JPS62123346A - 大気中還元ガスの選択的検出体に使用可能な窒化物及びオキシ窒化物とそれらを含む検出装置 - Google Patents
大気中還元ガスの選択的検出体に使用可能な窒化物及びオキシ窒化物とそれらを含む検出装置Info
- Publication number
- JPS62123346A JPS62123346A JP61075382A JP7538286A JPS62123346A JP S62123346 A JPS62123346 A JP S62123346A JP 61075382 A JP61075382 A JP 61075382A JP 7538286 A JP7538286 A JP 7538286A JP S62123346 A JPS62123346 A JP S62123346A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxynitride
- nitrogen
- nitride
- reducing gas
- ammonia
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/02—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
- G01N27/04—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
- G01N27/12—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T436/00—Chemistry: analytical and immunological testing
- Y10T436/17—Nitrogen containing
- Y10T436/173845—Amine and quaternary ammonium
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T436/00—Chemistry: analytical and immunological testing
- Y10T436/17—Nitrogen containing
- Y10T436/173845—Amine and quaternary ammonium
- Y10T436/175383—Ammonia
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、大気中の窒素含有還元ガス、特にアンモニア
やNH基及び/又はNH2基を有するガスの選択的検出
体として使用できる窒化物とオキシ窒化物、及び、これ
ら窒化物とオキシ窒化物先金む選択的検出装置に関する
ものである。
やNH基及び/又はNH2基を有するガスの選択的検出
体として使用できる窒化物とオキシ窒化物、及び、これ
ら窒化物とオキシ窒化物先金む選択的検出装置に関する
ものである。
(従来の技術)
従来の技術においては、検出パラメーターとして半導体
層の電気抵抗を用いているガスセンサーの大半のものは
、5n02又はZnO等の酸化物を多量に又は少ない量
でドープ(dope) して用いており、この酸化物は
種々のガスに比較的感応性がある。しかしながら、これ
等の酸化物は、その物理化学現象には関係なく、いずれ
も望ましい信頼度で窒素含有還元ガス、特にアンモニア
1−感応するものではない。従ってこれらのセンサー
(上記酸化物)は庁通一般の感応性9選択性、精度を有
してはいるが、その保存性に難があるばかりか、例えば
、アンモニアの選択的センサーとして有効に使用するこ
とができない欠点を有している。
層の電気抵抗を用いているガスセンサーの大半のものは
、5n02又はZnO等の酸化物を多量に又は少ない量
でドープ(dope) して用いており、この酸化物は
種々のガスに比較的感応性がある。しかしながら、これ
等の酸化物は、その物理化学現象には関係なく、いずれ
も望ましい信頼度で窒素含有還元ガス、特にアンモニア
1−感応するものではない。従ってこれらのセンサー
(上記酸化物)は庁通一般の感応性9選択性、精度を有
してはいるが、その保存性に難があるばかりか、例えば
、アンモニアの選択的センサーとして有効に使用するこ
とができない欠点を有している。
そこで本発明の目的は、特にアンモニア又は水分の存在
下で、広い温度範囲にわたって安定であると同時に、酸
素を吸着できて窒素含有還元ガス、特にアンモニアの検
出に有利である多数の他の化合物の使用を採用すること
により、」二記欠点を的確に克服することである。
下で、広い温度範囲にわたって安定であると同時に、酸
素を吸着できて窒素含有還元ガス、特にアンモニアの検
出に有利である多数の他の化合物の使用を採用すること
により、」二記欠点を的確に克服することである。
(問題点を解決するための手段)
本発明によれば、四面体構造の窒化物やオキシ窒化物は
大気中の窒素含有二元ガス、特にアンモニアやNH基及
び/又はNH2基を含むガスの選択的検出体として使用
され、この窒化物及びオキシ窒化物は、Li 、Na
、に、Be 、Mg 。
大気中の窒素含有二元ガス、特にアンモニアやNH基及
び/又はNH2基を含むガスの選択的検出体として使用
され、この窒化物及びオキシ窒化物は、Li 、Na
、に、Be 、Mg 。
Ca 、Sr 、Ba 、Zn 、Mnから成
る群から選択した金属、Si 、Ge 、P、AfL
、Gaから成る群から選択した第2元素、窒素、好まし
くは酸素を含んでいる。
る群から選択した金属、Si 、Ge 、P、AfL
、Gaから成る群から選択した第2元素、窒素、好まし
