JPS6211143A - 受光素子 - Google Patents

受光素子

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JPS6211143A
JPS6211143A JP60140146A JP14014685A JPS6211143A JP S6211143 A JPS6211143 A JP S6211143A JP 60140146 A JP60140146 A JP 60140146A JP 14014685 A JP14014685 A JP 14014685A JP S6211143 A JPS6211143 A JP S6211143A
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JP
Japan
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wafer
light receiving
light
view
receiving element
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Application number
JP60140146A
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English (en)
Inventor
Toshiaki Taniuchi
谷内 俊明
Ryoji Nemoto
亮二 根本
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Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS6211143A publication Critical patent/JPS6211143A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ この発明は、複数の光電変換エレメントが直線的に配列
された受光素子に関する。
[従来の技術] 複数の光電変換エレメントが直線的に配列された従来の
受光素r(例えばビンホトダイオードアレイ)において
は、光電変換エレメントの配列方向と直交する方向から
見て、各充電変換エレメントの受光エリア間にかなり広
い隙間がある。
[解決しようとする問題点コ このような従来の受光素子を用いて、例えば([J。
而などを走査観察した場合、各光電変換エレメントに対
応した観察平面にの視野が飛び飛びになり、単純な走査
方式では、視野間の空き部分が観察されないなどの問題
がある。
この問題について、より具体的に説明する。
LSI用ウェハの異物検査装置として、光ビームをウェ
ハ而に照射し、ウェハ而からの反射光を受光素子で受光
して電気信号に変換し、この電気信号に基づきウェハ而
における異物の存否などを判定する型式のものがある。
この種の従来のウェハ異物検査装置では、受光素子とし
てホトマルチプライヤを1個設け、そのウェハ而におけ
る視野を絞るために、ウェハ而からの反射光をスリット
を介してホトマルチプライヤに入射させるようになって
いる。そして、ウェハを回転させつつ半径方向へ移動さ
せることにより、ホトマルチプライヤの視野を螺旋状に
移動させ、ウェハ而を螺旋走査しながら検査を行うよう
になっている。
ホトマルチプライヤの出力信号には、異物に関係した信
号成分の外に、ウェハの表面杖態などによっ決まるバッ
クグラウンドノイズも含まれている。その信号のS/N
を+、げ、微小な異物の検出を可能とするためには、ホ
トマルチプライヤのウェハ而における視野をできるだけ
小さくする必要がある。前記従来装置においては、スリ
ットのアパーチャを小さくすることにより、視野を絞っ
ている。
しかし、前記従来装置において、ホトマルチプライヤの
視野は1つであるため、ウェハ而をもれなく検査するに
は、走査線(視野の移動軌跡)のピッチを小さくしなけ
ればならず、検査時間が著しく増加するという問題があ
った。
そのような問題を解決する1つの方法として、複数の光
電変換エレメントが直線的に配列された受光素子を用い
、その複数の視野を走査方向に対して直交させる方向に
配列させ、複数の視野によりウェハ而を並列的に観察す
るが考えられる。
