき1例えばR,
A。
Katritzky 、 O,W、 Re5s ” O
omprehensivs H@to−roayoli
c Ohemiatry″、 Band 4 and 
5 、 PergamorPress 1984及びA
、 Weissberger ” Ohemistry
of Hetroayolio Oompounls”
、工nteraciencePublischersに
記載された方法に基づき製造することができる。
基ニ (IE)e 基ニー0!N  −〇  を表す場合には、ニトリルオ
キシドをオキシムから出発して中間生成物のヒドロキサ
ム酸クロリド及び引き続いての塩化水素分離を介して製
造することができる。
本発明による別の化合物(例えばオキシム、ヒドラゾン
又はオキシムエステル)は、同様に自体公知方法で1例
えばHouben−Weyl 、 ” Msthods
nder organischen Ohemie”、
 Band 10/2及び10/4に記載された方法に
基づき製造することができる0 キノリン誘導体■は、除草作用を有しかつ栽培植物に対
して選択性である。
式Iのキノリン誘導体は1例えば直接的に噴霧可能な溶
液、粉末、懸濁液、更にまた高濃度の水性、油性又はそ
の他の懸濁液又は分散液、エマルジョン、油性分散液、
ペースト、ダスト剤、散布剤又は顆粒の形で噴霧、ミス
ト法、ダスト法、散布法又は注入法によって適用するこ
とができる。
適用形式は、完全に使用目的に基いて決定される;いず
れの場合にも1本発明の有効物質の可能な限りの微細分
が保証されるべきである。
直接飛散可能の溶液、乳濁液、ペースト又は油分散液を
製造するために、中位乃至高位の沸点の鉱油留分例えば
燈油又はディーゼル油、更にコールタ−油等、並びに植
物性又は動物性産出源の油。
脂肪族、環状及び芳香族炭化水素例えばペンゾール、゛
ドルオール、キジロール、パラフィン、テトラヒドロナ
フタリン、アルキル置換ナフタリン又はその誘導体1例
えばメタノール、エタノール。
プロパツール、ブタノール、クロロフォルム、S塩化炭
素、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、り四ルベ
ンゾール、イソフオロン等、 強m性溶剤例えばN、M
−ジメチルフォルムアミド、ジメチルスルフオキシド、
Nニメチルビロリドン及び水が使用される。
水性使用形は乳濁液濃縮物、ペースト又は湿潤可能の粉
末(噴射粉末)、油分散液より水の添加により製造され
ることができる。乳濁液、ペースト又は油分散液を製造
するためには、物質はそのまま又は油又は溶剤中に溶解
して、湿潤剤、接着剤1分散剤又は乳化剤により°水中
に均質に混合されることができる。しかも有効物質、湿
潤剤、接着剤1分散剤又は乳化剤及び場合により溶剤又
は油よりなる濃縮物を製造することもでき、これは水に
て希釈するのに適する。
表面活性物質としては次のものが挙げられる:リグニン
スル7オン酸、ナフタリンスルフォン酸。
フェノールスルフォン酸のアルカリ塩、アルカリ土am
、アンモニウム塩、アルキルアリールスル7オナート、
アルキルスル7アート、アルキルスルフォナート、ジブ
チルナフタリンスルフォン酸のアルカリ塩及びアルカリ
土類塩、ラウリルエーテルスルファ−)、脂肪アルコー
ルスルフアート。
脂肪酸アルカリ塩及びアルカリ土類塩、硫酸化へキサデ
カノール、ヘプタデカノール、オクタデカノールの11
 、 硫酸化脂肪アルコールグリコールエーテルの塩、
スルフォン化ナフタリン又はナフタリン誘導体とフォル
ムアルデヒドとの縮合生成物。
ナフタリン或はナフタリンスルフォン酸とフェノール及
びフォルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシエチ
レン−オクチルフェノールエーテル。
エトキシル化イソオクチルフェノール、オクチルフェノ
ール、ノニルフェノール、アルキルフェノールポリグリ
コールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコールエ
ーテル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、イ
ソトリデシルアルコール、脂肪アルコールエチレンオキ
シド−縮合物。
エトキモ層化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエ
ーテル、エトキシル化ポリオキシプロピレン、ラウリル