くは酸素を含んでいる。
本発明は、特に以下の一般式に相当する窒化物及びオキ
シ窒化物を窒素含有還元ガスの選択的検出体として使用
することに関する。
シ窒化物を窒素含有還元ガスの選択的検出体として使用
することに関する。
Z nt G eu Ov N w
((i)L≦t≦2 、o<u≦2.0≦vく2゜1<
w<3 、(ii)2t+4u=2v+3w。
w<3 、(ii)2t+4u=2v+3w。
(iii)(2t +4u+6v+5w)/ (t +
u+v+w)≧4〕。
u+v+w)≧4〕。
本発明は、さらに、以−ドの一般式に相当する亜鉛’j
’ IL ”Z二ら一オキシ窒化物を使用することに特
に関係する。
’ IL ”Z二ら一オキシ窒化物を使用することに特
に関係する。
ZnxG e Oy NZ
(1,47≦X≦1.90 、0.93≦y≦1.75
、1.28≦2≦1.89)。
、1.28≦2≦1.89)。
(作 用)
これらの窒化物やオキシ窒化物はアンモニアの存在下で
製造され、平常温度で物性上非常に安定であることから
考えて、これらの窒化物やオキシ窒化物は、このような
平常温度でアンモニアと直接反応しないという決定的な
利点を有している。
製造され、平常温度で物性上非常に安定であることから
考えて、これらの窒化物やオキシ窒化物は、このような
平常温度でアンモニアと直接反応しないという決定的な
利点を有している。
一方、これら窒化物が強い化学吸着により吸着する大気
中の酸素は、これら窒化物やオキシ窒化物の化学量論に
影響を与える調製条件に特に依存している温度範囲で、
アンモニアのような窒素含有還元ガスと可逆的に反応す
る。
中の酸素は、これら窒化物やオキシ窒化物の化学量論に
影響を与える調製条件に特に依存している温度範囲で、
アンモニアのような窒素含有還元ガスと可逆的に反応す
る。
(実 施 例)
これら窒化物及びオキシ窒化物は、木質的に既知の方法
、例えばアンモニアガスと、一方はLi 、Na
、に、Be 、Mg 、Ca 、Sr 。
、例えばアンモニアガスと、一方はLi 、Na
、に、Be 、Mg 、Ca 、Sr 。
Ba 、Zn 、Mnから成る群より選ばれた金属。
他方はSi 、Ge 、P、AM、Gaから成る群よ
り選ばれた元素の複酸化物とを、700℃から1000
℃までの間の温度で反応させることにより調製できる。
り選ばれた元素の複酸化物とを、700℃から1000
℃までの間の温度で反応させることにより調製できる。
例えば、様々な化学量論の亜鉛ゲルマニウムオキシ窒化
物は、アンモニア流と共沈殿焼成したオルトゲルマニウ
ム酸亜鉛(Zn2GeOa)とを種々の温度で、種々の
時間反応させることにより調製されていた。本発明の範
囲内で使用される窒化物やオキシ窒化物の調製例として
は、例えば、C、R、Acad 、 Sc 、 P
aris、t、2’70 。
物は、アンモニア流と共沈殿焼成したオルトゲルマニウ
ム酸亜鉛(Zn2GeOa)とを種々の温度で、種々の
時間反応させることにより調製されていた。本発明の範
囲内で使用される窒化物やオキシ窒化物の調製例として
は、例えば、C、R、Acad 、 Sc 、 P
aris、t、2’70 。
p、2052−2055 (1970年6月22日)と
Mat、Res、 Bull、 Vo+、 5 、
p、793−796 (1970)とがある。
Mat、Res、 Bull、 Vo+、 5 、
p、793−796 (1970)とがある。
これらの提案した窒化物及びオキシ窒化物は。
4以上の原子価電子濃度を有し、四面体サイトの半分が
陽イオンで占められているウルツ鉱の構造に由来する四
面体構造を有している。この型の窒化物やオキシ窒化物
は、加圧下でペレット状にしたり厚い層に堆積できる粉
末の状態にある。
陽イオンで占められているウルツ鉱の構造に由来する四
面体構造を有している。この型の窒化物やオキシ窒化物
は、加圧下でペレット状にしたり厚い層に堆積できる粉
末の状態にある。
温度の関数としての酸素の化学吸着と脱着の条件は、初
期の電気的性質に戻る条件として決定した。アンモニア
と吸着酸素との可逆反応の最適温度範囲は、固定させた
。これにより、適当に選択した温度で、空気流中のNH
3を20ppslから2000 ppmまで検出できる
ようになり、抵抗での最大変動は40%から50%、N
H3の増加変動に対する応答時間と回復時間は1分から
2分であった。
期の電気的性質に戻る条件として決定した。アンモニア
と吸着酸素との可逆反応の最適温度範囲は、固定させた
。これにより、適当に選択した温度で、空気流中のNH
3を20ppslから2000 ppmまで検出できる
ようになり、抵抗での最大変動は40%から50%、N
H3の増加変動に対する応答時間と回復時間は1分から
2分であった。
従って、これらの窒化物やオキシ窒化物は、窒素含有還
元ガス、特にアンモニアやNH基及び/又はNH2基を
有する他のガスの、大気中における選択的検出装置を製
造するのに効果的に使用できる。
元ガス、特にアンモニアやNH基及び/又はNH2基を
有する他のガスの、大気中における選択的検出装置を製
造するのに効果的に使用できる。
本発明によれば、この型の検出装置は、上記の窒化物又
はオキシ窒化物の1つを基にした、100℃から250
℃の温度に達することができる加熱手段を有する支持体
上に置かれた半導体層を有し、例えば、さらに前記半導
体層上への窒素含有還元ガスの化学吸着に応答して半導
体層の抵抗変化を測定する手段も有しており、この測定
手段は、半導体層近傍の還元ガスの濃度変化を表わす信
号を生ずる。意図した特定の用途に応じて、この信号は