ところが、そのような従来の受光素−子は、前述のよう
に、光電変換エレメントの配列方向と直交する方向から
見て、各光電変換エレメントの受光エリア間にかなり広
い隙間があるため、視野が飛び飛びになり、単純に螺旋
走査した場合、視if間の空き部分が検査されないこと
になってしまう。
これに対処するには、2つの受光素子を、光電変換エレ
メントの配列方向にわずかにずらして並設し、ある受光
素子の視野の間に他の受光素子の視野を位置させたり、
または、視野の配列が走査方向に対して大きな角度で傾
斜するように受光素子を斜め配置したりして、視野間の
空きを減少させ、あるいは視JFを実質的に連続させる
などの手段を講じる必要がある。しかし、前者の場合、
受光素子の相対位置の精密調節が面倒であり、かつ位置
、呉差が生じやすいなどの問題がある。また、後者の場
合、それぞれの視野の位置つまり検査点の位置が、視野
毎に大幅に異なることになるから、検出された異物の位
置を対応する視野に応じて補IFするなどの処理が必要
となり、螺旋走査の場合、ウェハの半径方向の座標と回
転角度の両方について位置を補l・ニジなければならず
、その処理がかなり複雑になるなどの問題がある。これ
は、2つの受光素rを用いる場合でも同様である。
このように、従来の受光素子には、ウェハ異物検査装置
などにおいて走査観察に用いる場合、種々の問題点また
は制約があった。
[発明の目的] この発明の目的は、前述したような従来の受光素rの問
題点を解消し、前記ウェハ異物検査装置などにおいてウ
ェハ而を複数の視野で並列的に観察するような用途に好
適な受光素子を提供することにある。
[問題点を解決するための手段コ この発明によれば、その目的を達成するために、複数の
光電変換エレメントが直線的に配列されてなる受光素子
において、前記各光電変換エレメントの受光面における
受光エリアは前記配列の方向に対して傾けられ、前記配
列の方向に対して直交する方向から見て隣り合う前記受
光エリアが実質的に連続するような配列ピンチで前記光
電変換エレメントは配列される。
[作用] この発明による受光素子は、前述のごとき構成であるか
ら、例えばウェハ異物検査装置の受光素子として用いた
場合、各光電変換エレメントの受光エリアのウェハ面−
ヒでの視野は1列に配列し、その配列方向に対して直交
する方向から見ると、視野は連続する。したがって、視
野がウェハの走査方向に対して垂直方向に配列するよう
に受光素子の取り付は向きを決定すれば、一端側の視野
から他端側の視野までのウェハ而領域をもれなく観察で
きる。また、螺旋走査の場合でも、視野の位置はウェハ
の半径方向について異なるだけであり、しかも視野は半
径方向に並ぶため、異物の位置の捕11:を1TTi’
liな処理によって行うことができる。
[実施例コ 以ド、図面を参照し、この発明の一実施例について詳細
に説明する。
第1図は、この発明による受光素rの受光面から見た拡
大・V面図である。第2図は、その受光素r−を用いた
ウェハ用異物検査装置の光学系部分などの構成を簡略化
して示す概要図である。
まず、第2図を参照して説明する。この図において、1
0はX方向に摺動+jJ能にベース12に支持されたX
ステージである。このXステージ10には、ステッピン
グモータ14の回転軸に直結されたスクリュー16が螺
合しており、ステッピングモータ14を作動させること
により、Xステージ10をX方向に進退させることがで
きる。18はXステージ10のX方向位置Xに対応した
コード(Iiジノ′を発生するリニアエンコーダでアル
Xステージ10には、Zステージ20がZ方向に移動可
能に取り付けられている。19はZステージ20をZ方
向に移動させるためのステッピングモータであり、Xス
テージ10に固定されている。図中省略されているが、
このステッピングモータ19の回転軸には偏心カムが取
り付けられ、このカムに係合するカムフォロアがZステ
ージ20側に設けられている。しかして、ステッピング
モータ19を作動させると、その回転が前記偏心カムお
よびカムフォロアを介してZステージ20に伝達され、
Zステージ20が」ニドする。
また、Zステージ20には、被検査物としてのウェハ3
0が載置される回転ステージ22が回転可能に支持され
ている。ここで、ウェハ30としては、ブランク膜付き
ウェハ、鏡面ウェハ、またはパターン付きウェハをセッ
トして検査可能である。