アルコールポリグリフールエーテルアセタール、ソルビ
ットエステル、リグニン、亜硫酸廃液及びメチル繊維素
粉末、散布剤及び振りかけ剤は有効物質と固状担体物質
とを混合又は−緒に磨砕することにより製造されること
ができる。
粒状体例えば被覆−1透浸−及び均質粒状体は。
有効物質を固状担体物質に結合することにより製造され
ることができる。固状担体物質は例えば鉱物上例えばシ
リカゲル、珪酸、珪酸ゲル、珪酸塩。
滑石、カオリン、アタクレ1石灰石1石灰、白亜。
膠塊粒土1石灰質黄色粘土、粘土、白雲石、珪藻土、硫
酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化マグネシウム、
磨砕合成樹脂、肥料例えば硫酸アンモニウム、燐酸アン
モニウム、硝酸アンモニウム。
尿素及び植物性生成物例えば穀物粉、樹皮、木材及びク
ルミ殻粉、1m維素粉末及び他の固状担体物質である。
使用形は有効物質0.1乃至95重景%殊に0.5乃至
90重量%を含有する。
本発明による新規化合物は、除草剤として発芽前処理法
及び発芽後処理法で適用することができる。該有効物質
が特定の栽培植物に対して相容性が低い場合には、除草
剤を噴霧装置を用いて、有効物質は特に敏感な栽培植物
にはできるだけ当たらず、一方その下で生長した好まし
くない植物の葉に又は露出した土壌に達するように噴霧
する技#l(ボスト−ダイレクト、レイ−バイ法)を適
用することができる。
有効物質の使用量は、その都度の防除目的、季節、目的
植物及び目的植物の生長段階に基づき有効物質的0.1
〜5.0 、有利には0.25〜30 kg / ha
である〇 雑草防除のための検出可能な作用スペクトル。
栽培植物の相容性又はその生長の所望の作用並びに適用
法の多様性に基づき9本発明による化合物はその都度の
置換パターンに基づき多数の栽培植物において使用する
ことができる。
タマネギ(AAlllu cepa )パイナツプル(
Ananas comosua )テンキンマメ(Ar
achis hypogaea )アスパラガス(As
paragus officinalis )オートム
ギ(Avena s&tiva )フダンソウ(Bet
a vulgaria spp、 altissima
 )サトウジシャ(Beta vulgariBspp
、 rapa )アカテンサイ(Beta vulga
ris spp、 esculenta)プラシーカ 
ナパス(変種ナパス) (Brassiaa napus var、 napu
g )ブラシー力 ナパス(変種ナゲブラシー力)(B
rasaica napus var、 napobr
assica )ブラシー力 ナパス(変種ラバ) (Erassiaa napus var、rapa 
)ブラシー力 ナバス(変種シルベストリス)(Bra
ssiaa、 napus var、 ailvest
ris )トウツバキ(Camellia 5inen
sis )ベニバナ(Oarthamus tinct
orius )キャリヤ イリノイネンシス(0ary
a1111noinensis ) マルブシェカン(01trus limon )グレー
プフルーツ(○1trua maxima )ダイダイ
(01trus reticulata )ナラミカン
(01trus 5inensis )コーヒーツキ(
0offea arabica (0offeacan
ephora 、 0offea 1ibsrica 
) ]アミメロン(Oucumia melo )キュ
ウリ(Oucumis 5ativus )ギョウギシ
バ(0ynodon dactylon )ニンジン(
Daucus carota )アプラヤミ(Elil
aeis guineenis )イチゴ(Fraga
ria vesca )大豆(Glycine max
 ) 、木綿+: Gossypium hirsutum 
(Gossypium 。
arboreum 、Gossypium herba
ceum 。
Goasypium vitifolium  )”1
ヒマワリ(He11anthus annuue )キ
クイモ(He1ianthus tuberosus 
)ゴムツキ(Hevea brasilLiengis
 )大麦(Hordeum vulgare )カラハ
ナソウ(Humulus 1upulus )アメリカ
イモ(工pomoea batatas )オニグルミ
(Juglans regia )ラクチェカ サテイ
バ(Lactuca 5ativa )レンズマメ(I
+en8 culinaris )アY (I+lnu
