JPS62108423A - シヤドウマスクの製造方法 - Google Patents
シヤドウマスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS62108423A JPS62108423A JP24737185A JP24737185A JPS62108423A JP S62108423 A JPS62108423 A JP S62108423A JP 24737185 A JP24737185 A JP 24737185A JP 24737185 A JP24737185 A JP 24737185A JP S62108423 A JPS62108423 A JP S62108423A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- shadow mask
- particles
- electron beam
- base
- nozzle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、カラー陰極線管に内蔵される色選別電極で
あるシャドウマスクの製造方法に関するものである。
あるシャドウマスクの製造方法に関するものである。
カラー陰極線管におけるシャドウマスクの製造方法につ
いては、株式会社産報の電子科学１９６４年ＶＯＬ１４
／Ｎｏ９．８６頁および、３９頁〜４０頁に示されてい
る。
いては、株式会社産報の電子科学１９６４年ＶＯＬ１４
／Ｎｏ９．８６頁および、３９頁〜４０頁に示されてい
る。
ところで、一般に陰極線管は、第３図に示すように、皿
状のガラス容器であるパネル（１０と、電子ビームを発
射する電子銃αりを内蔵しているロート状のファンネル
ｔ１，１とからなり、これらパネル（１０とファンネル
Ｉ上りとの間に色選別電極としてのシャドウマスフ（至
）が介在され、パネル＋１０に支持部によって保持され
ている。
状のガラス容器であるパネル（１０と、電子ビームを発
射する電子銃αりを内蔵しているロート状のファンネル
ｔ１，１とからなり、これらパネル（１０とファンネル
Ｉ上りとの間に色選別電極としてのシャドウマスフ（至
）が介在され、パネル＋１０に支持部によって保持され
ている。
この色選別電極昏としてのシャドウマスクは、第４図の
ように０．１５〜０．２５ｆｉの鉄板製の基体ｆ１４）
に丸形もしくは長方形の電子ビーム通過孔（１９を形成
したもので、初工程では平担な形状である上記鉄板を熱
処理（水素雰囲気中で７００〜９２０°Ｃ）してからパ
ネル＋１０内面の球面形状に沿う形状にプレス加工し、
しかる後にその表面に、黒錆を得るための表面処理を施
して製作される。この黒錆を得る処理を表面黒化（Ｂｌ
ａｃｋｅｎｉｎｇ ）と称している。この処理は、まず
プレス加工時に付着した油の脱ｎｄを完全に行なった後
、アルカリ溶融塩に浸漬して黒錆を発生させる方法、あ
るいは、水蒸気もしくは炭酸ガスを用いて黒錆を得る方
法等がある。この処理で得られる黒錆は、カラー倫極線
管を製造する工程中に詔いて、空気中の雰囲気で４００
°Ｃ前後で加熱されるシャドウマスクＭ体！１４１が酸
化して赤錆が発生するのを防止するためのものである。
ように０．１５〜０．２５ｆｉの鉄板製の基体ｆ１４）
に丸形もしくは長方形の電子ビーム通過孔（１９を形成
したもので、初工程では平担な形状である上記鉄板を熱
処理（水素雰囲気中で７００〜９２０°Ｃ）してからパ
ネル＋１０内面の球面形状に沿う形状にプレス加工し、
しかる後にその表面に、黒錆を得るための表面処理を施
して製作される。この黒錆を得る処理を表面黒化（Ｂｌ
ａｃｋｅｎｉｎｇ ）と称している。この処理は、まず
プレス加工時に付着した油の脱ｎｄを完全に行なった後
、アルカリ溶融塩に浸漬して黒錆を発生させる方法、あ
るいは、水蒸気もしくは炭酸ガスを用いて黒錆を得る方
法等がある。この処理で得られる黒錆は、カラー倫極線
管を製造する工程中に詔いて、空気中の雰囲気で４００
°Ｃ前後で加熱されるシャドウマスクＭ体！１４１が酸