音又は光信号、或いはその代わりに目盛スケールでの窒
素含有還元ガスの比率として、例えば、アンモニアを直
接pp−で表示してもよい。
はオキシ窒化物の1つを基にした、100℃から250
℃の温度に達することができる加熱手段を有する支持体
上に置かれた半導体層を有し、例えば、さらに前記半導
体層上への窒素含有還元ガスの化学吸着に応答して半導
体層の抵抗変化を測定する手段も有しており、この測定
手段は、半導体層近傍の還元ガスの濃度変化を表わす信
号を生ずる。意図した特定の用途に応じて、この信号は
音又は光信号、或いはその代わりに目盛スケールでの窒
素含有還元ガスの比率として、例えば、アンモニアを直
接pp−で表示してもよい。
大気中の窒素還元ガスのこのような選択的検出装置は、
例えば、限界アラームを備えた冷凍装置に使用される。
例えば、限界アラームを備えた冷凍装置に使用される。
実際、現在使用されている冷凍液の約70%はアンモニ
アが占めているのが通例である。
アが占めているのが通例である。
このような検出器は、廃物が焼却される所である乳製品
工場、硝酸及び肥料工場、かん詰工場。
工場、硝酸及び肥料工場、かん詰工場。
製革所、動物飼育農場、屠殺場等にも使用される。
このような検出装置は、アンモニアを直接注入して窒素
が増加した土にも使用される0本発明の目的は、例えば
、穀物がサイロ充填機に入るとき無水アンモニアを注入
することにより動物飼料にアンモニアを補充しているサ
イロを監視できるようにすることにもある。農業−食料
品分野では、アンモニアは他の大気汚染物質を伴うこと
が多いとも言える。従って、アンモニアの検出は、非許
容量又は危険なほどの量を投与した際、このガスの出現
を防止するばかりでなく、同伴するガスの出現をも防止
することを可能にさせる。
が増加した土にも使用される0本発明の目的は、例えば
、穀物がサイロ充填機に入るとき無水アンモニアを注入
することにより動物飼料にアンモニアを補充しているサ
イロを監視できるようにすることにもある。農業−食料
品分野では、アンモニアは他の大気汚染物質を伴うこと
が多いとも言える。従って、アンモニアの検出は、非許
容量又は危険なほどの量を投与した際、このガスの出現
を防止するばかりでなく、同伴するガスの出現をも防止
することを可能にさせる。
酸素の化学吸着と脱着の条件や吸着酸素とアンモニアと
の可逆反応の最適温度の範囲を調べるため多くの実験を
行なった。これら全ての性質を説明するため、1つの特
定のオキシ窒化物、すなわち、以下の一般式のオキシ窒
化物、 Zn+、ba G e Ol、16N1.66に関して
行った実験の結果を下に示す。
の可逆反応の最適温度の範囲を調べるため多くの実験を
行なった。これら全ての性質を説明するため、1つの特
定のオキシ窒化物、すなわち、以下の一般式のオキシ窒
化物、 Zn+、ba G e Ol、16N1.66に関して
行った実験の結果を下に示す。
m察した結果を表わしている曲線は、添付した図面に示
しである。
しである。
Zlll、64 G e Ol、16N+、66 に
ついて行った実験の条件や結果は、添付した図を参照し
て以下に詳しく説明する。
ついて行った実験の条件や結果は、添付した図を参照し
て以下に詳しく説明する。
1−ZnxGeOvN、ペレットの真−中での本伝導度
(x = 1.47から1.90 ; 7 = 0.9
3から1.75 ;z = 1.28から1.89) 上で規定した限度内の種々の組成の圧縮結晶粉末を7サ
ンプル調べた。材料は、容易に酸素を化学吸着するため
、電気伝導に関して唯一の参照特性は、定められた最高
作業温度にして、2次真空下でガスを除去した後に得ら
れる特性である。サンプルに関係なく、この特性は、中
位の亜鉛濃度のE試料(x = 1.84; y =
1.18; z = 1.86) ニ関し、熱力学的温
度下のM社ヒして抵抗Rを示している第1図の形状を常
に有しており、この試料は約10=kg / cm2(
103Pa )の残余圧力下。
3から1.75 ;z = 1.28から1.89) 上で規定した限度内の種々の組成の圧縮結晶粉末を7サ
ンプル調べた。材料は、容易に酸素を化学吸着するため
、電気伝導に関して唯一の参照特性は、定められた最高
作業温度にして、2次真空下でガスを除去した後に得ら
れる特性である。サンプルに関係なく、この特性は、中
位の亜鉛濃度のE試料(x = 1.84; y =
1.18; z = 1.86) ニ関し、熱力学的温
度下のM社ヒして抵抗Rを示している第1図の形状を常
に有しており、この試料は約10=kg / cm2(
103Pa )の残余圧力下。
400℃で数時間ガスを除去したものである。
抵抗の対数の傾斜と平均値は、組成によって変化し、亜
鉛含量が増加すると抵抗を減少させる。
鉛含量が増加すると抵抗を減少させる。
全ての場合に、抵抗のR値と温度係数のα偵(負)は非
常に高く、Rは約200℃でMΩのオーダーであり、α
はこの温度で一1105Ω/に程度であると言える。け
れども、これらの値は、サンプルの吸着性を損なうこと
なくドーピングや加熱処理を行なうことにより実質的に
減少させることができることを観察すべきである。
常に高く、Rは約200℃でMΩのオーダーであり、α
はこの温度で一1105Ω/に程度であると言える。け
れども、これらの値は、サンプルの吸着性を損なうこと
なくドーピングや加熱処理を行なうことにより実質的に
減少させることができることを観察すべきである。
2−電気伝導度に及ぼす酸素の作用
a)化学吸着
観察した現象の再現性を証明する多数の実験を行った。
同様にE試料に関する第2図は、3.2・10−3に−
1(〜39.5℃)において、参照曲線(d)トの点か
