JPS62124799A - Glass ceramic multilayer substrate - Google Patents

Glass ceramic multilayer substrate

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JPS62124799A
JPS62124799A JP26450285A JP26450285A JPS62124799A JP S62124799 A JPS62124799 A JP S62124799A JP 26450285 A JP26450285 A JP 26450285A JP 26450285 A JP26450285 A JP 26450285A JP S62124799 A JPS62124799 A JP S62124799A
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JP
Japan
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glass
powder
ceramic
multilayer substrate
alumina powder
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Application number
JP26450285A
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Japanese (ja)
Inventor
佳彦 今中
横山 博三
重憲 青木
亀原 伸男
坂井 強志
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C14/00Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix
    • C03C14/004Glass compositions containing a non-glass component, e.g. compositions containing fibres, filaments, whiskers, platelets, or the like, dispersed in a glass matrix the non-glass component being in the form of particles or flakes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2214/00Nature of the non-vitreous component
    • C03C2214/04Particles; Flakes

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔4既要〕 ガラスセラミック多層基板の上下層を熱膨張係数の少な
い耐熱性セラミック粉末を分散したガラスセラミックで
形成することによりガラス相の破壊を無くし、強度化を
実現した多層基板。
[Detailed Description of the Invention] [4 Already Required] By forming the upper and lower layers of the glass ceramic multilayer substrate from glass ceramic in which heat-resistant ceramic powder with a low coefficient of thermal expansion is dispersed, destruction of the glass phase is eliminated and strength is achieved. multilayer board.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明は機械的強度を向上したガラスセラミック多層基
板の構成に関する。
The present invention relates to the structure of a glass-ceramic multilayer substrate with improved mechanical strength.

情報処理の高速化と大容量化を実現するためにIC,L
SIなどの半導体装置はこれを構成する単位素子の小形
化が進み、またパッシベーション技術の進歩とも相持っ
て半導体チップのままで大容量素子が基板に装着される
ようになった。
IC, L to achieve faster information processing and larger capacity
In semiconductor devices such as SI, the unit elements constituting these devices have become smaller, and with advances in passivation technology, large-capacity elements have come to be mounted on substrates without changing the semiconductor chip.

すなわち、セラミックスからなるプリント配線基板に複
数個のLSIチップを装着してLSIモジュールを作り
、これを取り替え単位として従来のプリント配線基板に
搭載する方向に進んでいる。
That is, the trend is to create an LSI module by mounting a plurality of LSI chips on a printed wiring board made of ceramics, and to mount this LSI module on a conventional printed wiring board as a replacement unit.

本発明はか\るセラミック回路基板の改良に関するもの
である。
The present invention relates to improvements in such ceramic circuit boards.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

セラミック回路基板の必要条件は、 ■多層構成で熱伝導のよいこと。 Ceramic circuit board requirements are: ■Multilayer structure with good heat conduction.

■微細な導体パターンの形成が可能なこと。■It is possible to form fine conductor patterns.

■信号の伝送特性が優れていること。■Excellent signal transmission characteristics.

などである。etc.

すなわちLSIチップは多数の端子を備えているが、セ
ラミック基板にはかかるLSIチップを複数個装着する
ことから端子数すなわち配線数は厖大になり、そのため
多層配線構造となり、また導体パターン幅は極めて狭く
形成することが必要となる。
In other words, LSI chips are equipped with a large number of terminals, but since multiple such LSI chips are mounted on a ceramic substrate, the number of terminals, that is, the number of wires, becomes enormous, resulting in a multilayer wiring structure, and the conductor pattern width is extremely narrow. It is necessary to form.

ここで、多層配線は信号線、電源線、接地線などによっ
て構成されるが、信号の周波数が高いために層間或いは
配線間の漏話(クローストーク)や信号の遅延が少ない
ことが必要である。
Here, the multilayer wiring is composed of signal lines, power supply lines, ground lines, etc., and since the signal frequency is high, it is necessary that crosstalk between layers or wirings and signal delay be small.

