JPS62119507A - 複数光フアイバ結合型半導体レ−ザモジユ−ルの製造方法 - Google Patents

複数光フアイバ結合型半導体レ−ザモジユ−ルの製造方法

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JPS62119507A
JPS62119507A JP25861585A JP25861585A JPS62119507A JP S62119507 A JPS62119507 A JP S62119507A JP 25861585 A JP25861585 A JP 25861585A JP 25861585 A JP25861585 A JP 25861585A JP S62119507 A JPS62119507 A JP S62119507A
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optical fiber
semiconductor laser
optical
laser module
fibers
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JP25861585A
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Koichi Yamaguchi
孝一 山口
Yoshitaka Ikeda
義隆 池田
Hiroaki Kusuyama
樟山 裕章
Masaaki Kurosawa
黒沢 正明
Toshio Iizuka
飯塚 寿夫
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Hitachi Cable Ltd
Japan Broadcasting Corp
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
Nippon Hoso Kyokai NHK
Japan Broadcasting Corp
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    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
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    • G02B6/4201Packages, e.g. shape, construction, internal or external details
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    • G02B6/42Coupling light guides with opto-electronic elements
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、半導体レーザモジュールの製造方法に係り、
特に入射端における光ファイバ素線のクラッド厚さがコ
ア直径の10%以下に加工されている光ファイバを複数
本高密度集束して、効率よく半導体レーザダイオード(
以下、LDとする)に結合させて光出力を多分配する複
数光ファイバ結合型半導体レーザモジュールの製造方法
に関するものである。
[従来の技術] 複数本の光ファイバをLDに高効率で結合し、LDから
の光出力を均等に多分割するための半導体レーザモジュ
ールでは、入射側の光ファイバ端末部において複数本の
光ファイバを高密度に集束する必要がある。
従来の主な光ファイバ集束方法を第10図ないし第13
図を参照して説明する。第10図の方法は、単芯光ファ
イバ用コネクタプラグの穴径のみを複数本光ファイバ用
に変形したプラグ101を用いるものである。すなわち
、プラグ101の一端に被覆部102で覆われた光ファ
イバ素線103の数本の束104を挿入することができ
る径の孔を成形すると共に他端には光ファイバ素線10
3の束を挿入すべく、この束の最外径寸法よりわずかに
大きい内径寸法の孔105を成形する。
このプラグ101を用いて光ファイバを集束するが、こ
れでは光ファイバ束とプラグ内径との間には間隙が1〜
2liIn程度しか存在しない。そのため、複数.本の
光ファイバ素線103をプラグ101内に挿入した場合
、まず第1にプラグ101内に設けられた孔のテーパ部