ら酸素の等温吸着の効果を示し、抵抗は約2オーダー増
加しており、酸素の強い化学吸着を示し、化学吸着した
ガスは電子受容体として作用するためぺ1/ツトの表面
下の伝導度を低下させる。
1(〜39.5℃)において、参照曲線(d)トの点か
ら酸素の等温吸着の効果を示し、抵抗は約2オーダー増
加しており、酸素の強い化学吸着を示し、化学吸着した
ガスは電子受容体として作用するためぺ1/ツトの表面
下の伝導度を低下させる。
b)脱着
等温脱着では、非常に少ない割合の吸着ガスしか放出さ
れない(c)、3°l(/win、の速度で温度をプロ
グラムした脱着(TPD)は曲線(d)を生じ、その形
はこの分野ではH典的なものであり、570°K(29
7℃)以上では参照特性(a)と同じになり、全酸素が
脱着され、材料の表面が再生されたことを示している。
れない(c)、3°l(/win、の速度で温度をプロ
グラムした脱着(TPD)は曲線(d)を生じ、その形
はこの分野ではH典的なものであり、570°K(29
7℃)以上では参照特性(a)と同じになり、全酸素が
脱着され、材料の表面が再生されたことを示している。
酸素の化学吸着の効果による抵抗の変化や酸素の等温又
は温度プログラム脱着の容易さは、第2.3.4図の曲
線に示されるように作用温度に依存している。けれども
、真空(10司Pa)下において350℃で約30分間
再加熱すると、試料の表面性質は常に回復し、TPD特
性上の点は参照特性に戻どる(矢印)。
は温度プログラム脱着の容易さは、第2.3.4図の曲
線に示されるように作用温度に依存している。けれども
、真空(10司Pa)下において350℃で約30分間
再加熱すると、試料の表面性質は常に回復し、TPD特
性上の点は参照特性に戻どる(矢印)。
C)還元ガス検出の最適温度範囲の研究還元ガスセンサ
ーの構成において、一定の吸着/脱着温度に対して2つ
のグループの量に興味があり、すなわち、 1、酸素の等温吸着の限度条件Fで得られる抵抗の総合
変化、及びそれに相当する変化速度と、11酸素の等温
脱着の限定条件Fで得られる抵抗の総合変化とそれに相
当する変化速度 Z’ $、 X。
ーの構成において、一定の吸着/脱着温度に対して2つ
のグループの量に興味があり、すなわち、 1、酸素の等温吸着の限度条件Fで得られる抵抗の総合
変化、及びそれに相当する変化速度と、11酸素の等温
脱着の限定条件Fで得られる抵抗の総合変化とそれに相
当する変化速度 Z’ $、 X。
特定の還元ガスのセンサーとして材料が用いられる温度
はこれら2つの異なった量の間で見られる妥協の結果で
ある。
はこれら2つの異なった量の間で見られる妥協の結果で
ある。
これと共に、酸素の化学吸着/脱着等温式&/I2゜=
f(t)が記録されていることを考慮した(Ro :
初期抵抗、R:吸着粒子存在rでの抵抗、t:時間変数
)、酸素が半導体結晶粒の結晶格子の中に拡散しないよ
うに、大気圧下での吸着の持続時間t、は3分に制限し
たが、限定値R/ROに導びく脱着の持続時間tdはl
Oから15分程度である。第5図は種々の吸着/脱着温
度0dでの参照試料Eのこれらの等温研究のわずかの結
果を示している。吸着容量は、約85℃で最高値を通っ
ていることが示される。
f(t)が記録されていることを考慮した(Ro :
初期抵抗、R:吸着粒子存在rでの抵抗、t:時間変数
)、酸素が半導体結晶粒の結晶格子の中に拡散しないよ
うに、大気圧下での吸着の持続時間t、は3分に制限し
たが、限定値R/ROに導びく脱着の持続時間tdはl
Oから15分程度である。第5図は種々の吸着/脱着温
度0dでの参照試料Eのこれらの等温研究のわずかの結
果を示している。吸着容量は、約85℃で最高値を通っ
ていることが示される。
θaの関数としてのR3m1n、 / Roのプロット
(第6図)では、R3win、は2つのoa値に対して
悠和値を示しているのみであり、脱着容量は約170℃
において第2最高値を通っていることを示している。吸
着速度に関しては、150℃以下でおそく、約190℃
で最高になることがわかる(第5図)。
(第6図)では、R3win、は2つのoa値に対して
悠和値を示しているのみであり、脱着容量は約170℃
において第2最高値を通っていることを示している。吸
着速度に関しては、150℃以下でおそく、約190℃
で最高になることがわかる(第5図)。
酸素の等温脱着に関するかぎり、第5図の曲線から推論
される第6図は1等温説着は、130℃以上では次第に
効果が増加しているが、脱着速度は約170℃で最高値
を通ることを示している。
される第6図は1等温説着は、130℃以上では次第に
効果が増加しているが、脱着速度は約170℃で最高値
を通ることを示している。
還元ガスと化学吸着酸素との反応の感度と速度を7j)
るのに最も有利な温度範囲は、実に、150℃と200
℃の間にあるか、又は研究した試料に対してあらゆる場
合に150℃以上であるように思える。この範囲は、一
般に、材料の化学量論からの変化に依存している。
るのに最も有利な温度範囲は、実に、150℃と200
℃の間にあるか、又は研究した試料に対してあらゆる場
合に150℃以上であるように思える。この範囲は、一
般に、材料の化学量論からの変化に依存している。
ここで使用した酸素は、前もってろ過し、乾燥した空気
からの酸素である。試験に用いた実験装置では、表面に
銀ラッカー(観察した現象では何の作用も生じないこと
が示されている)で固定された抵抗測定線を有するペレ
ットは、室温と400℃の間にサーモスタットで調温さ
れた区域に置かれている。ガス(純粋又は混合)の循環
は、このわくの中で生じさせることができる。ペレット