この回転ステージ22は、直流モータ24が連結されて
おり、これを作動させることにより回転されるようにな
っている。この直流モータ24には、その回転角度位置
θに対応したコード信号を出力するロータリエンコーダ
が内蔵されている。
なお、ウェハ30は、回転ステージ22に負圧吸着によ
り位置決め固定されるが、そのための手段は図中省かれ
ている。
このウェハ異物検査装置は、偏光レーザ光を利用してウ
ェハ30にの異物を自動的に検査するものであり、ウェ
ハ30の」二面(被検青白)に、S偏光レーザ光が照射
される。そのために、S偏光レーザ発振に438.38
が設けられている。各S偏光レーザ発振器38.38は
、ある波長のS偏光レーザ光を発生するもので、例えば
波長が8300オングストロームの半導体レーザ発振器
である。
そのS偏光レーザ光は、Y方向よりウェハ30のL而に
微小(例えば約2度)の照射角度φで照射される。この
ように照射角度が小さいため、円形断面のS偏光レーザ
光のビームを照射した場合、ウェハ而におけるスポット
が長く妃びてしまい、1−分な照射密度を得られない。
そこでS偏光レーザ発振器36.38の1);i方にシ
リンドリ力ルレンス44.46を配置しS偏光レーザ発
振器36゜38から出たほぼ円形断面のS偏光レーザ光
ビームを、Z方向につぶれた扇車な断面形状のビームに
絞ってからウェハ而に照射するようにしている。
ここで、パターンなしのブランク膜付きウェハ(または
鏡面ウェハ)の場合、S偏光レーザ光は、その照射スポ
ット内に異物が存在しなければ、はぼ正反射されZ方向
には反射されないが、異物が存在すれば、それにより乱
反射されてZ方向にも反射される。
他方、パターン付きウェハの場合、ウェハ而に照射され
たS偏光レーザ光の反射レーザ光は、その照射スポット
内にパターンが存在すれば、Z方向にも反射されるが、
そのパターンの面は微視的に平滑であるため、反射レー
ザ光はほとんどS偏光成分だけである。これに対し、異
物の表面には一般に微小な凹凸があるため、照射スポッ
ト内に異物が存在すると、照射されたS偏光レーザ光は
散乱して偏光方向が変化し、反射レーザ光には、S偏光
成分の外に、P偏光成分をかなり含まれることになる。
このような現象に着目し、このウェハ異物検査装置にお
いては、パターン付きウェハの場合には、ウェハ而から
のZ方向への反射レーザ光に含まれるP偏光成分のレベ
ルに基づき、異物のイr無と異物のサイズを検出する。
他方、ブランク膜付きウェハ(鏡面ウェハも含む)の場
合には、検出感度を増大させるために、Z方向へのS偏
光反射レーザ光およびP偏光反射レーザ光のレベルに基
づき、異物の存否およびサイズを検出する。
μ■び第2図を参照する。ウェハ而からの反射レーザ光
は、前記原理に従い異物を検出する検出系50と、ウェ
ハの目視観察のための顕微鏡52とに共通の光学系に入
射する。すなわち、反射レーザ光は、対物レンズ54、
ハーフミラ−56、プIJ 、(ム58を経由して45
度プリズム60に達する。
また、[1視観察のためにランプ70か設けられている
。このランプ70から出た可視光により、ハーフミラ−
56および対物レンズ54を介してウェハ而が■1明さ
れる。その反射光も、反射レーザ光と同様に45度プリ
ズム60に達する。
プリズム60を経由して顕微鏡2側に入射したi+J視
反対反射光60度プリズム62、フィールドレンズ64
、リレーレンズ66を順に通過して接眼レンズ68に入
射する。したがって、接眼レンズ68により、ウェハ3
0を十分大きな倍率で目視観察することができる。この
場合、視!I’Fの中心に、ウェハ面上のS偏光レーザ
光スポットの範囲が位置する。また、プリズム58を通
してウェハ30を低倍率で観察することもできる。
プリズム60を経由して検出系側に入射した反射レーザ
光は、スリット72に設けられたアパーチャア4を通過
し、受光素子90へ送られる。
ここで、ウェハ30がパターン付きウェハの場合には、
S偏光カットフィルタ86(偏光板)が符号86°によ
り示す位置に移動せしめられるため、反射レーザ光のP
偏光成分だけが抽出されて受光素子90に入射する。ウ
ェハ30がブランク膜付きウェハ(または鏡面ウェハ)
の場合、S偏光カットフィルタ88は実線で示す位置に
移動せしめられるため、反射レーザ光のS偏光成分もP
偏光成分も受光素子90に入射する。