(あるいは段差)106に光ファイバ素線103の先端
が突き当り、その結果生じる光ファイバの急激な曲り等
によってファイバが断線してしまう。
第2に、仮に光ファイバ素線103がテーパ部106を
通過したとしてもプラグ101の先端部分く左端)では
光ファイバ素線103と孔105の内壁との間の間隙が
やはり 1〜2pと小さいので複数本の光ファイバ素線
1 0.3を滑らかに通すことは難しく、挿入時の力の
入れ具合によっては光ファイバ素線103が断線してし
まう。そこで、光ファイバ素線103を1本ずつ挿入す
ることも 5 一 考えられるが、複数本同時に挿入するよりも実際には難
しい。特に、第10図のように光ファイバ素線103の
先端部分のクラッドをエツチングして細径化したエツチ
ング部107を形成してより高密度な集束を行なおうと
する場合にはエツチング部105を断線せずに挿入する
ことはまず不可能である。
さらに、第3として光ファイバをエポキシ系樹脂でプラ
グ101に完全に接着させる必要があるが、予め各光フ
ァイバ素線103にエポキシ系樹脂を塗布する方法では
、なおさらプラグ101内孔に挿入することが困難とな
る。また、樹脂を圧入方式で注入しようとしてもファイ
バとファイバとの間にはわずかな間隙しかないので樹脂
が入りにくい。その結果、ファイバの長手方向には塗れ
ない部分が生じたり、気泡も存在しやすくなる。
このような光ファイバ束の端末部はヒートサイクル等の
温度試験を実施すると光ファイバが断線したり、光ファ
イバがプラグ端面より突き出たり引込んだりしてその信
頼性に欠けてしまう。
一 〇 一 また、第11図に示す熱収縮チューブによる集束方法が
実公昭59−134120号に「光ファイババンドル」
という名称で開示されている。この方法は、ミキシング
ロッドを用いた光スターカプラにおいてその両端に接続
するバンドルファイバ111の先端部分を熱収縮チュー
ブ112で結束させるものである。この方法によれば比
較的簡単に結束させることができるが、熱収縮チューブ
112を加熱して連続的に且つ数百ミクロンの径に均一
に収縮させることは困難である。実際には円周上および
長手方向の一方向から収縮が始まるために、光ファイバ
に無理な曲げ応力が加わり光ファイバが断線してしまう
。また、光ファイバの回りを軟かい熱収縮チューブ11
2で覆うため、端末の鏡面研磨時に光ファイバがデユー
プ内で前後左右に動いてしまい、ファイバ端面のエツジ
部分が欠落したり、断線が生じたりする。光ファイバは
バッキングフラクションをよくする!こめにクラッドの
厚さを極力薄くシてあり、そのエツジが欠けるとクラッ
ドと共にコアもまた欠けてしまい、その結果、伝送損失
が大きくなる。
さらに、第12図に示すように複数本の光ファイバ12
1を放電加工等の手段によって融着一体化しLD122
に結合させる方法が、1981年度電子通信学会総合全
国大会においてNo、830[1[) −多ボートテー
パロンチャー1という名称で発表されている。しかしな
がら、この方法では、■加工できるファイバ本数に制限
があること、■ファイバ本数によってコア形状が楕円形
や三日月形に変形しやすいため各ファイバとL Dとの
結合効率が異なり、光出力のバラツキが大きくなる、■
テーパ加工しているので相対的にコア径が先端部分12
3で元来のコア径よりも非常に細くなっているので結合
度が弱くなる、■結合度を上げるためにはLDチップに
ファイバの先端部を出来る限り近づけることが望まれる
が、近づけると逆にファイバ端面からの反射光がLDに
戻り、L Dの発振状態を不安定にしてノイズが発生す
る等、種々の問題点がある。
また、第13図のようにLD131からの光出力を集束
性レンズ132,133やミキシングロッド134を組
合わせたレンズ群135を介して複数本の光ファイバ束
136に分配する方法が、1982年度電子通信学会総
合全国大会にNo、817「多端子半導体レーザモジュ
ール」という名称で発表されている。このような構造の
LDモジュールでは、各レンズ間の光軸調整を非常に高
精度で行なう必要があるために、使用する部品も高精度
のものが要求され、また部品点数も多いので低価格化が
期待できない。さらに、各レンズを光軸がずれないよう
に固定する伯、レンズ群135による損失や反射等を低
下させるためにレンズに斜め研磨を施したり光軸をわざ
とずらす等の対策が必要となり複雑な構造となる。
[発明が解決しようとする問題点] このように、従来は光ファイバを断線することなく高密