は、効果が研究されているガスの達する地点に置かれる
。ガスの流速は、空気中の外来ガスの正確な数のppm
を決定するために、測定及び調整を行なう。
からの酸素である。試験に用いた実験装置では、表面に
銀ラッカー(観察した現象では何の作用も生じないこと
が示されている)で固定された抵抗測定線を有するペレ
ットは、室温と400℃の間にサーモスタットで調温さ
れた区域に置かれている。ガス(純粋又は混合)の循環
は、このわくの中で生じさせることができる。ペレット
は、効果が研究されているガスの達する地点に置かれる
。ガスの流速は、空気中の外来ガスの正確な数のppm
を決定するために、測定及び調整を行なう。
第7図は、Z nx G e Oy N Zの表面上の
化学吸着酸素とNH3との反応の二試料に関するもので
、センサーの感度と応答時間の両方に及ぼす作用温度の
影響を示している。第7図すの応答時間は、この型のセ
ンサーに対して完全に満足するものであることに注目す
べきである。
化学吸着酸素とNH3との反応の二試料に関するもので
、センサーの感度と応答時間の両方に及ぼす作用温度の
影響を示している。第7図すの応答時間は、この型のセ
ンサーに対して完全に満足するものであることに注目す
べきである。
アンモニアの比率の関数としての応答の変化は低比率(
<loooppm)の領域で、本質的に直線状である。
<loooppm)の領域で、本質的に直線状である。
検出限界は20ppm程度である。
1500ppm以上(試料による)では、飽和状態が見
られる。
られる。
この領域では、参照として用いた試料を詳細に研究し、
数ケ月間全ての種類の条件下で作用させても応答し続け
た。もしこわれても、再使用した破片は同様に応答する
。
数ケ月間全ての種類の条件下で作用させても応答し続け
た。もしこわれても、再使用した破片は同様に応答する
。
これらの実験の過程で、ガスが非熱化試料に達すると1
反応はさらに感応性に優れることが観察された。
反応はさらに感応性に優れることが観察された。
空気/水素、空気/メタン、空気/−酸酸化炭素室空気
/ブタンの混合物を調べた。高投与量のアンモニアをも
妨害するこれら成分は、使用した温度ではわずかの反応
しか生じず、しかも、こめ反応はアンモニアとの反応と
は反対方向のものである(第8図)、各反応後、センサ
ーはろ過乾燥空気を通すことにより再生され、アンモニ
アは再びその効果を生ずるようになり、調査した妨害成
分は検出器表面を永続的に汚染しないことを証明してい
る。
/ブタンの混合物を調べた。高投与量のアンモニアをも
妨害するこれら成分は、使用した温度ではわずかの反応
しか生じず、しかも、こめ反応はアンモニアとの反応と
は反対方向のものである(第8図)、各反応後、センサ
ーはろ過乾燥空気を通すことにより再生され、アンモニ
アは再びその効果を生ずるようになり、調査した妨害成
分は検出器表面を永続的に汚染しないことを証明してい
る。
5−水分の作用
20℃で、飽和水蒸気圧下で実験を行った。結果は、q
9 a図と第9b図の曲線で示されている。試料はア
ンモニアへの方向と同じ方向で水分に感応性があり(第
9図)、アンモニアへの感度は水分の存在下でかなり増
加することを示している。
9 a図と第9b図の曲線で示されている。試料はア
ンモニアへの方向と同じ方向で水分に感応性があり(第
9図)、アンモニアへの感度は水分の存在下でかなり増
加することを示している。
この実験は、単に予備的な性質のものであるが、それに
もかかわらず。
もかかわらず。
1、水分への応答は中位であり、
ii、可逆的で、
iii、アンモニアへの応答より弱い、ことが明らかで
ある。
ある。
これらの結果は、ZnOに基づくセンサーの動作に及ぼ
す水分の作用に関して、製作可能であったという観察を
支持するものである。
す水分の作用に関して、製作可能であったという観察を
支持するものである。
(発明の効果)
したがって、本発明の範囲内で限定された窒化物やオキ
シ窒化物、特に亜鉛ゲルマニウムオキシ窒化物は、効果
的にアンモニアを検出できることを、上の結果全てが確
証している。
シ窒化物、特に亜鉛ゲルマニウムオキシ窒化物は、効果
的にアンモニアを検出できることを、上の結果全てが確
証している。
第1図は、熱力学的温度の関数として、Zn+、ba
G e Ol、66N+、66ペL/−/トの電気抵抗
の変化を示している(参照面&り。 第2図から第4図は、熱力学的温度の関数として、酸素
の化学吸着及びプログラム脱着の効果による第1図のオ
キシ窒化物の電気伝導度変化を示している。 第5図は、吸着/脱着温度Oaの関数として。 等温吸着及び脱着の際の電気伝導度変化を示している。 第6図は、吸着/脱着温度θaの関数として、酸素の等
温脱着を示している。 第7図は、オキシ窒化物の表面上の化学吸着酸素とNH
3との反応によるこのオキシ窒化物の抵抗変化を示して
いる。 第8図は、数個の還元ガスの作用によるオキシ窒化物の
抵抗変化を示している。 第9図は、水分存在下でのこのオキシ窒化物の抵抗変化
を示している。 特許出願人 サーントル テショナル ドウ ラ ラ
シ1)レシシジエーシテイフイワ (セー、エヌ、エー
ル。 ニス、) IG−1
G e Ol、66N+、66ペL/−/トの電気抵抗
の変化を示している(参照面&り。 第2図から第4図は、熱力学的温度の関数として、酸素
の化学吸着及びプログラム脱着の効果による第1図のオ
キシ窒化物の電気伝導度変化を示している。 第5図は、吸着/脱着温度Oaの関数として。 等温吸着及び脱着の際の電気伝導度変化を示している。 第6図は、吸着/脱着温度θaの関数として、酸素の等
温脱着を示している。 第7図は、オキシ窒化物の表面上の化学吸着酸素とNH