87はS偏光カットフィルタ86を移動させるためのソ
レノイドである。
受光素r−90について、第1図にて説明すれば、90
Aは受光面であり、その受光面90Aには細長い受光ア
パーチャ90Bが一定の間隔で配列形成されている。各
受光アパーチャ90Bの内側には、充電変換エレメント
としてのピンホトダイオード90Cが設けられている。
各ピンホトダイオード90Cの受光面90Aにおける受
光エリアは、受光アパーチャ90Bと実質的に同一であ
る。図から明らかなように、各受光エリア(90Bで示
す)は、ピンホトダイオード90Cの配列方向(図中で
は縦方向)に対して所定角度傾けられており、また細長
い形状となっており、ピンホトダイオード90Cの配列
方向と直交する方向(図中では横方向)から見た場合、
隣接する受光エリア90Bは実質的に連続している。
このようなピンホトダイオード90Cと受光エリア90
Bの配置関係以外は、従来のピンホトダイオードアレイ
からなる受光素γ−と同様である。
したがって、ピンホトダイオード90Cの内部構造など
の詳細については、説明を省略する。
L記受光素f′−90の各受光エリア90BおよびスI
Jット72のアパーチャア4のウェハ而における視野に
ついて、第4図により説明する。この図において、74
′はアパーチャア4のウェハ而における視野であり、S
変更レーザ光のスポットの範囲内に含まれる。90B゛
は各受光エリア90Bの視野であり、アパーチャア4の
視野74°内に入る。そして、視野90B゛の配列方向
は、走査方向(後述)とほぼ直交する方向であり、走査
方向から見ると、隣接する受光エリア90Bの視野90
B°は実質的に連続している。したがって、第1図から
容易に理解できるように、受光素子90は、ピンホトダ
イオード90Cの配列方向がZ方向となるような向きに
取り付けられている。
さて、各受光エリア90Bには、ウェハ而の視野90B
′に含まれる領域からの反射光が入射し、それぞれのビ
ンホトダイオード90Cにより電気信号に変換される。
その電気信号(検出信シシ)は、この実施例にあっては
、個々のピンホトダイオード90C毎に受光素子90に
設けられた端rより出力される。そして、後述するよう
に、各受光エリア対応の検出信号のレベルに基づき、各
受光エリア視野90B”における異物の存否と、異物の
粒径が判定される。
ここで、異物検査は、前述のようにウェハを回転させつ
つX方向(半径方向)に送りながら行われる。そのよう
なウェハ30の移動に従い、第5図に示すように、S偏
光レーザ光のスポット30Aはウェハ30の1−而を外
側より中心へ向かって螺旋状に移動する。検出系50と
顕微鏡52は静II6シており、アパーチャア4の視野
74゛と受光エリア90Bの視野90B゛は常にスポッ
ト30A内に含まれ、スボッ)30Aに追従して移動す
る。すなわち、ウェハ面は螺旋走査されながら検査され
、走査方向はウェハ30のほぼ円周方向である。
さて、前記受光素子90から出力される各検出信5づに
は、異物に関係した仏−号成分の外に、被検査面の状態
などによって決まるバックグラウンドノイズも含まれて
いる。その信シJのS/Nを1−げ、微小な異物の検出
をHiJ能とするためには、受光エリア90Bの視野9
0B“を小さくする必反がある。しかし、従来のウェハ
異物検査装置のように視野が1つの場合、走査線(視野
の軌跡)のピッチを小さくしなければならず、ウェハ面
全体を走査して検査するための時間が増加する。
これに対して、この発明の受光素子90を用いたウェハ
異物検査装置の場合、複数の視野90B。
が走査方向と垂直な方向に並び、しかも視野90B′間
に走査方向から見て隙間がない。したがって、個々の視
野90B゛を十分絞って検出信号のS/Nを」ユげ、同
時に走査線ピッチを大き(して検査時間を短縮できる。
ここで、照射角度φについて説明する。従来のウェハ異
物検査装置においては、ホトレジスト膜、アルミニウム
蒸着膜などのパターンのないブランク膜か表面に被着さ
れたウェハの異物検査をけう場合、かなり大きな照射角
度、例えば30度で光ビームかウェハ面に照射されるよ
うになっている。
発明者の研究によれば、そのような従来装置における検
出信号のバンクグラウンドノイズには、ウェハ表面(ブ
ランク膜の表面)の状態により決まるノイズ成分だけで
はなく、ブランク膜内部の状態に関係するノイズ成分と