度集束し、LDに高効率で結合させることが困難であっ
た。
[発明の目的コ 本発明の目的は上記従来技術の問題点を解消して、クラ
ッド厚がコア直径の10%以下と細い先端部分を有する
光ファイバを複数本、高密度集束し、高結合効率で且つ
多分配をすることができる複数光ファイバ結合型半導体
レーザモジュールの製造方法を提供することにある。
[発明の概要] 本発明は上記目的を達成するために、入射端においては
複数の光ファイバの被覆材を除去すると共にクラッドを
縮径して光ファイバ素線を成形し、この複数の光ファイ
バ素線を集束部材で締結してこれを高密度集束し、これ
らを補強スリーブ内に挿入固定した後、その一端に半導
体レーザダイオードが固定されているガイドスリーブに
補強スリーブを嵌合させて半導体レーザダイオードと複
数の光ファイバ素線とを光結合させる製造方法であり、
特に入射側の光ファイバ素線のクラッド厚をコア直径の
10%以下として高結合度を達成しようとするものであ
る。
[実施例] 以下、添付図面を参照して本発明の実施例を説明する。
第1図は本発明の一実施例により製造された複数光ファ
イバ結合型半導体レーザモジュールにおける光ファイバ
高密度集束端末部の断面構造図である。光ファイバ1と
して外径125μsの標準形GI光ファイバ素線2(コ
ア直径50μs、クラッド厚37.5p、比屈折率差1
%)の円周上に保護用被覆3が施されて被覆仕上り外径
が約o、’3mのものを用いた。なお、光ファイバ1は
衛星放送信号を中間周波数帯(1〜1.3GH2程度)
でテレビ信号伝送するシステムに適するようにIQHz
以上の帯域を持つGIファイバとした。この光ファイバ
1の入射側において第2図のように被覆3を除去して光
ファイバ素線2を露出させ、さらにクラッドのエツチン
グを行なってクラッド厚がコア直径の10%以下となっ
たクラッドエツチング部4とエツチングテーパ部5とを
形成する。次に、エツチングされた光ファイバ1を7芯
束ねてその数か所をガラス繊維6(集束部材)で締結し
高密度集束する。このようにして集束された光ファイバ
束を補強用スリーブ7に通し、さらに補強用チューブ8
を補強用スリーブ7の端部に螺合する。その後、補強用
スリーブ7内にエポキシ系接着剤9を流し込んで光ファ
イバ束を固定し、入射端面10を鏡面研磨する。
次に、光ファイバ束が装着された補強用スリーブ7を第
3図のようにガイドスリーブ11に挿入し、LD12と
エツチングされた光ファイバ束13とが光結合して伝送
される光パワーが最大となるように光軸調整を行なった
後、補強用スリーブ7とガイドスリーブ11とを気密シ
ール部14で気密シールドする。さらに7芯の各光ファ
イバ1の端末に各々光コネクタ15を取り付けて7分配
半導体レーザモジュール16を作成した。
ここで、光ファイバ1のエツチング方法、高密度集束方
法および入射側端末部の作り方についてさらに詳述する
まず、光ファイバ1のエツチング方法について具体的に
説明する。
[D12と7芯先ファイバ束13との結合損失をできる
だけ小さくするためには、光ファイバ集束時のバッキン
グフラクションを良くしなければならない。7芯先ファ
イバ束13は一般に中心ファイバの円周上に6芯ファイ
バが互いに接する様に配列した構造(以下、単に1−6
構成と称する)が最も高密度な集束である。このとき、
7芯の各光ファイバに均等にLD12の光パワーを結合
させるためには、LD12の放射ビーム直径が外側6芯
ファイバのコアをカバーする必要がある。そして、この
ビームスポット径が1−6構成の7芯ファイバに対する
とぎに最小寸法となる。いま、LD12の最小ビームス
ポット直径をり、コア直径をd、クラッド厚さをtとし
た場合、一般に最小ビームスポット直径りは次式で表わ
される。
[)= 36+4t        ・・・ (1)ま
た、最小ビームスポット直径りにおけるビームスポット
面積S1内の光強度分布が一様であると仮定し、面積S
1に対する面積S1内のN芯ファイバの全コア面積SN
  (Nは正の整数)の比をバッキングフラクションP
−Fとすれば、P−Fは次式で与えられる。
ここで、P−F=1のときに結合効率が最大となる。本
実施例において、7芯ファイバ束のP・Fはクラッドを
エツチングしない場合、N=7゜d=50iiIR,t
=37.5−であるから、これらを+11 (21式に
代入するとP −F = 0.194と求まる。また結
合損失ηは、 77−−10103(P’F) [dB]   ・(3
