JPS62114119A - Magnetic disk - Google Patents
Magnetic diskInfo
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- JPS62114119A JPS62114119A JP25539485A JP25539485A JPS62114119A JP S62114119 A JPS62114119 A JP S62114119A JP 25539485 A JP25539485 A JP 25539485A JP 25539485 A JP25539485 A JP 25539485A JP S62114119 A JPS62114119 A JP S62114119A
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ディスク装置の如き磁気的記憶装置の記
憶媒体として用いられる磁気ディスクに関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a magnetic disk used as a storage medium in a magnetic storage device such as a magnetic disk device.
本発明は、金属磁性薄膜を磁性層とする磁気ディスクに
おいて、基板と金属磁性薄膜との間に比抵抗1011Ω
・■以」二の絶縁体被覆層を形成することにより、
耐蝕性に優れた磁気ディスクを提供しようとするもので
ある。The present invention provides a magnetic disk having a metal magnetic thin film as a magnetic layer, with a specific resistance of 1011Ω between the substrate and the metal magnetic thin film.
・By forming the second insulating coating layer described below, the present invention aims to provide a magnetic disk with excellent corrosion resistance.
例えばコンピュータ等の記憶媒体としては、ランダムア
クセスが可能な円板状の磁気ディスクが広く用いられて
おり、なかでも、応答性に優れること、記憶容量が大き
いこと、保存性が良好で信頬性が高いこと等から、基板
にAn−Mg合金板等の硬質材料を用いた磁気ディスク
、いわゆるハードディスクが固定ディスク、あるいは外
部ディスクとして使用されるようになっている。For example, disk-shaped magnetic disks that can be randomly accessed are widely used as storage media in computers, etc., and among them, they have excellent responsiveness, large storage capacity, good storage stability, and reliability. Because of the high resistance, magnetic disks whose substrates are made of hard materials such as An-Mg alloy plates, so-called hard disks, have come to be used as fixed disks or external disks.
上記ハードディスクは、例えばAn合金基板上に記録再
生に関与する磁性層を形成したものであって、高速で回
転して同心円状の多数のトラックに情報の記録再生を行
うものである。The hard disk has, for example, a magnetic layer involved in recording and reproducing formed on an An alloy substrate, and rotates at high speed to record and reproduce information on a large number of concentric tracks.
一方、この種の磁気ディスクにおいても、高密度記録化
や短波長記録化が進められていることは言うまでもなく
、例えばCo−Ni等の合金を真空蒸着やスパッタリン
グ等の真空薄膜形成技術により薄膜化し、これを磁性層
とする磁気ディスクの開発が進められている。On the other hand, it goes without saying that high-density recording and short-wavelength recording are progressing in this type of magnetic disk as well. , magnetic disks using this as a magnetic layer are being developed.
このような金属磁性薄膜を磁性層とする磁気ディスクは
、非磁性材である有機バインダを混入する必要がないた
め磁性材料の充填密度を飛躍的に高めることができるこ
と、記録減磁や厚み損失が著しく小さいこと等の数々の
優れた特性を有している。Magnetic disks with such metal magnetic thin films as magnetic layers do not need to mix an organic binder, which is a non-magnetic material, so the packing density of the magnetic material can be dramatically increased, and recording demagnetization and thickness loss are reduced. It has many excellent properties such as being extremely small.