、ブランク膜の丁のウェハ素地面の状態に関係するノイ
ズ成分とが含まれている。ウェハ表面からの反射光を利
用するという原理−ヒ、最初のノイズ成分を完全に除去
することは不可能であり、また、その影響も致命的なも
のではない。しかし、後の2つのノイズ成分は、ウェハ
内部の状態に影響されるものであり、直接誤検出の原因
となるため、除去すべきものである。
発明者の研究によれば、従来のウェハ異物検り装置にお
いては、ビームの11(1射角度が大きいため、ウェハ
表面に入射した光ビームの一部がブランク膜の内部に侵
入し、ウェハ素地面で反射され、i’)びブランク膜を
通過しウェハ表面に出て光電素子に入射するために、前
述の好ましくないノイズ成分が生じていたことが判明し
た。
そこで、この実施例においては、ウェハ面で光ビームが
実質的に全反射するように、光ビームの照射角度を前述
のように十分小さく選び、ウェハ内部への光ビームの侵
入を防りにしている。
pTび第2図を参照する。対物レンズ54の近傍に、ウ
ェハ面と対向させて静電界に変位計53が設けられてい
る。この静電容量変位計53は、ウェハ面と光学系の対
物レンズとの距*tS出のための手段であり、ウェハ面
上の間の静電8岨に従い、基準距離からの変位に比例し
た信号を出力する。
基準距離ならば、つまり基準位置からの変位量がゼロな
らば、対物レンズ54の焦点がウェハ面にiEl<合っ
ている。
次に、このウェハ異物検査装置の信号処理および制御系
について、第3図を釜!!(j Lで説明する。
前記受光素子90から出力される各検出信号は、増幅器
100により増幅されてから各レベル比較回路102に
人力される。
ここで、ウェハ1−の異物の粒径と、検出信ジノ・のレ
ベルとの間には、第6図に示すような関係がある。この
図において、Lt 、L2.LJは各レベル比較回路1
02の閾値である。
各レベル比較回路102は、それぞれの大カイ8号のレ
ベルを各閾値と比較し、各閾値との比較結束を示す2進
コードを出力する。例えば、検出信号レベルが閾値L/
未満ならば、(000)2を出力し、検出信号レベルが
閾値し2以上で閾値し3未膚ならば、(011)2を出
力し、検出信号レベルか閾値し3以上ならば(111)
 2を出力する。
各レベル比較回路102の出力コードは、データ処理シ
ステム104とのインターフェイスを司るインターフェ
イス回路108に入力される。
静電界)11変位、?+53の出力信−じ・はアナログ
/デジタル変mZ4103に入力され、2進コード(距
離コード)に変換されてインターフェイス回路108に
人力される。
また、インターフェイス回路108には、前記ロータリ
エンコーダおよびリニアエンコーダから、各時点におけ
る回転角度位置0およびX方向(半径方向)位置Xの情
報を示す信号(2進コード)が、バッファ回路110.
112を介し人力される。
前記インターフェイス回路108への各入力コードは、
一定の周期でインターフェイス回路108内部のあるレ
ジスタに取り込まれ、そこに一時的に保持される。
さらに、インターフェイス回路108の内部には、デー
タ処理システム104よりモータ14゜19.24およ
びソレノイド87の制御情報がセットされるレジスタも
ある。このレジスタにセットされた制御情報に従い、モ
ータコントローラ116によりモータ14.19.24
の駆動制御が11Zわれ、またソレノイドドライバ11
7によりソレノイド87の駆動制御が行われる。
データ処理システム104は、マイクロプロセッサ、プ
ログラムやデータなどを記憶するためのメモリ、テスト
結果などを保存するためのフロッピーディスク装置、オ
ペレータとの対話を行うためのキーボードとCRTディ
スプレイ装置、ウェハの異物マツプなどを印刷出力する
ためのX−Yプロ、夕などから構成されている。
次に、異物の自動検査動作について説明する。
回転ステージ22の所定位置にウェハ30がセ、トされ
ると、検査処理プログラムに従って、データ処理システ
ム104はXステージ10、Zステージ20および回転
ステージ22を初期位置に位置決めさせるためのモータ
制御情報、および、ウェハ30がパターン付きウェハの
場合にはS偏光カットフィルタ86を符号86′の位置
に移動させ、ウェハ30がブランク膜付きウェハ(また
は鏡面ウェハ)の場合にはS偏光カントフィルタ86を
実線位置へ移動させるためのソレノイド制御情報を、イ