)と表わされる。
従って、標準GI光ファイバ(50/ 125μsφG
Iファイバ)をエツチングせずに7芯集束した場合の結
合損失ηはη= 7.11dBと非常に大きい値になる
。このため、各分岐ファイバへの入力光パワーが小さく
なり、例えば高品位テレビ放送等を多分配する画像伝送
システムにおいては、光パワーが小さくなった分だけC
/Nが劣化して画質が悪くなってしまう。従って、出来
るだけ結合損失を小さくするためには、光ファイバ素線
のクラッドを薄くしてコアの占める面積を相対的に大き
くしバッキングフラクションP−Fを良くしなければな
らない。
第4図にコア直径d=50μs一定とした場合のクラッ
ド厚tと結合損失ηの関係を示す。この図より、クラッ
ド厚tが薄いほどバッキングフラクションP−Fが大き
くなるので結合損失が小さくなることが判る。一般に、
クラッドの厚さtは使用する光の波長程度であれば十分
なので、仮にLD12の発光波長をλ−0,83μsと
した場合には、コアの回りにクラッドが約11IIn厚
で付いていれば良い。クラッド厚t=1岬のときの結合
損失ηは第4図より約1.32(IBである。従って、
クラッドをエツチングしない場合(t = 37.5一
時)に比べてクラッド厚tを1pにエツチングした場合
には結合損失ηを5.79(18程度改善できる。しか
し、実際には、ファイバ素線外径寸法精度が士・11J
!n。
クラッド外径に対するコアの偏心が± 11IM程度存
在し、更にエツチングの精度も加味されるので、元来の
クラッド厚t=37.5加をt−11Imにすることは
極めて難しい。
そこで実験によりクラッドをどこまでエツチング可能か
検討した。種々のエツチング方法のうち、多数本の光フ
ァイバを同時にしかも簡単にかつ高精度加工できるフッ
酸によるエツチング方法で試みた。エツチング制御精度
を決定する要素には、■フッ酸液の濃度■フッ酸液の温
度■ファイバの浸漬時間■液の撹拌状態■初期ファイバ
外径寸法測定精度等がある。これらを全て考慮した結果
、制御精度は1〜27Jの範囲で可能であった。尚、エ
ツチングの境界部は第2図のエツチングテーパ部5に示
すように滑らかなテーパ状に加工した。
以上の結果を基にクラッドの厚さは、エツチング精度(
1〜2IIIR)とファイバの外径変動(± 11m)
及びコアの偏心(± 1μs)を考慮して、コア直径の
10%以下であることが望ましい。このことによって、
結合損失ηが約5dB改善でき、かつコア直径の10%
以下(ここではクラッド厚さ5−以下となる。)という
値は現状での限界値にほぼ近い値と言える。
次に、エツチングした光ファイバを7芯高密度集束する
方法について具体的に説明する。
集束技術の重要性は前述1ノだエツチングによるバッキ
ングフラクションの改善と深い関係がある。
すなわち、いかにエツチングを精密に行なっても複数本
のファイバを高密度に集束できなければ、ファイバとフ
ァイバ間に大きな間隙が生じ、エツチングしない場合と
同様にバッキングフラクションが悪くなって、そのため
に結合損失が大きくなってしまう。そこで、本実施例で
は、光ファイバ素線2のエツチング部分4から被覆3の
部分の範囲にわたってガラス!1116を用いることに
よって7芯光ファイバを高密度集束することが可能にな
った。
具体的には、ガラス繊維6としてケブラー■を使用した
。ケブラー■は太さが数ミクロンのものを2〜3本束に
して用いた。第1図において、先ず1−6構成を形成し
、被覆3の長手方向部分を3ケ所程度ガラス繊維6で縛
る。次に、クラッドがエツチングされていない長さjl
の部分をガラス繊16で同様に3ケ所位縛り集束する。
さらに、エツチングされている長さj2の部分を4〜6
ケ所位縛り集束する。ガラスm維6での縛り方は本実施
例のように部分的に間隔をおいて縛っても良いし、スパ
イラル状に連続的に縛ったり、あるいは網目状に縛った
りしても差し支えない。また、ガラス1f46の替りに
細い金属線で同様に縛れば高密度集束化ができる。なお
、金属線としては、例えばICチップ等の配線時に使用
するボンディング線(金属、アルミ線等)を使えばうま
く高密度集束できる。太さは10〜20/j/Ifφ程
度のものが作業性が良い。また、金属線でなく金属箔(
厚さが0.5〜5μs程度のもの)を用いても同様に集
束できる。金属箔としては次のようなものがある。例え
ば、チタン箔、ベリリウム銅箔、銅箔、銅合金箔(燐青
銅、黄銅、チタン銅、洋白、アドバンス。