化して赤錆が発生するのを防止するためのものである。
一方、カラー陰極線管の動作中に電子銃（ｌυから発射
された電子ビームの８割近くが、シャドウマスク（１３
に衝突するため、その電子ビームの運動エネルギーが熱
エネルギーに変換され、シャドウマスクｄ３は熱膨張を
起こして歪変形を生じる。上記黒錆にすることは輻射率
を０．７５程度にして、熱放散をよくして、熱に起因す
る歪を小さくする役目も合せ有している。
された電子ビームの８割近くが、シャドウマスク（１３
に衝突するため、その電子ビームの運動エネルギーが熱
エネルギーに変換され、シャドウマスクｄ３は熱膨張を
起こして歪変形を生じる。上記黒錆にすることは輻射率
を０．７５程度にして、熱放散をよくして、熱に起因す
る歪を小さくする役目も合せ有している。
との黒錆では、輻射率がＦｅ ３０４で ０．７５程度
であり、シャドウマスク（至）の素材からは、・それ以
上のものが得られにくい。しかるに、最近のカラー陰極
線管では、映像の忠実な再現性という観点から、パネル
面を平担化したり、単位面積あたりの情報量を多くする
とともに、画質を明るく鮮明化させることが求められて
いる。これらの要求に応じるためには、単位面積当りの
情報量を決定する電子ビーム通過孔の孔径を小さくし、
かつピッチを小さくする必要がある。加工技術からの孔
径の最小限界値はシャドウマスク基体色の板厚により決
定されるもので、孔径を０．１５０１１ｔｌＫとすると
、板厚はほぼ０．１５０ｍ５と薄肉になる。電子ビーム
の運動エネルギーが熱エネルギーに変換される割合は板
厚で左右されるから、板厚が薄（なる場合、上記のよう
な黒錆処理のみではシャドウマスク＋１１の歪変形の防
止策としては不十分である。
であり、シャドウマスク（至）の素材からは、・それ以
上のものが得られにくい。しかるに、最近のカラー陰極
線管では、映像の忠実な再現性という観点から、パネル
面を平担化したり、単位面積あたりの情報量を多くする
とともに、画質を明るく鮮明化させることが求められて
いる。これらの要求に応じるためには、単位面積当りの
情報量を決定する電子ビーム通過孔の孔径を小さくし、
かつピッチを小さくする必要がある。加工技術からの孔
径の最小限界値はシャドウマスク基体色の板厚により決
定されるもので、孔径を０．１５０１１ｔｌＫとすると
、板厚はほぼ０．１５０ｍ５と薄肉になる。電子ビーム
の運動エネルギーが熱エネルギーに変換される割合は板
厚で左右されるから、板厚が薄（なる場合、上記のよう
な黒錆処理のみではシャドウマスク＋１１の歪変形の防
止策としては不十分である。
このためシャドウマスク基体ｎ、６の表面に重金属もし
くはその酸化物を主体とする粉体を溶液とともに、スプ
レーにて塗布することが試みられている。ところが、霧
化した重金属の酸化物を主成分とする粉体Ｑ］）（第５
図）が雰囲気中で凝集落下したり、あるいはシャドウマ
スク基体ｑ４の周囲の面に弾性反射してシャドウマスク
基体へ４に付着する現象が生じ、電子ビーム通過孔（至
）の内周面に第５図のように不要に付着して電子ビーム
の軌道上の障害物になっている。
くはその酸化物を主体とする粉体を溶液とともに、スプ
レーにて塗布することが試みられている。ところが、霧
化した重金属の酸化物を主成分とする粉体Ｑ］）（第５
図）が雰囲気中で凝集落下したり、あるいはシャドウマ
スク基体ｑ４の周囲の面に弾性反射してシャドウマスク
基体へ４に付着する現象が生じ、電子ビーム通過孔（至
）の内周面に第５図のように不要に付着して電子ビーム
の軌道上の障害物になっている。
この発明に係るシャドウマスクの製造方法は、シャドウ
マスク基体の表面に、電子ビームの衝撃による熱歪の発
生を防止するための重金属の塗布層を設ける際、ノズル
周辺に浮遊する霧化微粒子を除去する手段と、シャドウ
マスク通過後の微粒子を基体側に４い戻るのを防止する
手段とを設けたものである。
マスク基体の表面に、電子ビームの衝撃による熱歪の発
生を防止するための重金属の塗布層を設ける際、ノズル