ところで、前述の磁気ディスクにおいて、例えばAA−
Mg合金基板のような金属基板上に磁性層として金属磁
性薄膜を形成した場合には、これら基板と金属磁性薄膜
間に接触電位が生ずることにより、高湿度下で電気化学
的な腐食が促進される。もちろん、腐食現象は上記電気
化学的なものばかりでな(、純粋な化学反応により進行
するものもあるが、この化学反応による腐食に対しては
防錆剤の使用等が検討されている。これに対して、電気
化学的な腐食を防止するには、■基板材料と金属磁性薄
膜材料とを接触電位が生じない材料とすること、あるい
は■基板そのものを絶縁体とすること等が要求される。By the way, in the above-mentioned magnetic disk, for example, AA-
When a metal magnetic thin film is formed as a magnetic layer on a metal substrate such as an Mg alloy substrate, a contact potential is generated between the substrate and the metal magnetic thin film, which promotes electrochemical corrosion under high humidity. Ru. Of course, corrosion phenomena are not only electrochemical (as mentioned above), but there are also those that proceed due to pure chemical reactions, but the use of rust preventives is being considered to prevent corrosion caused by these chemical reactions. However, in order to prevent electrochemical corrosion, it is necessary to use materials that do not generate contact potential between the substrate material and the metal magnetic thin film material, or to make the substrate itself an insulator. .
ここで、■に挙げた条件は、基板材料と金属磁性薄膜材
料とが同一金属でないかぎり接触電位が生ずることから
、実現不可能である。一方、■に挙げた条件は、基板を
ガラス、プラスチック、セラミクス等の絶縁体とするこ
とにより実現可能であるが、性能2価格等の点から現実
的でない。Here, the condition listed in (2) cannot be realized because a contact potential will occur unless the substrate material and the metal magnetic thin film material are of the same metal. On the other hand, the conditions listed in (2) can be realized by using an insulator such as glass, plastic, or ceramics for the substrate, but this is not realistic from the viewpoints of performance, price, etc.
そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑み、Aβ−Mg
合金基板等の汎用基板を用い、磁性層を金属磁性薄膜と
した場合にも、腐食が少なく保存性や信幀性に優れた磁
気ディスクを提供することを目的とする。Therefore, in view of the conventional situation, the present invention provides Aβ-Mg
An object of the present invention is to provide a magnetic disk that exhibits less corrosion and excellent storage stability and reliability even when a general-purpose substrate such as an alloy substrate is used and the magnetic layer is a metal magnetic thin film.
本発明の磁気ディスクは、かかる目的を達成するために
、基板上に比抵抗IQ目Ω・C111以上の絶縁体被覆
層を形成し、この上に金属磁性薄膜を形成することを特
徴としている。In order to achieve this object, the magnetic disk of the present invention is characterized in that an insulating coating layer having a resistivity of IQ Ω·C111 or more is formed on a substrate, and a metal magnetic thin film is formed on this insulating coating layer.
本発明が適用される磁気ディスクは、基板としてAβ、
AJ−Mg等のアルミニウム合金、あるいはチタン合金
等の金属材料を使用したものである。A magnetic disk to which the present invention is applied includes Aβ as a substrate,
An aluminum alloy such as AJ-Mg or a metal material such as a titanium alloy is used.
また、上記基板上に磁性層として形成される金属磁性薄
膜の材質としては、F e + Co + N i等
の金属の他に、Co−N1合金、Co−Pt合金。The material of the metal magnetic thin film formed as a magnetic layer on the substrate includes metals such as Fe + Co + Ni, Co-N1 alloy, and Co-Pt alloy.
Co−Ni−Pt合金、Fe−Co合金、Fe−Ni合
金、Fe−Co−N1合金、Fe−Co−B合金、Co
−N1−Fe−B合金、Co−Cr合金あるいはこれら
にCr、Aj!等の金属が含有されたもの等、通常この
種の磁気ディスクに使用される強磁性金属材料であれば
如何なるものであってもよい。Co-Ni-Pt alloy, Fe-Co alloy, Fe-Ni alloy, Fe-Co-N1 alloy, Fe-Co-B alloy, Co
-N1-Fe-B alloy, Co-Cr alloy, or Cr, Aj! Any ferromagnetic metal material that is normally used in this type of magnetic disk may be used, such as those containing metals such as.