3との反応によるこのオキシ窒化物の抵抗変化を示して
いる。 第8図は、数個の還元ガスの作用によるオキシ窒化物の
抵抗変化を示している。 第9図は、水分存在下でのこのオキシ窒化物の抵抗変化
を示している。 特許出願人 サーントル テショナル ドウ ラ ラ
シ1)レシシジエーシテイフイワ (セー、エヌ、エー
ル。 ニス、) IG−1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)大気中の窒素含有還元ガス、特にアンモニアやNH
基及び/又はNH_2基を含むガスの半導体抵抗型の選
択的検出体としての四面体構造の窒化物又はオキシ窒化
物であり、Li、Na、K、Be、Mg、Ca、Sr、
Ba、Zn、Mnから成る群から選んだ金属、Si、G
e、P、Al、Gaから成る群から選んだ第2元素、及
び窒素、好ましくは酸素とを含む窒化物又はオキシ窒化
物。 2)一般式 Zn_tGe_uO_vN_w 〔(i)1≦t<2、0<u≦2、0≦v<2、1≦w
≦3、(ii)2t+4u=2v+3w、(iii)(
2t+4u+6v+5w)/(t+u+v+w)≧4〕 に相当する窒素含有還元ガスの選択的検出体としての特
許請求の範囲第1項に記載の窒化物又はオキシ窒化物。 3)一般式 Zn_xGeO_yN_z 〔1.47≦x≦1.90、0.93≦y≦1.75、
1.28≦z≦1.69〕 に相当する窒素含有還元ガスの選択的検出体としての特
許請求の範囲第2項に記載の窒化物又はオキシ窒化物。 4)窒素含有還元ガス、特にアンモニアやNH基及び/
又はNH_2基を含むガスの大気中での選択的検出装置
であり、特許請求の範囲第1項乃至第3項のいずれかの
項に記載の窒化物又はオキシ窒化物を基にした、加熱手
段を有する支持体上に置かれた半導体層と前記半導体層
上への窒素含有還元ガスの化学吸着に応じて前記半導体
層の抵抗の変化を測定する手段とを有し、前記測定手段
は、前記半導体層近傍の前記ガス濃度の変化を表わす信
号を生ずることを特徴とする検出装置。 5)前記加熱手段は、窒化物又はオキシ窒化物の温度を
100℃から250℃までの間の値に上昇させることを
特徴とする特許請求の範囲第4項に記載の検出装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR8504989A FR2579754B1 (fr) | 1985-04-02 | 1985-04-02 | Nitrures et oxynitrures utiles comme detecteurs selectifs de gaz reducteurs dans l'atmosphere, et dispositif de detection les contenant |
FR8504989 | 1985-04-02 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62123346A true JPS62123346A (ja) | 1987-06-04 |
Family
ID=9317853
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61075382A Pending JPS62123346A (ja) | 1985-04-02 | 1986-04-01 | 大気中還元ガスの選択的検出体に使用可能な窒化物及びオキシ窒化物とそれらを含む検出装置 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4695432A (ja) |
EP (1) | EP0201375B1 (ja) |
JP (1) | JPS62123346A (ja) |
DE (1) | DE3669784D1 (ja) |
FR (1) | FR2579754B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009275236A (ja) * | 2007-04-25 | 2009-11-26 | Canon Inc | 酸窒化物半導体 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2638527B1 (fr) * | 1988-11-02 | 1991-02-01 | Centre Nat Rech Scient | Nitrure et oxynitrures de gallium utiles comme detecteurs selectifs de gaz reducteurs dans l'atmosphere, procede pour leur preparation, et dispositif de detection les contenant |
FR2724375B1 (fr) * | 1994-09-12 | 1996-12-20 | Cernix | Oxynitrures de germanium et de cadmium ainsi que leurs derives, preparation et precurseurs, ainsi que leurs applications comme capteurs de gaz et catalyseurs |
US6284395B1 (en) | 1997-03-05 | 2001-09-04 | Corning Applied Technologies Corp. | Nitride based semiconductors and devices |