周辺に浮遊する霧化微粒子を除去する手段と、シャドウ
マスク通過後の微粒子を基体側に４い戻るのを防止する
手段とを設けたものである。
この発明においては、ノズル周辺の霧化微粒子が径大化
してシャドウマスクに付着することがなくなり、さらに
シャドウマスク通過後の上記微粒子がシャドウマスクに
舞い戻らないため、シャドウマスクの電子ビーム通過孔
に電子ビームの障害物が形成されるおそれがなくなる。
してシャドウマスクに付着することがなくなり、さらに
シャドウマスク通過後の上記微粒子がシャドウマスクに
舞い戻らないため、シャドウマスクの電子ビーム通過孔
に電子ビームの障害物が形成されるおそれがなくなる。
（実施例〕
以下、この発明の一実施例を図面について説明する。
第１図はこの発明１こ係るシャドウマスクの製造方法に
適用される塗布装置の概略構成図である。
適用される塗布装置の概略構成図である。
同図において、（１）は・■金属の酸化物であるＢ１２
ｏ３の微粉体を無機物質である水ガラスの水溶液と混合
してなる溶剤を供給する系、（２）はこの溶剤をα化状
態にする高圧エアーの供給系で、それぞれ装置本体（９
）側に支持されている。（３）は溶剤をシャドウマスク
基体０４）に噴射するノズルである。シャドウマスク基
体０４）の電子ビーム通過孔（１υは、第２図に示すよ
うに電子ビーム衝突する側から中径部（１５ｂ）、小径
部（１５ｃ）および大径部（１５ａ）で構成されている
。（５）はノズル（３）から噴射される霧化状態の、溶
剤、（６）はノズル（３）の周辺に漂う溶剤の霧化微粒
子、（７）はシャドウマスク基体＋１４１の通過後の微
粒子である。
ｏ３の微粉体を無機物質である水ガラスの水溶液と混合
してなる溶剤を供給する系、（２）はこの溶剤をα化状
態にする高圧エアーの供給系で、それぞれ装置本体（９
）側に支持されている。（３）は溶剤をシャドウマスク
基体０４）に噴射するノズルである。シャドウマスク基
体０４）の電子ビーム通過孔（１υは、第２図に示すよ
うに電子ビーム衝突する側から中径部（１５ｂ）、小径
部（１５ｃ）および大径部（１５ａ）で構成されている
。（５）はノズル（３）から噴射される霧化状態の、溶
剤、（６）はノズル（３）の周辺に漂う溶剤の霧化微粒
子、（７）はシャドウマスク基体＋１４１の通過後の微
粒子である。
上記ノズル（３）の上方の両側方に位置にして装置本体
Ｃｍの側壁には開口（’１０１）が形成されており、各
開口（１０１）にぽ、上記ノズル周辺に浮遊する微粒子
を吸収するファン（８）が設けられている。上記装置本
体（９）の底壁を構成する容器（１０２）には、水Ｗが
収容されている。上記シャドウマスク基体ｔ１４の下方
における装置本体（ロ）の側壁にはシャドウマスク基体
（ｌ→を通過して落下する微粒子（７）に水Ｗを霧化状
に吹きつけるための窓＠５ （ｉｏａ）が形成されてお
り、上記水Ｗ等とともに微粒子の舞い上り防止手段（１
０４）を構成している。なお、（９）はシャドウマスク
基体Ｑ４）を支持する部材である。
Ｃｍの側壁には開口（’１０１）が形成されており、各
開口（１０１）にぽ、上記ノズル周辺に浮遊する微粒子
を吸収するファン（８）が設けられている。上記装置本
体（９）の底壁を構成する容器（１０２）には、水Ｗが
収容されている。上記シャドウマスク基体ｔ１４の下方
における装置本体（ロ）の側壁にはシャドウマスク基体
（ｌ→を通過して落下する微粒子（７）に水Ｗを霧化状
に吹きつけるための窓＠５ （ｉｏａ）が形成されてお
り、上記水Ｗ等とともに微粒子の舞い上り防止手段（１
０４）を構成している。なお、（９）はシャドウマスク
基体Ｑ４）を支持する部材である。
以上の構成においてノズル（３）からＢｉ２０ａを主体
とする水ガラスの粒子が噴霧され、第２図のようにシャ
ドウマスク基体＋１４１の表面に堆積する。上記噴霧さ
れた粒子の微粒子化されたものがノズル（３）の付近に
漂っていると、時間の経過とともに、他の微粒子ととも
に凝集し粒子径の拡大化に結びつく。このため、上記噴
霧と同時に吸引ファン田）を作動して浮遊微粒子を吸引