ンターフェイス回路108の内部レジスタにセットする
。このモータ制御情報に従い、モータコントローラ11
6がステッピングモータ14.19.24を制御し、各
ステージを初期位置に移動させる。同様に、ソレノイド
ドライバ117は、ソレノイド制御情報に従い、ソレノ
イド87を付勢または消勢する。
ついでデータ処理システム104は、インターフェイス
回路108を介してステッピングモータ24を起動させ
る データ処理システム104は、インターフェイス回路1
08の内部レジスタから、一定の時間間隔で4回(一般
的には複数回)、距離コードを読み込み、それを内部の
メモリにに順次書き込む。
これで、ウェハ30の外周近傍の4W所(一般的には複
数箇所)についての距離コードが内部メモリに得られる
。なお、その距離検出箇所がウェハ30の円周方向にほ
ぼ均等に配されるように、距離コードの読み込み時間間
隔が選定される。
データ処理システム104は、読み込んだ4つの距離コ
ード(基準距離位置からの変位)の平均値を算出する データ処理システム104は、その平均変位を打ち消す
ような距離および方向にZステージ20を移動させるた
めの制御情報を、インターフェイス回路108を介して
モータコントローラ116に与える(ステップ510)
。これで、ウェハ而のほぼ全域について対物レンズ54
の焦点が合わせられ、実際の異物検査処理か始まる。
まず、データ処理システム104は、インターフェイス
回路108を通じ、モータコントローラ116に対し走
査開始を指示する。この指示を受けたモータコントロー
ラ116は、前述のような螺旋走査を一定速度で行わせ
るように、モータ14.24を駆動する。
データ処理システム104は、インターフェイス回路1
08の特定の内部レジスタの内容、すなわち、各検出信
号のレベル比較結果のコードと、走査位置X、0のコー
ドをll11’(次取り込み、内部のメモリにJIき込
む。レベル比較結果の各コードについてのゼロ判定を行
う。ある検出信号のコードがゼロならば、その検出信シ
タに対応する視野90B゛には異物が存在しないと判定
する。ある検出信号のコードがゼロでなければ、その検
出信号に対応する視野90B゛に異物が存在すると一応
判定する。
ゼロでないレベル比較結果コードが1つでも検出された
場合、その時の走査位置情報から、そのコードに対応す
る視野90B゛の位置を計算する。
つまり、θ方向の位置はロータリエンコーダの出力コー
ドにより示される位置を採用するが、X方向の位置はリ
ニアエンコーダの出力コードにより示される位置に、対
応する視野908”の配列位置に応じて決まる値を加算
または減算して求める。
このように、従来の受光素子を斜めに配置(7て用いる
場合、または2つの受光素子を並設して用いる場合に比
較し、異物位置の補正処理は極めて単純になる。また付
言すれば、従来の受光素子を2つ並設する場合のような
、取り付は位置の調節の面倒や位置誤差の問題も解消す
る。
さて、データ処理システム104は、前述のようにして
求めた位置(異物位置)と、既に検出されて内部メモリ
に格納されている他の異物の位置とを比較する。
この比較が不一致ならば、新しい異物が検出されたと判
断し、その異物の位置の情報き、レベル比較結果コード
(異物の粒径情+11りを内部メモリに格納する。比較
が一致した場合、既に検出済みの異物の一部が111度
検出されたものと判断し、現在検出された異物の情報は
内部メモリに格納しない。
これと並行して、データ処理システム104は、インタ
ーフェイス回路108より取り込んだ走査位置情報によ
り、走査終了位置まで走査が進んだかチェックしている
。走査終了と判定すると、データ処理システム104は
、インターフェイス回路108を通じて、モータコント
ローラ116に対し走査停止二指示を送る(ステップ2
50)。この指示に応答して、モータコントローラ11
6はステンピングモータ14.20の駆動を停止する。
次にデータ処理システム104は、内部メモリに格納さ
れている異物の情報をフロッピーディスク装置へ転送し
て格納させ、1つのウェハに対する自動異物検査を終了
する。
なお、検出された異物のマツプを印刷出力、させたり、
自動検査により検出された異物を目視観察し、その観察
結果を異物情報に併合したりするような各種の処理モー
ドがあるが、この発明の来旨に直接関連しないので、そ