m usitatissimum )ト マ ト (L
yaopersicon  lycopersicum
  )リンゴN4 (Malus spp・)キ+7サ
バ(Manihot esculenta )ムラサキ
ウマゴヤシ(Mediaago 5ativa )ハツ
カ(Mentha piperita )バショウ属(
Musa spp、) ラバ:l (N1cotiana tabaoum (
N、 rustica ) )オリーブ(01sa e
uropaea )イネ(0ryza 5atiマa) キビ(Panicum miliaoeum )アズキ
(Phaseolus 1unatus )廿ゲ(Ph
aseolus mungo )ゴガツササゲ(Pha
seolus vulgaris )パセリ(penn
lsetum glaucum )ペトロセリウム ク
リスパス(変種チェベロサム)  (Petrosel
inum  crispum  spp、  tube
roaum  )トウヒ(Picea abies ) モ ミ (Abies  alba  )マツfi4 
(Pinus spp、)シロエントウ(Piaum 
sativum )サクシ(Prunus avium
 )アンス(Prurrus domestica )
プルヌス ダルシス(Prunus dulcis )
モモ(Prunus persica )ナシ(Pyr
us communis )サグリ(Rlbes 5y
lvestre lサンザシ(Rlbes uva−c
rispa )トウゴマ(R1(31nuB comm
unis )サトウキビ(Saocharum off
iainarum )ライムギ(5eaale cer
eale )ゴム(Sesamum indiaum 
)ジャガイモ(Solanum tuberosum 
)モロコシ(Sorghum bicolor (s、
 Vulgare ) 〕ツルガム ドッチェナ(So
rghum cLochna )ホウレンソウ(5pi
nacia oleracea )カカオツキ(The
obroma cacao )ムラサキツメフサ(Tr
ifolium pratense )小麦(Trit
iaum aestivum )イワツツジ(’Vac
oinium corymbosum )コケモモ(V
accinium vitis−1daea )ソウマ
メ(Vicia fabIL) ビグナ シネンシス(変種ウングイキュラータ)(Vi
gna 5inensis (V、 unguicul
ata ) )ブドウ(Vitis vinifera
 )トウモロコシ(Zea ways ) 本発明による新規のキノリン誘導体は1作用スペクトル
を拡大するためにかつまた相乗効果を達成するために、
別の除草性又は生長調整性有効物質群と混合しかつ一緒
に散布することができる。
混合成分としては9例えばジアジン、4H−3゜l−ベ
ンゾオキサジン誘導体、ベンゾチアジアジノン、N−フ
ェニルカルバメート、チオールカルバメート、ハロゲン
カルボン酸、トリアジン、アミド、尿素、ジフェニルエ
ーテル、ドリアジノン。
ウラシル、ベンゾフラン誘導体、シクロヘキサン−1,
3−ジオン誘導体及びその他が該当する。
更に1本発明による新規化合物を単独でまたは別の除草
剤と組み合わせたものを更にまた別の植物保護剤1例え
ば害虫又は植物病原性真菌類もしくはバクテリアを防除
するための薬剤と混合して散布するのが有利である場合
もある。更に、養分及び微量元素不足を補充するために
使用される無機塩との混合可能性も重要である。また、
非植物毒性の油及び油濃縮物を添加することもできる。
実施例 次に、実施例により本発明の詳細な説明する。
実施例/ ヒドラジン水和物25g (0,5モル)及びトリエチ
ルアミン50g (0,5モル)をジメトキシエタン5
00d中に溶かした。該溶液中に、水冷下に3゜7−シ
クロルキノリンー8−カルボン酸クロリド130 g 
(0,5モル)を、温度が20℃を越えないように徐々
に装入した。室温で3時間攪拌した後に溶剤を回転蒸発
器で除去し、該残留物を水中に回収しかつ吸引濾過した
。融点136℃の3.7−シクロルキノリンー8−カル
ボン酸ヒドラジド(化合物A l ) 101.5 g
が得られた。
同様にして、以下の第1表に記載の化合物実施例が得ら
れた: 19   01  −NH−302−06H5163実
施例21 3、’y−ジクロルキノリンー8−ヒドロキサム@−0
−エチルエステル 3.7−シクロルキノリンー8−カルボン酸り四リド1