また、配線の発熱を抑制するために配線基板は熱伝導の
よい材料で構成されていることが必要である。
Further, in order to suppress heat generation in the wiring, the wiring board needs to be made of a material with good thermal conductivity.

ここでアルミナ(α−八へ 20 C1)セラミックス
は耐熱性、熱伝導性および誘電的性質が優れることから
従来から単層の基板として使われてきたが、これを用い
て上記の要求を満たした多層基板を形成することは困難
である。
Here, alumina (α-8 to 20 C1) ceramics has traditionally been used as a single-layer substrate due to its excellent heat resistance, thermal conductivity, and dielectric properties. Forming multilayer substrates is difficult.

すなわちアルミナセラミックスは焼結温度が約1600
℃と高く、そのため配線パターン形成材料としてモリブ
デン(Mo)やタングステン(W)のような特殊な高融
点金属しか使えず、そのため配線パターンの抵抗が高く
、また微細な配線パターンが形成しにくい。
In other words, the sintering temperature of alumina ceramics is approximately 1600℃.
℃, and therefore only special high-melting point metals such as molybdenum (Mo) and tungsten (W) can be used as wiring pattern forming materials, resulting in high resistance of wiring patterns and difficulty in forming fine wiring patterns.

以上のことから、多層基板の構成材料としてアルミナ粉
末を低損失の硼硅酸ガラスに分散したガラスセラミック
が使用されるようになった。
For these reasons, glass ceramics, in which alumina powder is dispersed in low-loss borosilicate glass, have come to be used as constituent materials for multilayer substrates.

このものの長所は、 ■焼結温度が約1000°Cと低いために作業性が良(
、配線パターン材料として金(Au)や銅(Cu)のよ
うな抵抗率の低い金属を使用でき、また微細パターンが
形成できること、 ■アルミナセラミックスと較べて誘電率の低い基板を作
ることができ、従って電気的特性が良いこと、 などを挙げることができる。
The advantages of this product are: ■ Good workability due to the low sintering temperature of approximately 1000°C (
, metals with low resistivity such as gold (Au) and copper (Cu) can be used as wiring pattern materials, and fine patterns can be formed; ■ substrates with a lower dielectric constant than alumina ceramics can be made; Therefore, it can be mentioned that it has good electrical characteristics.

然し、硼珪酸ガラスの熱膨張係数は約3XIO−’/℃
と小さいが、アルミナの熱膨張係数は8×10−6/°
Cと大きいために熱処理が終わって基板温度が常温に戻
る際にガラス基板の内部に張力が働き、ガラス相の破壊
が起こり易いと云う問題があり、改良が必要である。
However, the coefficient of thermal expansion of borosilicate glass is approximately 3XIO-'/℃
Although it is small, the coefficient of thermal expansion of alumina is 8 × 10-6/°
Because of the large C, there is a problem in that tension acts inside the glass substrate when the substrate temperature returns to room temperature after the heat treatment, and the glass phase is likely to be destroyed, which requires improvement.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

以上記したように半導体チップの装着に使用されている
多層配線基板の構成材料としてはアルミナ粉を分散させ
たガラスセラミックスが使用されているが、ガラスとこ
の中に分散しているアルミナ粉との熱膨張係数が違うた
めに熱処理工程後にガラス相の破壊が起こり、微細なひ
び割れを生じて信頼性を損なうと云う問題があり、改良
が要望されていた。
As mentioned above, glass-ceramics with alumina powder dispersed in them are used as constituent materials for multilayer wiring boards used to mount semiconductor chips. Due to the difference in thermal expansion coefficients, the glass phase breaks down after the heat treatment process, causing fine cracks and impairing reliability, and improvements have been desired.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