マンガニン、マンガン)、アルミニウム合金箔(528
、178) 、ステンレス箔(301,314゜316
、 304など)、ニッケル箔、パーマロイ箔。
ニクロム箔、タンタル箔、モネル箔、42アロイ箔。
タングステン箔、モリブデン箔、純金箔、純銀箔。
銅合金箔、白金箔などがあげられる。なお、これらの箔
は厚さが0,5加のものが市販されているので容易に入
手することができる。また、プラスチックの細線を利用
してもよい。但し、この場合には、耐熱性に優れたもの
を用いた方が好ましい。
例えばテフロン系、シリコン系のものである。
また、細線や箔でなく、第9図に示すようにリング形状
のもので集束しても同様に高密度集束化ができる。この
場合、リングの巾は極力薄い方が、よりスムーズにしか
も断線な(通すことができる。
リング巾どしては数十μsから数百−のものが作業性が
良かった。なお、リングの材質はガラス繊維。
金属、プラスチック等の他にセラミックスなどが最適で
ある。リング形状は第5図(a)に示すように、7芯フ
ァイバの外径とほぼ同じ寸法の内径を有するドーナツ状
で且つ断面が第5図(b)および(C)のようにそれぞ
れ円形および矩形をなすリング51.52を用いること
ができる。さらに、第5図(d)のように 7芯ファイ
バ(中心に1芯を配置した場合)を形どった花びら状リ
ング= 19− 53や第5図(e)のような角形リング54でもよい。
なお、7芯ファイバは予め各々が低粘性のエポキシ系接
着剤を薄く塗布してガラス繊維6で縛る際には、エポキ
シ系接着剤を絞り込むように且つ長手方向に引張りなが
ら集束することでファイバへの接着剤の塗れ性(ファイ
バ間の隙間などに接着剤を浸透させて空気を追い出すこ
と)を向上させて高密度に集束固定することができる。
ただし、クラッドをエツチングした部分としない部分と
の境界のテーパ部は、急激な曲げによる光ファイバの断
線を防ぐためにガラス[16で縛らないように注意した
次に端末部の作り方について説明する。
ガラス繊維6で縛られ高密度集束された7芯光ファイバ
束13は補強用スリーブ7によって保護される。補強用
スリーブ7の内部は78集束したときの被覆外径より少
し大き目の寸法の孔とそれよりは小さいが光ファイバ素
線束の外径に対しては十二分に大きい孔が設けられてい
る。従って補強用スリーブ7にガラス繊維6で集束した
7芯光ファイバを挿入してもファイバの先端が補強用ス
リーブ7内のテーパ部71に突き当ることもないのでフ
ァイバの断線は皆無である。また、補強用スリーブ7自
体、従来の光コネクタプラグのような高精度を必要とし
ないために部品のコストを大幅に低減できる。なお、補
強用スリーブ7としては熱膨張係数の小さい、例えば、
ステンレス、コバール、セラミックス等の材質が適して
いる。
次に、7芯ファイバ束を補強用スリーブ7に挿入後、エ
ポキシ系接着剤9でファイバ束と補強用スリーブ7とを
接着固定する。当然、このときに使用したエポキシ系接
着剤9は真空脱泡が十分に行なわれたものを用いた。そ
して、補強用スリーブ7の入射端面10から突き出てい
るファイバ束を切断しその端面を鏡面研磨する。本実施
例ではファイバ束の周りが硬いエポキシ系接着剤9で覆
われているために端面を研磨しても従来のようにファイ
バのエツジが欠けることは無かった。特に、エポキシ系
接着剤9に熱膨張係数の小さいフィシ−(Si02)を
混入することによってより一層研磨を安定にしファイバ
端面の鏡面状態を得ることができ、且つ温度サイクル等
に対して信頼性の高い端末部を製造することができた。
次に、第3図に示すように端末部をLD12に結合させ
る。この場合には、LD12とファイバ端面との間隙へ
〇が問題となる。第6図に間隙へ〇をパラメータとした
ときのファイバの軸ずれに対する結合損失ηの実験値を
示す。間隙ΔQ=0.15.のときは、結合効率が良い
が軸ずれに対しては許容範囲が狭くなって多芯のファイ
バを結合しても1〜2芯のファイバにしか結合しない。
逆に、ΔQ=1.5mのときは軸ずれ範囲が広くなり多
芯のファイバを結合できる。しかし結合効率そのものは
非常に悪くなり、分岐ファイバへ十分な光パワーを入射
することはできない。従って、本実施例の7芯ファイバ
の場合には、最適間隙を八〇=0.7mmとした。また
、7芯ファイバ間でのバラツキも小さい。更に、八〇−
o、7#と十分に大きいためファイバ端面からの反射に
よる戻り光の影響は完全に抑止できる。
このようにLD12とファイバ端面との間隙へ〇を0.