して除去してシャドウマスク基体１１４）に不要に落下
しないようにする。
とする水ガラスの粒子が噴霧され、第２図のようにシャ
ドウマスク基体＋１４１の表面に堆積する。上記噴霧さ
れた粒子の微粒子化されたものがノズル（３）の付近に
漂っていると、時間の経過とともに、他の微粒子ととも
に凝集し粒子径の拡大化に結びつく。このため、上記噴
霧と同時に吸引ファン田）を作動して浮遊微粒子を吸引
して除去してシャドウマスク基体１１４）に不要に落下
しないようにする。
シャドウマスク基体４４）を通過した粒子は落下するに
したがって転環する。そして、噴霧動作中の雰囲気の気
流の乱れにより上記乾燥した粒子の凝集したものが、嗜
い上ってシャドウマスク基体１．１４）の電子ビーム通
過孔（至）にひっかかる現象が起るため、上記粒子（７
）は水面ｑηに落下させて再変舞い上がらないようにし
である。すなわち、シャドウマスク基体・１４の下方の
雰囲気中に水を霧化状に吹き込み、雰囲気の湿度を上げ
（２１点を＋側にする）、シャドウマスク基体＋１４）
を通過した後の粒子（７）に水分を含ませる。これによ
り、粒子の質量が大になり、水面に落下する。したがっ
て、シャドウマスク基体＋ｌａ側への粒子（７）の舞い
上りがなくなり、電子ビーム通過孔噌の内周面への粒子
（７）の不要な付着が防止される。
したがって転環する。そして、噴霧動作中の雰囲気の気
流の乱れにより上記乾燥した粒子の凝集したものが、嗜
い上ってシャドウマスク基体１．１４）の電子ビーム通
過孔（至）にひっかかる現象が起るため、上記粒子（７
）は水面ｑηに落下させて再変舞い上がらないようにし
である。すなわち、シャドウマスク基体・１４の下方の
雰囲気中に水を霧化状に吹き込み、雰囲気の湿度を上げ
（２１点を＋側にする）、シャドウマスク基体＋１４）
を通過した後の粒子（７）に水分を含ませる。これによ
り、粒子の質量が大になり、水面に落下する。したがっ
て、シャドウマスク基体＋ｌａ側への粒子（７）の舞い
上りがなくなり、電子ビーム通過孔噌の内周面への粒子
（７）の不要な付着が防止される。
〔発明の効果〕
以上説明したようにこの発明の製造方法゛によれば、ノ
ズルからシャドウマスク基体に対して溶剤を零化して塗
布する際に、上記ノズル周辺における上記塗布溶剤の浮
遊微粒子を霧化状態の質１の小さいうちに除外し、さら
にシャドウマスク基体の孔を通過した粒子に対してはシ
ャドウマスク基体への舞い戻りを防止したから、上記塗
布溶剤は必要な量だけが適正にシャドウマスク表面に付
着し、したがって電子ビーム通過孔内に電子ビームの軌
道の障害物が存在することのない高品質のシャドウマス
クを得ることができる。
ズルからシャドウマスク基体に対して溶剤を零化して塗
布する際に、上記ノズル周辺における上記塗布溶剤の浮
遊微粒子を霧化状態の質１の小さいうちに除外し、さら
にシャドウマスク基体の孔を通過した粒子に対してはシ
ャドウマスク基体への舞い戻りを防止したから、上記塗
布溶剤は必要な量だけが適正にシャドウマスク表面に付
着し、したがって電子ビーム通過孔内に電子ビームの軌
道の障害物が存在することのない高品質のシャドウマス
クを得ることができる。
第１図は、この発明に係るシャドウマスクの製造方法に
適用される塗布装置の一例を示す慨略構成図、第２図は
シャドウマスクの構成を示す部分拡大断面図、第３図は
カラー陰極線管の逼略構成図、第４図は従来のシャドウ
マスクの構成を示す部分拡大断面図、第５図はシャドウ
マスク基体に塗布溶剤が不要に付着した状態を示すシャ
ドウマスクの部分拡大断面図である。 （３）・・・ノズル、（５）・・・溶剤の゛霧化微粒子
、（６）・・・ノズル周辺の浮遊状態の微粒子、（７）
・・・シャドウマスク基体を通過した微粒子、（８）・
・・浮遊微粒子の除去手段、４泊・・・シャドウマスク
基体、−１９・・・電子ビーム通過孔、（１５ａ）−・
・大径部、（ｘ５ｂ）−・−中径部、（１５Ｃ）・・・
小径部、（１０４）・・・微粒子の舞い戻り防止手段。 なお、図中、同一符号は同一もしくは相当部分を示す。