3.0 g (50ミリモル)をジメトキシエタン50
1R1中に懸濁させかつ0−エチルヒドロキシルアミン
−ヒドロクロリド5.8g(60ミリモル)並びにトリ
エチルアミン15g (:L5050モル)を加えた。
室温で5時間攪拌した後に、溶剤を回転蒸発器で除去し
、残留物を水で磨砕しかつ吸引濾過した。融点140℃
の生成物11.0 g (77%)(化合物屋21)が
得られた。
実施例−コ H,M−ジメチル−N’−(?−クロルー3−メチルー
8−キノリノイル)−ホルムアミジン7−クロル−3−
メチルキノリン−8−カルボキシアミド55.1 g 
(o、g5モル)をM、N−ジメチルホルムアミド50
d中に溶かし、N、N−ジメチルホルムアミド−ジメチ
ルアセタール39.3g(0,32モル)を加えかつ還
流下に4時間加熱した。
エーテルで沈殿させた後に、無色の結晶、融点183〜
185°C(分解)、 44.0 g (64%)が得
られた(化合物屋22)。
以下の第2表に示した実施例は、*似した方法で得られ
たものである。
第2表 −Y I 23  0H3−N=O(OH3)−N(OHs)、 
   14124  01−N=O(01(S)−N(
O穐)、    20525   C1−N=OH−M
(OH,)、      235実施例コ≦ N−(7−クロル−3−メチル−キノリノイル)−ホル
ムアミドオキシム 実施例2コからのアミジン13.8 g (50ミリモ
ル)を、氷酢酸50117中に懸濁させ、ヒドロキシア
ンモニウム塩酸塩a、gg(6oミリモル)及び酢酸ナ
トリウム5.0g(60ミリモル)を加え、還流下に5
時間加熱し、水で沈殿させかつ吸引濾過した。
上記化合物(化合物426)、融点235〜238℃。
6、o g (45%)が得られた。
同様にして、相応する3−クロルキノリン誘導体(化合
物42? ) 、誘導体220 =−230’Cが得ら
れ主・ 実施例コ! 2−(7−クロル−3−メチルキノリン−8−イル)−
1,3,4−オキシジアゾール7−クロル−3−メチル
キノリン−8−カルボン酸ヒドラジド(化合物A 8 
) 12.0 g (50ミリモ°ル)ヲトリエチルオ
ルトホルミエート中で120℃に3時間加熱しかつ相応
するアルコールを留去した。過剰のオルトエステルを除
去しかつエーテルで磨砕した後に、上記化合物(化合物
A2B ) +融点165℃、 9.4 g (77%
)が得られた。
同様にして、第3表の化合物Icが得られた。
第3表 ?=2 実施例3コ 5−(3,7−ジクロルキノリン−8〜イル)−1,3
,4−オキシジアゾール−2−カルボキシアミド 化合物A426.0g(80ミリモル)をポリホスホン
酸100g中で130℃で6時間攪拌した。その後、水
中に攪拌混入しかつ一晩に亘って晶出させた。上記化合
物(化合物A31)、融点220 ’C(分解)、16
.3gが得られた。
実施例33 5−(3,7−シクロルキノリンー8−イル)−1,3
,4−オキシジアゾール−2−オン3.7−シクロルキ
ノリンー8−カルボン酸ヒドラジド(化合物A l )
 1z、s g (50ミリモル)をジメトキシエタン
100d中に懸濁させ、ピリジン7.9 g (100
ミリモル)を加えかつその後ホスゲンを25℃で4時間
に亘って導入した。過剰のホスゲン及び溶剤を除去した
後に、水中に攪拌混入し、かつ吸引濾過した: 8.7
 g (62%)、融点=87℃(化合物黒33)。
同様にして、3−メチル誘導体、融点232℃(化合物
煮34)が得られた。
実施例3! 4.5−ジヒドロ−2−(3,7−シクロルキノリンー
8−イル)−オキサゾール 化合物屋1420.9 g (80ミリモル)を、塩化
チオニル6oIILl中で還流下に4時間加熱した。氷
上で晶出させかつ上記化合物(化合物A35)、融点1
45°C,18,3g (86%)を得た。
同様にして、第4表に記載の化合物(aが製造された。
第4表 ?=2 実施例39 3−(7−クロル−3−メチルキ/リン−8−イル)−
1,2,4−)リアゾール 化合物A 2113.8 g (50ミリモル)をヒド
ラジン水和物3.0 g (60ミIJモル)と氷酢酸
50m中で70℃で4時間攪拌した。水で析出させかつ
吸引濾過した後に、上記化合物(化合物A39)、融点
274〜276℃、  9.5 g (78%)が得ら
れた。
同様にして、第5表の化合物IOが製造された。
第5表 O=x  −N H Nゴ −N 実施例1 3、 7−シクロルキノリンー8−ヒドロキサム酪クロ
リド塩酸塩 クロロホルム中の3.7−シクロルキノリンー8−アル