上記の問題はアルミナ粉末を分散したガラスを用いて形
成した後、バイアを作り、配線パターンを印刷した第1
のグリンシートと、前記アルミナ粉末よりも熱膨張係数
の小さな耐熱性セラミック粉末を分散したガラスを用い
て形成した後、バイアを作り、配線パターンを印刷した
第2のグリンシートとを用意し、複数枚の第1のグリン
シートを第2のグリンシートで挟持するよう位置決めし
て積層した後に焼成して一体化することを特徴とするガ
ラスセラミック多層基板の使用により解決することがで
きる。
The above problem can be solved by using glass with alumina powder dispersed in it, then creating vias and printing a wiring pattern.
A second green sheet is prepared using glass in which a heat-resistant ceramic powder having a coefficient of thermal expansion smaller than that of the alumina powder is dispersed, and a second green sheet is prepared in which vias are formed and a wiring pattern is printed. This problem can be solved by using a glass-ceramic multilayer substrate, which is characterized in that two first green sheets are positioned so as to be sandwiched between second green sheets, stacked, and then baked and integrated.

[作用〕 本発明は熱膨張係数の相違が原因するガラス相の破壊を
無くする方法として、熱膨張係数がガラスに近く、また
耐熱性と誘電的特性が優れ、且つガラスセラミック層を
形成した場合にこの曲げ強さがアルミナ分散のガラスセ
ラミックよりも強いセラミック粉末を分散したガラスセ
ラミックを多層基板の上下層として用いることにより、
この問題を解決するものである。
[Function] The present invention provides a method for eliminating destruction of the glass phase caused by differences in thermal expansion coefficients. By using glass ceramic dispersed with ceramic powder, which has higher bending strength than glass ceramic dispersed with alumina, as the upper and lower layers of a multilayer substrate,
This problem is solved.

すなわち、多層基板の上下層には半導体チップが密に搭
載され、ポンディングパッドからの配線パターンは殆ど
の場合、直ちにバイアを通って内部に導かれることから
、多層基板の内部層には従来のようにアルミナ分散のガ
ラスセラミックを用いるものである。
In other words, semiconductor chips are densely mounted on the upper and lower layers of a multilayer board, and in most cases the wiring pattern from the bonding pad is immediately led inside through vias, so the internal layers of the multilayer board are This method uses alumina-dispersed glass ceramic.

ここで、かかる目的に適したセラミックス材料の熱膨張
係数とガラスセラミンクの曲げ強さを従来と比較して示
すと次表に示すようになる。
The following table shows a comparison of the thermal expansion coefficient of ceramic materials suitable for such purposes and the bending strength of glass-ceramink with conventional materials.

次に多層基板の製法としてはアルミナ粉を分散させたガ
ラスセラミック層を作ると同様にこれらのセラミックス
を均一に分散したグリンシートを作り、所定の位置にバ
イアホールを打抜くと共に導体パターンを印刷して乾燥
し、別に形成したアルミナ分散のグリンシートと正確に
位置決めし、加圧して一体化したのち、高温焼成を行っ
て融着させるものである。
Next, the manufacturing method for the multilayer board is to create a glass-ceramic layer with alumina powder dispersed in it, create a green sheet in which these ceramics are evenly dispersed, punch via holes in predetermined positions, and print a conductor pattern. It is then dried, accurately positioned with a separately formed alumina-dispersed green sheet, and integrated under pressure, followed by high-temperature firing and fusion.

以下実施例について示すと次のようになる。Examples will be described below.