7.に設定して補強用スリーブ7をガイドスリーブ11
に気密シールドして固定する。もちろん、このとき内部
にはN2ガスやへrガス等の不活性ガスを充満させる。
次に、出力側の光ファイバ1に光コネクタ15を取り付
ける。なお、被覆3が補強用スリーブ7から出ている根
本の部分は曲げに対して強くするために補強用チューブ
8をかけた。
以上のようにして高結合で多分配した半導体レーザモジ
ュール16を製造することができる。
以下、本発明の伯の実施例を説明する。
変形実施例 その1 第7図は本発明の製造方法の第1の変形実施例により製
造された半導体レーザモジュールの部分構成図である。
上記実施例において、光ファイバ束をガラスm維6で縛
る場合、光ファイバ素線2の径が125IER(エツヂ
ング部では60/l//I+以下)であるのに対して被
覆3の径は900p(通常600〜丁000μs)と非
常に大きいため、被覆3が除去された境界部分では光フ
ァイバ素線2に落差のある曲げが生じてしまう。そこで
、この光ファイバ素線2の曲げを抑えるために、第7図
のように光ファイバの被N3を熱溶着して光ファイバ素
線2間の隙間を埋め固めるようにした。この熱溶着部3
1を設けることにより光ファイバ素線2をガラス繊H6
等の集束部材で締結しても曲げによる光ファイバの断線
を防止でき信頼性の高い集束端末構造を得ることができ
る。
変形実施例 その2 光ファイバの被覆3が除去された境界部分の急激な曲げ
を緩やかなテーパで防止し且つ集束強度を増すために、
第8図に示すように中心孔82を備えた円錐台形状のテ
ーパ付きファイバガイド81を用いる。このファイバガ
イド81の側面には6本の被覆固定溝83と各被覆固定
溝83に連続してそれぞれ光ファイバ素線固定溝84が
形成されている。このファイバガイド81の中心孔82
および側面の被覆固定溝83に第2図のようにエツチン
グされた7芯の光ファイバの被覆3を沿わせた後、光フ
ァイバ素線固定溝84に各光ファイバの光ファイバ素線
2を沿わせてガラス繊維6で数ケ所を縛り第9図のごと
く集束させる。このようにすることによって、光ファイ
バの曲率を一定に保ち、急激な曲げが生じない信頼性の
高い端末部を得ることができる。なお、ファイバガイド
81は角錐台形状でもよく、その材質は熱膨張係数の小
さいステンレス、コバール、セラミックスあるいは耐熱
性の優れたテフロンやシリコン等が適している。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、次のごとき優れた
効果を発揮する。
(1)  クラッド厚がコア直径の10%以下と細い先
端部分を有する光ファイバを用いながら、断線すること
なくこれらの光ファイバを高密度集束し、半導体レーザ
ダイオードと効率よく光結合する半導体レーザモジュー
ルを製造することができる。
〔2)  従って、例えば衛星放送信号を1台のパラボ
ラアンテナで受信した後、本発明により製造された半導
体レーザモジュールを使用することによって、低電力束
密度の複数の地域(山間地域など)にBS−T F帯テ
レビ信号を光伝送することができ、機能性に優れたシス
テムを実現することができる。
(3)  また、本発明による複数光ファイバ結合型半
導体レーザモジュールは、高精度且つ高価な光学レンズ
系を必要としないために、安価で製造することができ、
しかも信頼性が高く、光CATV等に応用したり、都市
部での難視聴解消のためのビル内分配システムに適用す
ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例により製造された複数光ファ
イバ結合型半導体レーザモジュールにおける光ファイバ
高密度集束端末部の断面構成図、第2図は実施例で用い
た光ファイバの形状を示す斜視図、第3図は実施例によ