の説明は省略する。
また、前記自動異物処理はプログラムに従って実行され
るが、そのようなプログラムは、当業者であれば、以上
の説明に基づき容易に実現できるであろうから、その詳
細説明は省略する。
ここで、この発明は前記実施例だけに限定されるもので
はなく、適宜変形して実施し得るものである。
例えば、受光素子の光電変換エレメントはピンホトダイ
オード以外の適切な光電変換エレメント、例えばMOS
型の充電変換エレメントなどでもよい。また、各光電変
換エレメントの信号を独立に並列出力する代わりに、例
えばCODシフトレジスタなどを設け、各光電変換エレ
メントの信りを直列的に出力させてもよい。そのように
すれば、検出信号のレベル比較を共通の1つの回路によ
り什うことができる。
また、この発明の受光素rば、前記ウェハ装置検査装置
以外における同様の用途に用いても、同様の効果を奏し
得るものである。
[発明の効果コ 以1−詳述したように、この発明によれば、各光電変換
エレメントの受光エリアは、その配列の方向に対して傾
けられ、前記配列の方向に対して直交する方向から見て
隣り合う受光エリアが実質的に連続するような配列ピッ
チで前記光電変換エレメントは配列される。このような
構成の受光素子をよれば、例えばウェハ異物検査装置の
受光素子として用いた場合、各充電変換エレメントの受
光エリアのウェハ面上での視野は1列に配列し、その配
列方向に対して直交する方向から見ると、視野は連続す
るため、視野がウェハの走査方向に対して重置方向に配
列するように受光素子の取り付は向きを決定することに
より、一端側の視!L!Fから他端側の視野までのウェ
ハ而領域をもれなく観察できる。また、螺旋走査の場合
でも、視野の位置はウェハの゛r径方向について異なる
たけであり、しかも視野は゛1′−径方向に並ぶため、
異物の位置の補正を簡!11な処理によって行うことが
できる。
このように、この発明によれば、従来の受光素rの問題
点を解消し、ウェハ而などの平面の走査観察に好適な優
れた受光素子を提供できるとともに、それを利用してウ
ェハ異物検査装置なとの性能を大幅に改屏できる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明による受光素子の受光面から見た概略
拡大甲面図、第2図は同受光素子を用いたウェハ異物検
査装置の光学系などの概略斜視図、第3図は同ウェハ異
物検査装置の信号処理および制御系を示す概略ブロック
図、第4図は同受光素子の各受光エリアおよびスリット
のアパーチャのウェハ而における視野の説明図、第5図
はウェハ而走査の説明図、第6図は異物の粒径と検出信
号レベルとの関係、およびレベル比較の閾値との関係を
示すグラフである。 10・・・Xステージ、14.19・・・ステッピング
モータ、22・・・回転ステージ、24・・・直流モー
タ、30・・・ウェハ、36.38・・・S偏光レーザ
発振器、50・・・検出系、52・・・顕微鏡、72・
・・スリット、86・・・S偏光カットフィルタ、87
・・・ソレノイド、90・・・受光素子、90A・・・
受光面、90B・・・受光アパーチャ(受光エリア)、
90C・・・ピンホトダイオード、90B’・・・受光
エリアの視野、100・・・増幅に+、102・・・レ
ベル比較回路、104・・・データ処理システム、10
8・・・インターフェイス回路、118−・・モータコ
ントローラ、117・・・ソレノイドドライバ。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)複数の光電変換エレメントが直線的に配列されて
    なる受光素子において、前記各光電変換エレメントの受
    光面における受光エリアは前記配列の方向に対して傾け
    られ、前記配列の方向に対して直交する方向から見て隣
    り合う前記受光エリアが実質的に連続するような配列ピ
    ッチで前記光電変換エレメントは配列されていることを
    特徴とする受光素子。
  2. (2)前記光電変換エレメントはピンホトダイオードで
    あることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の受光
    素子。
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