ドキシム48.2g (0,2ミリモル)の懸濁液中に
、40°Cで3時間塩素を導入し、吸引濾過し。
エーテルで洗浄しかつ乾燥した: 59.3 g(95
%)、融点〉3oO°C(化合物屋45)。
同様にして、3,7−シクロルキノリンー8−ヒドロキ
サム酸−プロミド−臭素酸塩(化合物盃46)が得られ
た。
実施例117 3.7−シクロルキノリンー8−二トリルオキシド 化合物IG 45 15.6 g (50ミリモル)を
10%の炭酸す) IJウム溶液100m/中に攪拌導
入し、室温で2時間攪拌しかつ吸引濾過した2108g
(90%)、融点185°C(化合物扁47)。
また、同様にして化合物A 46からニトリルオキシド
が得られる。
実施例I1.r 3−(ぎ、ゲージクロルキノリン−ぎ−イル)−1,2
−オキサゾール−4,5−ジカルボン酸ジメチルエステ
ル 3.7−シクロルキノリンー8−二トリルオキシド(化
合物屋47 )  12.0 g (5own )をジ
メトキシエタン100 mに懸濁させ、アセチレンジカ
ルボン酸ジメチルエステル8.50 g(60yd )
を加えかつ還流下に4時間加熱した。水で析出させ、吸
引濾過しかつ乾燥した後に、上記化合物(化合物屋48
)、融点1356C,17,8g (93%)が得られ
た。
同様にして、第6表に記載の化合物Idが得られた。
第6表 00、H5 CへOH。
実施例j9 3.7−シクロルキノリンー8−ヒドロキサムfi−(
カルボキシメチルチオ)エステル3.7−シクロルキノ
リンー8−二トリルオキシド(化合物屋4’7 )  
12.0 g (50ミリモル)をジメトキシエタン1
0〇−中に懸濁させかつメルカプト酢#5.6g(60
ミリモル)を加えた。室温で6時間攪拌した後に、溶剤
を除去し、水を加えかつegl濾過した7 13.5 
g (81%)、融点174°C(化合物扁59)。
同様にして、第7表に記載の化合物Iθが得られた。
第7表 60 、     NH,112 6100H3130 実施例6λ 3.7−ジクロル−8−プロピオニルキノリン無水テト
ラヒドロフラン30m/中でエチルプロミド7.2 g
 (6oミリモル)及びマグネシウム粉末1.6 g 
(60ミリモル)から製造したグリニヤールV薬の溶液
を、−70’Cで無水テトラヒドロフラン25m/中の
3.ツージクロルキノリン−8−カルボン酸メチルエス
テル6.4 g (25t’リモル)の懸濁液中に滴加
しかつ該混合物を徐々に室温に戻した。
その後、氷上に注ぎ、10%の塩酸で酸性にしかつ乾燥
した: 4.5 g (71%)、融点108〜110
℃(化合物&62)。
同様にして、7−クロル−3−メチル−8−プロピオニ
ルキノリン(化合物扁63)が得られた。
実施例6ダ 3− (7’−クロル−3′−メチルキノリン−8′−
イル)プロパン−3−オンカルボン酸エチルエステル 7−クロル−3−メチルキノリン−8〜カルボン酸メチ
ルエステル70.8g (0,3モル)を酢酸エステル
150d中に懸濁させ、80%に水素化ナトリウム16
gを添加しかつ該混合物を還流下に5時間加熱した。氷
上に注ぎかつ希塩酸で酸性にした後に、吸引濾過しかつ
乾燥させた; 51 g (58%)。
融点143〜146°C(化合物應64)。
適用実施例 試験植物の生長に対する置換されたキノリン−8−カル
ボン酸アミドの除草作用効果は、以下の温室実験で証明
された。
栽培容器としては、容積300 dlを有しかつ培養土
として腐食土約3%を有するローム砂を入れたプラスチ
ック製栽培容器を使用した。ダイズ栽培の場合には、良
好な生育状態を得るために、泥炭に槽上を加えた。試験
植物を種類毎に分けて蒔いた。
発芽前処理法においては1種を蒔いた直後に有効物質を
土壌面に散布した。この場合、有効物質は希釈剤として
水中に分散させるか又は乳化させかつ微細分ノズルを用
いて噴霧した。使用量は有効物質0.5及び2.0kg
/haであった。該薬剤を散布した後に1発芽及び生長
を促進させるために。
容器に軽く水を撒いた。その後に、容器に植物が発芽す
るまで、プラスチックフードをかぶせた。
この覆いは、試験植物が有効物質によって薬害を受けな
い限り、試験植物に均一な発芽を保証した。
発芽後処理法のためには、試験植物をそれぞれの生長形
に基づき3〜15cmの生長高さまで成育させかつその
後に、水中に懸濁又は乳化させて調製した有効物質で、
微細分ノズルで噴霧することにより処理した。この場合
には、直接種を蒔きかつ同じ容器で生長した植物を赤択