US6121639A (en) * | 1998-08-20 | 2000-09-19 | Xerox Corporation | Optoelectronic devices based on ZnGeN2 integrated with group III-V nitrides |
KR101150142B1 (ko) * | 2006-04-06 | 2012-06-11 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 대형 기판 상에 아연 산화물 투명 전도성 산화물의 반응성 스퍼터링 |
US7994508B2 (en) * | 2007-08-02 | 2011-08-09 | Applied Materials, Inc. | Thin film transistors using thin film semiconductor materials |
US8980066B2 (en) * | 2008-03-14 | 2015-03-17 | Applied Materials, Inc. | Thin film metal oxynitride semiconductors |
WO2009117438A2 (en) * | 2008-03-20 | 2009-09-24 | Applied Materials, Inc. | Process to make metal oxide thin film transistor array with etch stopping layer |
US8258511B2 (en) * | 2008-07-02 | 2012-09-04 | Applied Materials, Inc. | Thin film transistors using multiple active channel layers |
JP5451280B2 (ja) * | 2008-10-09 | 2014-03-26 | キヤノン株式会社 | ウルツ鉱型結晶成長用基板およびその製造方法ならびに半導体装置 |
JP5889791B2 (ja) | 2009-09-24 | 2016-03-22 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated | ソース・ドレイン金属エッチングのためのウェットプロセスを用いた金属酸化物又は金属酸窒化物tftの製造方法 |
US8840763B2 (en) * | 2009-09-28 | 2014-09-23 | Applied Materials, Inc. | Methods for stable process in a reactive sputtering process using zinc or doped zinc target |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE771767A (fr) * | 1970-08-26 | 1971-12-31 | Nat Res Dev | Dispositifs semi-conducteurs sensibles aux gaz |
US3865550A (en) * | 1970-08-26 | 1975-02-11 | Nat Res Dev | Semi-conducting gas sensitive devices |
US4197089A (en) * | 1975-12-22 | 1980-04-08 | Ambac Industries, Incorporated | Reducing gas sensor |
-
1985
- 1985-04-02 FR FR8504989A patent/FR2579754B1/fr not_active Expired
-
1986
- 1986-03-28 US US06/845,465 patent/US4695432A/en not_active Expired - Fee Related
- 1986-03-28 DE DE8686400694T patent/DE3669784D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1986-03-28 EP EP86400694A patent/EP0201375B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1986-04-01 JP JP61075382A patent/JPS62123346A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009275236A (ja) * | 2007-04-25 | 2009-11-26 | Canon Inc | 酸窒化物半導体 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0201375B1 (fr) | 1990-03-21 |
FR2579754B1 (fr) | 1987-07-31 |
DE3669784D1 (de) | 1990-04-26 |
FR2579754A1 (fr) | 1986-10-03 |
EP0201375A1 (fr) | 1986-11-12 |
US4695432A (en) | 1987-09-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS62123346A (ja) | 大気中還元ガスの選択的検出体に使用可能な窒化物及びオキシ窒化物とそれらを含む検出装置 | |