り製造された複数光ファイバ結合型半導体レーザモジュ
ールの構成図、第4図は光ファイバのクラッド厚tと結
合損失ηとの関係を示すグラフ、第5図(a)〜(e)
は集束部材としてのリングの形状を示す説明図、第6図
は半導体レーザダイオードと光ファイバとの結合特性図
、第7図ないし第9図は本発明の他の実施例を示す説明
図、第10図ないし第13図は従来例を示す説明図であ
る。 図中、1は光ファイバ、2は光ファイバ素線、3は被覆
材、6はガラスml、7は補強用スリーブ、11はガイ
ドスリーブ、12は半導体レーザダイオード、16は半
導体レーザモジュールである。 特  許  出  願  人   日  本  放  
送  協  会日立電線株式会社

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)半導体レーザダイオードに複数本のマルチモード
    光ファイバを結合して光出力を多分配する半導体レーザ
    モジュールの製造方法において、上記光出力の入射端に
    おいては上記複数の光ファイバの被覆材を除去すると共
    にクラッドを縮径して光ファイバ素線を成形し、該複数
    の光ファイバ素線を集束部材で締結してこれを高密度集
    束し、これらを補強スリーブ内に挿入固定した後、その
    一端に半導体レーザダイオードが固定されているガイド
    スリーブに上記補強スリーブを嵌合させて上記半導体レ
    ーザダイオードと上記複数の光ファイバ素線とを光結合
    させることを特徴とする複数光ファイバ結合型半導体レ
    ーザモジュールの製造方法。
  2. (2)上記複数の光ファイバ素線の入射端におけるクラ
    ッド厚がコア直径の10%以下であることを特徴とする
    上記特許請求の範囲第1項記載の複数光ファイバ結合型
    半導体レーザモジュールの製造方法。
  3. (3)上記集束部材がガラス繊維、金属、プラスチック
    、セラミックのうちいずれかからなる細線、あるいは金
    属箔あるいはリングからなるか、またはこれらを組合わ
    せてなることを特徴とする上記特許請求の範囲第1項ま
    たは第2項記載の複数光ファイバ結合型半導体レーザモ
    ジュールの製造方法。
  4. (4)上記光ファイバ素線がコア直径50μm、クラッ
    ド外径125μm、比屈折率差1%のグレーデッドイン
    デックス型光ファイバであり、上記半導体レーザモジュ
    ールが中芯の光ファイバの円周上に互いに接するように
    6芯の光ファイバが配列されている7分配モジュールを
    構成することを特徴とする上記特許請求の範囲第1項な
    いし第3項のうちいずれか1項記載の複数光ファイバ結
    合型半導体レーザモジュールの製造方法。
  5. (5)上記集束された複数の光ファイバ素線の入射端側
    の各被覆材を熱溶着してこれらを一体化することを特徴
    とする上記特許請求の範囲第1項ないし第4項のうちい
    ずれか1項記載の複数光ファイバ結合型半導体レーザモ
    ジュールの製造方法。
  6. (6)上記集束部材による集束が、上記複数の光ファイ
    バ素線の入射端側の被覆材長手方向の所定の部分からク
    ラッドが縮径されている光ファイバ素線のガラス部分ま
    での範囲にかけて中心孔を備えた溝付き円錐台あるいは
    角錐台形状部材に取付けて上記集束部材で集束し固定し
    たことを特徴とする上記特許請求の範囲第1項ないし第
    4項のうちいずれか1項記載の複数光ファイバ結合型半
    導体レーザモジュールの製造方法。
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