するか、又はまず苗として別に植え付けかつ処理の数日
前に実験容器に移植した。発芽後処理法のための使用量
は。
その都度の有効物質に基づき変更し、該使用量は有効物
質2.0及び3.0 kg / haであった。覆いは
発芽後処理法の際には行わなかった。
実験容器を温室内に設置した。その際高温を好む品種の
ためには暑い範囲(20〜30°C)をかつ適度の気候
を好む品種のためには10〜20℃の温度範囲を設定し
た。実験期間は2〜4週間であった。この期間中に植物
の世話をしかつその個々の処理に対する反応を評価した
実験では、以下の試験植物を使用した。
オートムギ(Avena 5ativa )ハブソウ(
0assia tora )ヤグルマギク(aenta
urea cyanus )イヌビエ(Echinoc
hloa crus galli )ヤエムグラ(Ga
lium aparine )ダイス(G17cine
 max ) イモ属(工pomoea spp、) イネ(0ryza eativa ) イヌノフグリ属(Veronica spp、)トウモ
ロコシ(Zea mays ) 有効物質3.Okg/haでの発芽後処理法において。
例えば化合物扁1及び7はその好ましくない双子葉植物
に対する除草作用において、公知の有効物質A(ヨーロ
ッパ特許第60429号明細書の実施例34)を明らか
に上回っていた。
化合物属4及び1oは1発芽後処理法において有効物質
3.0kg/haでガリウム・アバリン(GGall−
1u aparin )を防除するために適当であり、
しかも栽培植物のカラスムギには薬害を及ぼさなかった
化合物扁7を9発芽後処理法で選択した双子葉植物及び
単子葉植物を駆除するために使用した。
有効物質2.0kg/haで、ダイスもイネ栽培植物も
確認しうる薬害を受けずかつエキツクロア・クルスーガ
リ及びカッシア・トラは十分に駆除した。
発芽前処理法において、化合物應1は有効物質0.5 
kg /haでかつ化合物屋7は有効物質2.0kg/
haで好ましくない双子葉植物に対して強度の除草特性
を示した。栽培植物のトウモロコシは薬害を受けなかっ
た。
また1発芽前処理法において、化合物扁7は有害植物例
えばエキツクロア・タルスーガリ及びイボモニアを防除
するために適当であり、この場合ダイスは薬害を受けな
かった。
化合物屋32は発芽前処理法においてもまた発芽後処理
法においても、有効物質1.Okg/haでエキツクロ
ア・クルスーガリ及びベロニカ種に対して。
いかなる場合も栽培植物に薬害を及ぼすことなく有効で
あった。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、 R^1はハロゲン原子又はC_1〜C_4−アルキル基
    を表し、 Xはハロゲン原子を表し、 Zは酸素原子、ヒドロキシイミノ基、C_1〜C_4−
    アルコキシイミノ基又はヒドラゾノ基を表し、該基はC
    _2−C_3−アルキル基、C_1〜C_4−アルコキ
    シカルボニル基、アリールスルホニル基、1,3−オキ
    サゾール−2−イル基又は1,3−チアゾール−2−イ
    ル基によって置換されており、この際最後に挙げた複素
    環式基もC_1〜C_4−アルキル基、C_2〜C_2
    −ヒドロキシアルキル基又はヒドロキシル基によって置
    換されており、かつ YはZが酸素原子を表す場合には、基:−NR^2R^
    3(該式中、R^2は水素原子及びR^3はC_1〜C
    _4−ヒドロキシアルキル基、C_1〜C_4−アルコ
    キシ基、又は−C≡N又はC_2〜C_5−アルコキシ
    カルボニル基によって置換されたC_2〜C_4−アル
    ケニル基、又は場合により置換されたアリールスルホニ
    ル基、1,3−オキサゾール−2−イル基又は1,3−
    チアゾール−2−イル基を表し、又はR^2とR^3は
    一緒に、C_1〜C_4−ジアルキルアミノ基、ヒドロ
    キシアミノ基又はC_1〜C_4−アルコキシアミノ基
    によって置換されたC_1〜C_4−アルキリデン基を
    表し);場合によりC_2〜C_5−アルキルカルボニ
    ル基、C_2〜C_5−アルコキシカルボニル基、C_
    1〜C_4−アシル基、C_2〜C_6−アルキリデン
    基、チオカルバモイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
    −オキサリル基、アミノ−オキサリル基又は場合により