上記金属磁性Tit膜は、通常、真空蒸着法やスパッタ
法、イオンブレーティング法等の真空薄膜形成技術によ
って被着形成される。The above-mentioned metallic magnetic Tit film is usually deposited and formed by a vacuum thin film forming technique such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, or an ion blating method.
また、上記いずれの方法においても、基板上にあらかじ
めBi、Sb、Pb、Sn、Ga、In。In any of the above methods, Bi, Sb, Pb, Sn, Ga, and In are formed on the substrate in advance.
Cd、Ge、Si、Tit等の下地金属層を被着形成し
ておき、基板面に対して垂直方向から成膜することによ
り、面内等方法に優れた磁気ディスクを効率的に作製す
ることができる。To efficiently manufacture a magnetic disk with excellent in-plane method by first depositing a base metal layer such as Cd, Ge, Si, or Ti, and then depositing the film in a direction perpendicular to the substrate surface. I can do it.
本発明では、第1図に示すように、上記基板(1)と金
属磁性薄膜(2)との間に絶縁体被覆層(3)を設け、
金属材料同士が接触することがないようにしている。In the present invention, as shown in FIG. 1, an insulator coating layer (3) is provided between the substrate (1) and the metal magnetic thin film (2),
Metal materials are prevented from coming into contact with each other.
上記絶縁体被覆層(3)の材質としては、比抵抗がIQ
IIΩ・(2)以上の絶縁物が用いられ、例えばS i
Ox 、 A l1203. T a 20s等が使
用可能である。これら絶縁材料は、スパッタリングや真
空蒸着等の手法により簡単に基板(1)表面に被着する
ことができる。あるいは、基板(1)がA1合金系材料
により形成される場合には、その表面を酸化してアルマ
イト層を設け、これを絶縁体被覆層(3)としてもよい
。The material of the insulator coating layer (3) has a specific resistance of IQ
An insulator with a resistance of IIΩ・(2) or more is used, for example, Si
Ox, Al1203. T a 20s etc. can be used. These insulating materials can be easily deposited on the surface of the substrate (1) by methods such as sputtering and vacuum deposition. Alternatively, when the substrate (1) is formed of an A1 alloy material, the surface thereof may be oxidized to provide an alumite layer, and this may be used as the insulator coating layer (3).
この絶縁体被覆層(3)の比抵抗がIQIIΩ・0未満
であると、所定の効果が期待できない。If the specific resistance of the insulator coating layer (3) is less than IQIIΩ·0, the desired effect cannot be expected.
また、上記絶縁体被覆層(3)は、基板(1)の全面に
形成してもよいが、基板(1)が完全に被覆されている
と静電ノイズが発生するので、金属材料よりなる基板(
1)の一部が露出していることが望ましい。例えば、基
板(1)の内周部が露出するように絶縁体被覆層(3)
を被着し、ディスクドライブ装置に装着した場合にこの
内周部を通して導通がとれるようにしておけば、前述の
静電ノイズを防止することができる。The insulating coating layer (3) may be formed on the entire surface of the substrate (1), but if the substrate (1) is completely covered, electrostatic noise will occur, so the insulating coating layer (3) may be made of a metal material. substrate(
It is desirable that part of 1) is exposed. For example, the insulator coating layer (3) is placed so that the inner peripheral part of the substrate (1) is exposed.
The above-mentioned electrostatic noise can be prevented by covering the disc with a disc so that conduction can be established through the inner circumferential part when the disc drive is mounted on the disc drive.
基板と金属磁性薄膜との間に絶縁体被覆層を設けること
により、金属材料同士の接触がなくなり、接触電位の発
生が抑制される。したがって、電気化学的な腐食の進行
が抑えられる。By providing an insulator coating layer between the substrate and the metal magnetic thin film, there is no contact between the metal materials, and the generation of contact potential is suppressed. Therefore, progress of electrochemical corrosion is suppressed.
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本
発明がこれら実施例に限定されるものではない。Hereinafter, specific examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples.