適用される塗布装置の一例を示す慨略構成図、第２図は
シャドウマスクの構成を示す部分拡大断面図、第３図は
カラー陰極線管の逼略構成図、第４図は従来のシャドウ
マスクの構成を示す部分拡大断面図、第５図はシャドウ
マスク基体に塗布溶剤が不要に付着した状態を示すシャ
ドウマスクの部分拡大断面図である。 （３）・・・ノズル、（５）・・・溶剤の゛霧化微粒子
、（６）・・・ノズル周辺の浮遊状態の微粒子、（７）
・・・シャドウマスク基体を通過した微粒子、（８）・
・・浮遊微粒子の除去手段、４泊・・・シャドウマスク
基体、−１９・・・電子ビーム通過孔、（１５ａ）−・
・大径部、（ｘ５ｂ）−・−中径部、（１５Ｃ）・・・
小径部、（１０４）・・・微粒子の舞い戻り防止手段。 なお、図中、同一符号は同一もしくは相当部分を示す。
Claims (3)
- （１）多数の電子ビーム通過孔を有する色選別電極とし
てのシヤドウマスクを金属製基体と表面処理層で構成す
るとともに、上記電子ビーム通過孔を電子ビームの衝突
する側から中径部、小径部および大径部で構成し、上記
基体に対して上記電子ビーム通過孔の中径部側より重金
属およびその酸化物の少なくともいずれかを主成分とす
る溶剤をノズルで噴霧して塗布するシヤドウマスクの製
造方法であつて、上記、溶剤噴射ノズルから噴射されて
該ノズル周辺に浮遊する霧化微粒子を除去する手段と、
シヤドウマスク基体を通過した後の上記微粒子が上記基
体側に舞い戻るのを防止する手段とを備えたことを特徴
とするシヤドウマスクの製造方法。 - （２）上記ノズル周辺の霧化微粒子の除去手段が吸引フ
ァンである特許請求の範囲第１項記載のシヤドウマスク
の製造方法。 - （３）上記シヤドウマスク通過後の微粒子に水分を含ま
せて水面に落下させるように構成してなる特許請求の範
囲第１項記載のシヤドウマスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24737185A JPS62108423A (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 | シヤドウマスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24737185A JPS62108423A (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 | シヤドウマスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62108423A true JPS62108423A (ja) | 1987-05-19 |
Family
ID=17162432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24737185A Pending JPS62108423A (ja) | 1985-11-05 | 1985-11-05 | シヤドウマスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62108423A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06322780A (ja) * | 1993-05-17 | 1994-11-22 | Sansho:Kk | 擁壁等の各種コンクリート面の化粧張り構造及びその工法 |
-
1985
- 1985-11-05 JP JP24737185A patent/JPS62108423A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06322780A (ja) * | 1993-05-17 | 1994-11-22 | Sansho:Kk | 擁壁等の各種コンクリート面の化粧張り構造及びその工法 |
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