    メチル、クロル、ブロム又はニトロ置換基によって置換
    されたアリールスルホニル基によって置換されたヒドラ
    ジノ基;場合によりC_2〜C_5−アルコキシカルボ
    ニル基によって置換されたC_1〜C_4−アルキル基
    ;又はC_1〜C_4−ジアルキルアミノ基又はC_4
    〜C_6−アルキレンイミノ基によって置換されたC_
    3〜C_8−シクロアルケニル基を表し、 ZがC_1〜C_4−アルコキシイミノ基又は前記の置
    換されたヒドラゾノ基を表す場合には、水素原子又はハ
    ロゲン原子を表し、かつ Zがヒドロキシイミノ基を表す場合には、ハロゲン原子
    、アミノ基、C_1〜C_4−アルコキシ基又はC_1
    〜C_4−アルキルチオ基を表し、該基はカルボキシ基
    又はC_2〜C_5−アルコキシカルボニル基によって
    置換されており、 又は式中基: ▲数式、化学式、表等があります▼ は基:−C≡N^■−O^■又は5員環の複素環式基を
    表し、該複素環式基は窒素原子の他に、窒素原子、酸素
    原子及び硫黄原子から成る群から選択される1又は2個
    の別の複素原子、並びに1又は2個の二重結合を有し、
    かつ場合により置換及び/又は別の炭素環又は複素環に
    よって縮合環化されておりかつ炭素原子を介してキノリ
    ン環に結合されている〕で示されるキノリン誘導体。
  2. (2)式 I 中、 R^1は塩素原子又はメチル基を表し、 Xは塩素原子を表し、 Zは酸素原子、ヒドロキシイミノ基、C_1〜C_4−
    アルコキシイミノ基又はヒドラゾノ基を表し、該基はC
    _2〜C_4−アルキル基、C_1〜C_4−アルコキ
    シカルボニル基、アリールスルホニル基、1,3−オキ
    サゾール−2−イル基又は1,3−チアゾール−2−イ
    ル基によって置換されており、この際最後に挙げた複素
    環式基もC_1〜C_4−アルキル基、C_2〜C_4
    −ヒドロキシアルキル基又はヒドロキシル基によって置
    換されており、かつ YはZが酸素原子を表す場合には、基:−NR^2R^
    3(該式中、R^2は水素原子及びR^3はC_2〜C
    _4−ヒドロキシアルキル基、C_1〜C_4−アルコ
    キシ基、又は−C≡N又はC_2〜C_5−アルコキシ
    カルボニル基によって置換されたC_2〜C_4−アル
    ケニル基、又は場合により置換されたアリールスルホニ
    ル基、1,3−オキサゾール−2−イル基又は1,3−
    チアゾール−2−イル基を表し、又はR^2とR^3は
    一緒に、C_1〜C_4−ジアルキルアミノ基、ヒドロ
    キシアミノ基又はC_1〜C_4−アルコキシアミノ基
    によって置換されたC_1〜C_4−アルキリデン基を
    表し);場合によりC_2〜C_5−アルキルカルボニ
    ル基、C_2〜C_5−アルコキシカルボニル基、C_
    1〜C_4−アシル基、C_2〜C_6−アルキリデン
    基、チオカルバモイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
    −オキサリル基、アミノ−オキサリル基又は場合により
    メチル、クロル、ブロム又はニトロ置換基によって置換
    されたアリールスルホニル基によって置換されたヒドラ
    ジノ基;場合によりC_2〜C_5−アルコキシカルボ
    ニル基によって置換されたC_1〜C_4−アルキル基
    ;又はC_1〜C_4−ジアルキルアミノ基又はC_4
    〜C_6−アルキレンイミノ基によって置換されたC_
    3〜C_8−シクロアルケニル基を表し、 ZがC_1〜C_4−アルコキシイミノ基又は前記の置
    換されたヒドラゾノ基を表す場合には、水素原子又はハ
    ロゲン原子を表し、かつ Zがヒドロキシイミノ基を表す場合には、ハロゲン原子
    、アミノ基、C_1〜C_4−アルコキシ基又はC_1
    〜C_4−アルキルチオ基を表し、該基はカルボキシ基
    又はC_2〜C_5−アルコキシカルボニル基によって
    置換されており、 又は式中基: ▲数式、化学式、表等があります▼ は基:−C≡N^■−O^■又は5員環の複素環式基を
    表し、該複素環式基は窒素原子の他に、窒素原子、酸素
    原子及び硫黄原子から成る群から選択される1又は2個
    の別の複素原子、並びに1又は2個の二重結合を有し、