Mosier et al. | Measuring denitrification in the field | |
Nanto et al. | Zinc‐oxide thin‐film ammonia gas sensors with high sensitivity and excellent selectivity | |
Yamane et al. | Adsorption of ametryne and atrazine on an oxisol, montmorillonite, and charcoal in relation to pH and solubility effects | |
Huang et al. | Nitrous oxide emissions from a commercial cornfield (Zea mays) measured using the eddy covariance technique | |
Eatough et al. | Continuous determination of PM2. 5 mass, including semi-volatile species | |
DeLaune et al. | Flux of reduced sulfur gases along a salinity gradient in Louisiana coastal marshes | |
DE68902460T2 (de) | Galliumnitrid und -oxinitride, die verwendbar sind als selektive detektoren fuer in der atmosphaere befindliche, reduzierende gase, ein verfahren zu deren herstellung und eine diese enthaltende detektionsvorrichtung. | |
Hao et al. | Emissions of N2O from the burning of biomass in an experimental system | |
Deming | Determination of volatility losses of C14-CDAA from soil surfaces | |
US6481264B1 (en) | Materials for solid-state gas sensors | |
Yoshioka et al. | La2O3-loaded SnO2 element as a CO2 gas sensor | |
CN115144444A (zh) | 一种用于室温检测ppb级NO2的气敏材料及制备方法 | |
US5185130A (en) | Solid-state sensor for determining hydrogen and/or nox concentration and the method for its preparation | |
Scheide et al. | A piezoelectric crystal dosimeter for monitoring mercury vapor in industrial atmospheres | |
Khamkar et al. | A Novel Combustion Route for the Preparation of Nanocrystalline LaAlO^ sub 3^ Oxide Based Electronic Nose Sensitive to NH^ sub 3^ at Room Temperature | |
Montgomery et al. | The determination of low concentrations of organic carbon in water | |
Kanefusa et al. | H/sub 2/S gas detection by ZrO-doped SnO/sub 2 | |
Rawson | A rapid method for determining the surface area of aluminosilicates from the adsorption dynamics of ethylene glycol vapour | |
Fatibello-Filho et al. | Piezoelectric crystal sensor for the determination of formaldehyde in air | |
US5863503A (en) | Nitrogen oxide detecting sensor and method of manufacturing the same | |
Mészáros | On the formation of atmospheric sulphate particulate in the winter months | |
Vinokurova et al. | Determination of chlorine in air using ZnO modified with gallium and indium oxides | |
Dhane et al. | Zinc Adsorption and Its Thermodynamics in Some Soil Spries of Maharashtra | |
Vasina et al. | Monitoring greenhouse gases in atmospheric air |