実施例1: 粒径が3〜6μmのアルミナ粉末を350g、硼硅酸ガ
ラスを350g、バインダとしてポリビニルブチラード
(以下略してPVB)を80g、可塑剤としてシフ゛チ
ルフタレートを30g、溶斉りとしてアルコール100
gとアセトン700gを混合し、ボールミルを用いて2
0時間に互って混練してスラリーを作り、これにドクタ
ブレード法を適用して厚さ約300 μmのグリンシー
トを作り、150 mm角に打ち抜いた。
Example 1: 350 g of alumina powder with a particle size of 3 to 6 μm, 350 g of borosilicate glass, 80 g of polyvinyl butylade (hereinafter abbreviated as PVB) as a binder, 30 g of cyphytyl phthalate as a plasticizer, and 350 g of borosilicate glass as a binder. alcohol 100
Mix 700g of acetone and 700g of acetone, and use a ball mill to
A slurry was prepared by kneading each other for 0 hours, and a doctor blade method was applied to the slurry to form a green sheet with a thickness of about 300 μm, which was punched into 150 mm square pieces.

またアルミナ粉末の代わりに粒径が約1μmの炭化硅素
(Si C)を用い、同様な方法で150 mm角のグ
リンシートを作っだ。
In addition, a 150 mm square green sheet was made in the same manner using silicon carbide (Si C) with a particle size of approximately 1 μm instead of alumina powder.

次に、かかるグリンシートの所定の位置に穴開けしてバ
イアホールを形成した後、導体パターンを印刷し、上下
層にSiCを分散したグリンシートを用いて10層に位
置合わせし、金型を用いて加圧し積層した。
Next, holes are drilled at predetermined positions in the green sheet to form via holes, a conductor pattern is printed, and ten layers are aligned using green sheets with SiC dispersed in the upper and lower layers, and the mold is assembled. was used to apply pressure and laminate.

これを窒素(N2)気流中で1000℃、4時間に互っ
て焼成してガラスセラミンク基板を得たが、従来のよう
なガラス相の破壊による微細クラックは全く認められな
かった。
This was fired in a nitrogen (N2) stream at 1000° C. for 4 hours to obtain a glass-ceramink substrate, but no fine cracks due to destruction of the glass phase were observed as in the prior art.

実施例2: 実施例1と同様にしてアルミナ粉末を用いてグリンシー
トを作り、またアルミナ粉末の代わりに窒化硅素(Si
3 N B )粉末を用い同様な方法を用いてグリンシ
ートを作った。
Example 2: A green sheet was made using alumina powder in the same manner as in Example 1, and silicon nitride (Si) was used instead of alumina powder.
A green sheet was made using the same method using 3N B ) powder.

そして、各グリシジ−1・にバイアを形成すると共に導
体パターンを印刷した。
Then, vias were formed in each grid-1 and a conductive pattern was printed.

かかるグリンシートを用い、上層と下層の各2層にはS
i3 N 4を分散したガラスセラミック層を使用し中
心部にはアルミナを分散したガラスセラミックス層を1
)重積層して加圧し、一体化しN2気流中で1000℃
、4時間に互って焼成し、多層セラミックを作った。
Using such a green sheet, each of the upper and lower layers contains S.
A glass-ceramic layer with i3N4 dispersed is used, and a glass-ceramic layer with alumina dispersed in the center is used.
) Laminated and pressurized, integrated and heated to 1000℃ in a N2 stream
, and fired for 4 hours to produce a multilayer ceramic.

かかる多層セラミックについてはガラス相の破壊による
微細クラックは全く認められなかった。
No microcracks due to destruction of the glass phase were observed in such multilayer ceramics.

実施例3: 実施例1と同様な方法でアルミナ粉末を分散したグリン
シートを作り、一方性径が3〜6μmのムライト (3
Al 203  ・2 SiO2)の粉末をアルミナ粉
末の代わりに用い、実施例1と同様な方法でそれぞれ1
50鶴角のグリンシートを作った。
Example 3: A green sheet with alumina powder dispersed therein was prepared in the same manner as in Example 1, and mullite (3
Al 203 ・2 SiO2) powder was used instead of alumina powder, and 1
I made a green sheet of 50 Tsurukaku.