    かつ場合により置換及び/又は別の炭素環又は複素環に
    よって縮合環化されておりかつ炭素原子を介してキノリ
    ン環に結合されている、特許請求の範囲第1項記載のキ
    ノリン誘導体。
  3. (3)式 I 中、R^1がハロゲン原子、Xがハロゲン
    原子、Zが酸素原子、Yが基:−NHR^3及びR^3
    がC_1〜C_4−アルコキシ基を表す、特許請求の範
    囲第1項記載のキノリン誘導体。
  4. (4)不活性添加物及び式: ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中、 R^1はハロゲン原子又はC_1〜C_4−アルキル基
    を表し、 Xはハロゲン原子を表し、 Zは酸素原子、ヒドロキシイミノ基、C_1〜C_4−
    アルコキシイミノ基又はヒドラゾノ基を表し、該基はC
    _2〜C_3−アルキル基、C_1〜C_4−アルコキ
    シカルボニル基、アリールスルホニル基、1,3−オキ
    サゾール−2−イル基又は1,3−チアゾール−2−イ
    ル基によって置換されており、この際最後に挙げた複素
    環式基もC_1〜C_4−アルキル基、C_2〜C_4
    −ヒドロキシアルキル基又はヒドロキシル基によって置
    換されており、かつ YはZが酸素原子を表す場合には、基:−NR^2R^
    3(該式中、R^2は水素原子及びR^3はC_1〜C
    _4−ヒドロキシアルキル基、C_1〜C_4−アルコ
    キシ基、又は−C≡N又はC_2〜C_5−アルコキシ
    カルボニル基によって置換されたC_2〜C_4−アル
    ケニル基、又は場合により置換されたアリールスルホニ
    ル基、1,3−オキサゾール−2−イル基又は1,3−
    チアゾール−2−イル基を表し、又はR^2とR^3は
    一緒に、C_1〜C_4−ジアルキルアミノ基、ヒドロ
    キシアミノ基又はC_1〜C_4−アルコキシアミノ基
    によって置換されたC_1〜C_4−アルキリデン基を
    表し);場合によりC_2〜C_5−アルキルカルボニ
    ル基、C_2〜C_5−アルコキシカルボニル基、C_
    1〜C_4−アシル基、C_2〜C_6−アルキリデン
    基、チオカルバモイル基、C_1〜C_4−アルコキシ
    −オキサリル基、アミノ−オキサリル基又は場合により
    メチル、クロル、ブロム又はニトロ置換基によって置換
    されたアリールスルホニル基によって置換されたヒドラ
    ジノ基;場合によりC_2〜C_5−アルコキシカルボ
    ニル基によって置換されたC_1〜C_4−アルキル基
    ;又はC_1〜C_4−ジアルキルアミノ基又はC_4
    〜C_6−アルキレンイミノ基によって置換されたC_
    3〜C_8−シクロアルケニル基を表し、 ZがC_1〜C_4−アルコキシイミノ基又は前記の置
    換されたヒドラゾノ基を表す場合には、水素原子又はハ
    ロゲン原子を表し、かつ Zがヒドロキシイミノ基を表す場合には、ハロゲン原子
    、アミノ基、C_1〜C_4−アルコキシ基又はC_1
    〜C_4−アルキルチオ基を表し、該基はカルボキシ基
    又はC_2〜C_5−アルコキシカルボニル基によって
    置換されており、 又は式中基: ▲数式、化学式、表等があります▼ は基:−C≡N^■−O^■又は5員環の複素環式基を
    表し、該複素環式基は窒素原子の他に、窒素原子、酸素
    原子及び硫黄原子から成る群から選択される1又は2個
    の別の複素原子、並びに1又は2個の二重結合を有し、
    かつ場合により置換及び/又は別の炭素環又は複素環に
    よって縮合環化されておりかつ炭素原子を介してキノリ
    ン環に結合されている〕で示されるキノリン誘導体を含
    有する除草剤。
JP61262063A 1985-11-26 1986-11-05 キノリン誘導体及び該化合物を含有する除草剤 Pending JPS62126175A (ja)

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JPH09503820A (ja) * 1993-08-05 1997-04-15 エコ テック リミテッド 揮発性酸の再生方法及び装置
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