実施例1゜
AJ!−Mg合金板表面にアルマイト層(比抵抗≦10
”Ω・Cl11)を12μm被覆した後、鏡面研磨によ
り上記アルマイト層の厚さを10μmとし、これを基板
として用いた。Example 1゜AJ! - Alumite layer on the surface of the Mg alloy plate (specific resistance ≦10
After coating the alumite layer with 12 μm of Ω·Cl11), the alumite layer was mirror-polished to a thickness of 10 μm, and this was used as a substrate.
そして、上記基板上にあらかじめ膜厚100人のビスマ
ス下地層を被着形成した後、下記のスパッタ条件により
膜1’!500人のコバルト−ニッケル薄膜(Ni35
原子%含有)を磁性層として形成した。After a bismuth underlayer with a thickness of 100 layers was deposited on the substrate, a film 1'! was formed under the following sputtering conditions. 500 cobalt-nickel thin films (Ni35
atomic %) was formed as a magnetic layer.
スパッタ条件
アルゴンガス圧 5 X 10−”Torr
投入RF電力 1.OkW基板温度
150℃ターゲット径
100wnφターゲットー基板間距離 95
鶴次いで、このコバルト−ニッケル薄膜上に膜厚300
人のカーボン保護膜を真空蒸着法により被着し、サンプ
ルディスクを作製した。Sputtering conditions Argon gas pressure 5 x 10-”Torr
Input RF power 1. OKW substrate temperature
150℃ target diameter
100wnφ target-substrate distance 95
TsuruNext, a film thickness of 300 mm was deposited on this cobalt-nickel thin film.
A sample disk was prepared by applying a human carbon protective film by vacuum evaporation.
実施例2゜
鏡面加工したA7!−Mg合金板の表面にS i Oを
膜(比抵抗≦10+2Ω・C)を5μmスパッタし、こ
れを基板とした。Example 2゜A7 with mirror finish! A 5 μm film of SiO (specific resistance≦10+2Ω·C) was sputtered on the surface of the -Mg alloy plate, and this was used as a substrate.
他は実施例1と同様の方法によりサンプルディスクを作
製した。A sample disk was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.
実施例3゜
鏡面加工したAm!−Mg合金板の表面にA l t0
3膜(比抵抗≦1013Ω・Cl11)を4μmスパッ
タし、これを基板とした。 1,1他は実施例
1と同様の方法によりサンプルディスクを作製した。Example 3゜Mirror-finished Am! -Al t0 on the surface of the Mg alloy plate
3 films (specific resistance≦1013Ω·Cl11) were sputtered to a thickness of 4 μm, and this was used as a substrate. A sample disk was prepared in the same manner as in Example 1 except for 1 and 1.
比較例。Comparative example.
鏡面加工したAf−Mg合金板の表面に無電解メッキに
よりN1−P層を15μm被覆した後、鏡面研磨してN
1−P層を12μmとし、これを基板とした。After coating the surface of the mirror-finished Af-Mg alloy plate with a 15 μm N1-P layer by electroless plating, it was mirror-polished and
The 1-P layer had a thickness of 12 μm and was used as a substrate.
他は実施例1と同様の方法によりサンプルディスクを作
製した。A sample disk was produced in the same manner as in Example 1 except for the above.
上述の実施例及び比較例により作製されたサンプルディ
スクについて、温度60℃、相対湿度90%の雰囲気中
に1週間保持した後、残留磁化量φ、′を振動試料型磁
力計(VSM)により測定し、初期の残留磁化量φ、°
からの変化を調べた。For the sample disks produced according to the above examples and comparative examples, after holding them in an atmosphere at a temperature of 60°C and a relative humidity of 90% for one week, the amount of residual magnetization φ,' was measured using a vibrating sample magnetometer (VSM). and the initial residual magnetization φ, °
We investigated the changes since.