そして回路に合わせて配線パターンを印刷すると共にバ
イアを形成し、上下の3層づつにムライトを分散したガ
ラスセラミ・7り層を使用し、実施例1と同様な条件で
焼成して30層の多層セラミックを形成したが、ガラス
相の破壊による微細なりラックは全く認められなかった
Then, a wiring pattern was printed to match the circuit, and vias were formed. Seven layers of glass ceramic were used in which mullite was dispersed in each of the upper and lower layers, and the 30-layer structure was baked under the same conditions as in Example 1. Although a multilayer ceramic was formed, no fine racks due to destruction of the glass phase were observed.

実施例4: 実施例1と同様な方法でアルミナ粉末を分散したグリン
シートを作り、一方性径が3〜6μmのジルコン(Zr
Si O4)の粉末をアルミナ粉末の代わりに用い、実
施例1と同様な方法でそれぞれ1501)1角のグリン
シートをイ乍った。
Example 4: A green sheet with alumina powder dispersed therein was prepared in the same manner as in Example 1, and zircon (Zr
A 1501) square green sheet was prepared in the same manner as in Example 1 using SiO4) powder instead of alumina powder.

そして回路に合わせて配線パターンを印刷すると共にバ
イアを形成し、上下の1層づつにムライトを分散したガ
ラスセラミック層を使用し、実施例1と同様な条件で焼
成して10層の多層セラミ・ツクを形成したが、ガラス
相の破壊による微細なりラックは全く認められなかワた
Then, a wiring pattern was printed in accordance with the circuit, and vias were formed. Glass-ceramic layers with mullite dispersed therein were used in each of the upper and lower layers, and were fired under the same conditions as in Example 1 to form a 10-layer multilayer ceramic. Although some cracks were formed, no fine racks due to destruction of the glass phase were observed.

実施例5: 実施例1と同様な方法でアルミナ粉末を分散したグリン
シートを作り、一方性径が3〜6μmのコージェライト
(2MgO・2 Al103 ・5 SiOz )の粉
末をアルミナ粉末の代わりに用い、実施例1と同様な方
法でそれぞれ150 n角のグリンシートを作った。
Example 5: A green sheet with alumina powder dispersed therein was made in the same manner as in Example 1, and cordierite (2MgO.2Al103.5SiOz) powder with a unilateral diameter of 3 to 6 μm was used instead of the alumina powder. In the same manner as in Example 1, green sheets each having a size of 150 n squares were made.

そして回路に合わせて配線パターンを印刷すると共にバ
イアを形成し、上下の3層づつにムライトを分散したガ
ラスセラミック層を使用し、実施例1と同様な条件で焼
成して20層の多層セラミックを形成したが、ガラス相
の破壊による微細なりラックは全く認められなかった。
Then, a wiring pattern was printed to match the circuit, and vias were formed. Glass ceramic layers with mullite dispersed therein were used in each of the upper and lower layers, and were fired under the same conditions as in Example 1 to form a 20-layer multilayer ceramic. However, no fine racks due to destruction of the glass phase were observed.

実施例6: 実施例1と同様な方法でアルミナ粉末を分散したグリン
シートを作り、一方性径が3〜6μmの窒化アルミニウ
ム(^I N )の粉末をアルミナ粉末の代わりに用い
、実施例1と同様な方法でそれぞれ150 mm角のグ
リンシートを作った。
Example 6: A green sheet with alumina powder dispersed therein was prepared in the same manner as in Example 1, and aluminum nitride (^IN) powder with a one-sided diameter of 3 to 6 μm was used instead of the alumina powder. Green sheets each measuring 150 mm square were made in the same manner as above.