耐蝕性の目安として、残留磁化量の変化率Δφ、〔−(
φ、゛−φ、”)/φr”X100%〕を較べた。結果
を第1表に示す。なお、各サンプルディスクはそれぞれ
3枚ずつ作製し、その平均値で較べた。As a guideline for corrosion resistance, the rate of change in residual magnetization Δφ, [-(
φ, ゛-φ,'')/φr''X100%] were compared. The results are shown in Table 1. Note that three sample disks were produced for each sample disk, and the average values thereof were compared.
第1表
次に、サンプルディスク面のミッシングパルス及びエク
ストラパルスの電磁変換信号上の欠陥数の加速試験後の
変化を調べた。すなわち、温度50℃、相対湿度80%
の雰囲気中に1週間保持した後、初期の欠陥数からの増
加を調べた。結果を第2表番こ示す。なお、この欠陥数
の測定においても、それぞれ3枚のサンプルディスクの
平均をとった。Table 1 Next, changes in the number of defects on electromagnetic conversion signals of missing pulses and extra pulses on the sample disk surface after the accelerated test were investigated. i.e. temperature 50℃, relative humidity 80%
After being kept in the atmosphere for one week, the increase in the number of defects from the initial number was examined. The results are shown in Table 2. Note that in measuring the number of defects, the average of three sample disks was also taken.
第2表
これらの試験結果より、絶縁体被覆層を設けることによ
り耐蝕性の改善が図られたことが確認された。Table 2 From these test results, it was confirmed that the corrosion resistance was improved by providing the insulating coating layer.
以上の説明からも明らかなように、本発明の磁気ディス
クにおいては、金属材料よりなる基板と磁性層である金
属磁性薄膜との間に比抵抗が10区1Ω・0以上の絶縁
体被覆層を形成し電気的に絶縁しているので、金属同士
の接触による接触電位の発生が抑えられ、電気化学的な
腐食の進行が抑制される。したがって、耐蝕性に優れ、
保存性、信転性に優れた磁気ディスクの提供が可能とな
る。As is clear from the above description, in the magnetic disk of the present invention, an insulating coating layer having a resistivity of 1Ω·0 or more in 10 divisions is provided between the substrate made of a metal material and the metal magnetic thin film serving as the magnetic layer. Since it is formed and electrically insulated, the generation of contact potential due to contact between metals is suppressed, and the progress of electrochemical corrosion is suppressed. Therefore, it has excellent corrosion resistance,
It becomes possible to provide a magnetic disk with excellent storage stability and reliability.
また、本発明によれば汎用のAl1−Mg合金基板等が
使用可能であるため、性能や価格等の点でも有利である
。Further, according to the present invention, a general-purpose Al1-Mg alloy substrate or the like can be used, which is advantageous in terms of performance, cost, etc.
第り図は本発明を適用した磁気ディスクの構成を示す概
略的な要部拡大断面図である。
1・・・基板
2・・・金属磁性薄膜
3・・・絶縁体被覆層FIG. 2 is a schematic enlarged sectional view of the main part showing the structure of a magnetic disk to which the present invention is applied. 1...Substrate 2...Metal magnetic thin film 3...Insulator coating layer
Claims (1)
層を形成し、この上に金属磁性薄膜を形成することを特
徴とする磁気ディスク。A magnetic disk characterized in that an insulating coating layer having a specific resistance of 10^1^1 Ω·cm or more is formed on a substrate, and a metal magnetic thin film is formed on the insulating coating layer.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25539485A JPS62114119A (en) | 1985-11-14 | 1985-11-14 | Magnetic disk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25539485A JPS62114119A (en) | 1985-11-14 | 1985-11-14 | Magnetic disk |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62114119A true JPS62114119A (en) | 1987-05-25 |
Family
ID=17278152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25539485A Pending JPS62114119A (en) | 1985-11-14 | 1985-11-14 | Magnetic disk |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62114119A (en) |
-
1985
- 1985-11-14 JP JP25539485A patent/JPS62114119A/en active Pending
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