そして回路に合わせて配線パターンを印刷すると共にバ
イアを形成し、上下の1層づつにムライトを分散したガ
ラスセラミック層を使用し、実施例1と同様な条件で焼
成して10層の多層セラミックを形成したが、ガラス相
の破壊による微細なりラックは全く認められなかった。
Then, we printed a wiring pattern to match the circuit, formed vias, used glass ceramic layers in which mullite was dispersed in each of the upper and lower layers, and fired them under the same conditions as in Example 1 to create a 10-layer multilayer ceramic. However, no fine racks due to destruction of the glass phase were observed.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上記したように本発明によれば−ヒラミ・ノクスの熱
膨張係数と硼硅酸ガラスとの熱膨張係数力(近似するた
めストレスの発生が少なく、そのため力゛ラス相の破壊
が生ぜず、また従来よりも曲番デク1度の高い強化多層
基板を作ることができる。
As described above, according to the present invention, the thermal expansion coefficient of Hirami-nox and the thermal expansion coefficient of borosilicate glass are close to each other, so less stress is generated, and therefore, the destruction of the stress glass phase does not occur. Furthermore, it is possible to produce a reinforced multilayer board with a higher track number than the conventional one.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)アルミナ粉末を分散したガラスを用いて形成した
後、バイアを作り、配線パターンを印刷した第1のグリ
ンシートと、前記アルミナ粉末よりも熱膨張係数の小さ
な耐熱性セラミック粉末を分散したガラスを用いて形成
した後、バイアを作り、配線パターンを印刷した第2の
グリンシートとを用意し、複数枚の第1のグリンシート
を第2のグリンシートで挟持するよう位置決めして積層
した後に焼成して一体化することを特徴とするガラスセ
ラミック多層基板。
(1) A first green sheet formed using glass in which alumina powder is dispersed, then vias are formed and a wiring pattern is printed, and glass in which heat-resistant ceramic powder having a coefficient of thermal expansion smaller than that of the alumina powder is dispersed. After forming vias using A glass-ceramic multilayer substrate characterized by being integrated by firing.
(2)アルミナ粉末よりも熱膨張係数の少ない耐熱性セ
ラミック粉末が炭化硅素からなることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のガラスセラミック多層基板。
(2) The glass-ceramic multilayer substrate according to claim 1, wherein the heat-resistant ceramic powder has a lower coefficient of thermal expansion than alumina powder and is made of silicon carbide.
(3)アルミナ粉末よりも熱膨張係数の少ない耐熱性セ
ラミック粉末が窒化硅素からなることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のガラスセラミック多層基板。
(3) The glass-ceramic multilayer substrate according to claim 1, wherein the heat-resistant ceramic powder having a coefficient of thermal expansion smaller than that of alumina powder is made of silicon nitride.
(4)アルミナ粉末よりも熱膨張係数の少ない耐熱性セ
ラミック粉末がムライトからなることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のガラスセラミック多層基板。
(4) The glass-ceramic multilayer substrate according to claim 1, wherein the heat-resistant ceramic powder has a coefficient of thermal expansion smaller than that of alumina powder and is made of mullite.
(5)アルミナ粉末よりも熱膨張係数の少ない耐熱性セ
ラミック粉末がジルコンからなることを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載のガラスセラミック多層基板。
(5) The glass-ceramic multilayer substrate according to claim 1, wherein the heat-resistant ceramic powder has a coefficient of thermal expansion smaller than that of alumina powder and is made of zircon.
(6)アルミナ粉末よりも熱膨張係数の少ない耐熱性セ
ラミック粉末がコージェライトからなることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のガラスセラミック多層基
板。
(6) The glass-ceramic multilayer substrate according to claim 1, wherein the heat-resistant ceramic powder has a coefficient of thermal expansion smaller than that of alumina powder and is made of cordierite.
(7)アルミナ粉末よりも熱膨張係数の少ない耐熱性セ
ラミック粉末が窒化アルミニウムからなることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載のガラスセラミック多層
基板。
(7) The glass ceramic multilayer substrate according to claim 1, wherein the heat-resistant ceramic powder having a coefficient of thermal expansion smaller than that of alumina powder is made of aluminum nitride.
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