JPS62101390A - 高精細レ−ザ加工素材及びその加工法 - Google Patents

高精細レ−ザ加工素材及びその加工法

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JPS62101390A
JPS62101390A JP60238635A JP23863585A JPS62101390A JP S62101390 A JPS62101390 A JP S62101390A JP 60238635 A JP60238635 A JP 60238635A JP 23863585 A JP23863585 A JP 23863585A JP S62101390 A JPS62101390 A JP S62101390A
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laser beam
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wavelength
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Masaharu Nishikawa
正治 西川
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Olympus Optical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、レーザービームてより微細孔の貫通加工を
行う際に用いられる金属と樹脂の複合層素材とその貫通
加工法に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、厚さ数ミクロン〜数6ミクロンの薄いプラスチッ
クシートと、同程度の厚さの銅箔を積層して収る複合層
素けは7レキングルブリ/ト板等において見られる様に
公知である。この様な金属と樹脂から収る複合層素材に
高精細な貫通孔を形成する要求が多数ある。例えば、本
発明者はすでに、フルチ素子型の静電吸引式インクジェ
ットプリンターヘッドについての出願をしているが、こ
こに用いられるパッドは絶縁シートの片面又は両面に電
極板を存し、かつ、記碌素子単位の貫通孔を形成した部
材を必要としている。又、本発明者は特願昭fig−1
81040において、イオン7p−プリンタの改良ヘッ
ドを出願しているが、このヘッド圧おいても絶縁材の両
面に電極を設け、記碌素子単位の貫通孔を形成した部材
な必要としている。これ等の貫通孔は数十〜数百ミクロ
ンの直径を有し、かつ金属ノート、・貼縁抹シート都で
孔ずれかないmが1ましく、従って金属シートと絶縁材
ノートを一体的に形成し同時IC貫通孔を形成する事が
好ましい。微細孔の貫通加工には小径ドリルを用いる方
法、打抜き加工法、放電加工法。
レーザービーム加工法、エツチング法、電鋳法等が知ら
れているが、金属とプラスチックシートの複合素材に適
用可能なのはトリル又は打抜き等の機械的な方法か、又
はレーザービーム加工法に限定される。
〔症例が解決しようとする問題点〕
しかしながら前者の機械的な方法は多数の孔加工をする
間に工具が損耗して加工稍度を維持しKくく、かつ加工
速度があまり早(ないという問題かあった。
一方、レーザービーム加工法は通常単一構成の累打に対
して高精41dl加工を施した例はいくつか報告されて
いるか一金属ノートとプラスチックシートの腹合素材に
対する加工例はブリメト基板のスルーホール加工程度で
、M]梢細加工の実用例があまりない。
そこで、この発明は樹脂層及び金属層からぼる複合層素
材に対するレーザービームによる高精細加工を実現する
事を目的とするものである。
C問題点を解決する手段及び作用〕 この発明は、上記の目的達成の為に、以下の様な特性を
持つ金属すなわち、波長1.0;クロンの光の反射率が
略80チ以下およびまたは、波長10、Oミクqンの光
の反射率が略97チ以下で、かつヤング率が略15 X
 I Q”Nm−”以上である特性の金属を樹脂層に対
して積層する様に構成した複合RJ累材を用い、これに
レーサー光を照射して貫通孔を形成するようにして、レ
ーザー光の吸収効率を高め、樹脂層に作用するレーザー
エネルギーを適正化するようにしたものである。
〔¥九例〕
以下、図面を参照してこの発明の詳細な説明するO 第5図(al(b)は、この発明の実施例と比較するた
めの笑験例1を示す図である。第5図(alは、レーザ
ービームにより加工されろ複合層素材のシートの構成を
示す断面図である。図に示す様に、厚さ25ミクロンの
ポリイミド16の上面、下面共に厚さ18ミクp)の銅
箔17a、17bが厚さ20ミクロンの接看層18を介
して積層されている。
レーザービームにより形成される貫通孔19の口径はd
で示され、この実験では150〜200 ミクロンをl
:I偉とした。
この複合ノ傅素材にCO2レーザ−ビームを集束してパ
ルス状に照射した結果を第5図(b)に示す。第5図(
blは貫通孔の断面形状と上面から見た開口部の状況を
示す図である。鋼箔17a、17bに形rH,された開
口部20をま開口円周部がギザギザした一部がめくれ上
′〕だ様な不規則な形状をしており、銅箔17a、17
blc挾まれたポリイミド層21(妥眉層を含む)は、
鋼箔17a、17bに比べて約2倍の径に拡大した開口
となった。従って上記の様な構成の復合廂素材釦単純に
レーサー光を照射して68 つ’i’を細な加工を行う
事はきわめて不適切である事が分った。
この様な不具合が生じた原因は、抜加工複合層素材を構
成する材料の性質及びその組合せにあるものと思われろ
。すなわち金属をレーザー加工する場合には高いエネル
ギーを必要とし、絶縁樹脂湘を孔あけする(は低いエネ
ルギーですむが、両者を複合した素材では金、属(適合
する高いエネルギーを与えないと貫通孔の加工を行うこ
とができない。この様1’l:高いエネルギーを印加し
た結果佑縁樹脂層は過度に開口径が拡大してしまう。更
に樹脂11&が加工される間に樹脂は軟化し、更にはガ
ス化して急速に膨張し、これによって金I!41脅が力
を受けて不規則な円内形状となったりめくれが生じたり
する。
そこで、この発明においては上記の様な高精細加工を阻
害する要因?:除去するもので、m指層と組合せて用い
る金属層の素材を適正化して、複合層素材を構成しこれ
にレーサー光を照射して高精細加工を実現するものであ
る。
第1表は代表的な金属につい℃、レーザー光に対する反
射率及び吸収率と、ヤング率のデータを示したものであ
る。レーザー光圧対する反射率及び吸収率は波長1.0
ミクpンと波長]0.Ojりpンのときのデータを表に
示している。この波長は、911者がYAGレーザ、後
者がCOzレーサーの発振波長にほぼ等しい値である為
に取り上げたものである。又、同波長での吸収率も示し
たが、レーザー加工の難易は吸収率を比較した方が判断
しゃすい。波長1.04りcJ7と10.O4りp7V
Cおける吸収率の値そのものは異った値となっているが
、例示した金属は吸収が多し・グループと吸収が少いグ
ループとにわかれろ傾向が見られる。又、これらの吸収
特性と共lc打料の強靭性を示すヤング率も特徴的にグ
ループ分けされている。
第1のグループは、レーザー光吸収率が小さくて、ヤン
グ率が小さい事で特徴づけられAグループとし℃示し℃
ある。第2のグループは、レーザー光の吸収率が大きく
、ヤング率も大きな値を有していて、Bグループとして
示しである。
波長1.0ミクμン、丁なわち、YAGレーザーでの加
工に対応する波長での吸収を比較すると。
Aグループは例外的にしiい吸収のAIの61チ乞除く
と他は2%以丁であるのに対し、Bグループ 7では3
0〜40チの尚い紋収率?示していてA。
8間に著しい差がある。改良10.0ミクpン、丁なわ
ちCOシレーサーでの加工に対応する波長での吸収は、
Aグループは2.0チ以下に対し、Bグループは、4〜
7チであり、ここでもA、l131fJlに著しい差が
見られる。同碌にヤング率についてもAグループは、B
 7’ループの1/3 ee度ので直となっている。
絶縁性ノート上にAグループの金属層を設けて溝数した
9合層六材をレーザー光で加工する場合には、金属のレ
ーザー光吸収率が小さいから、これをば、1させるには
強いレーザー光を照射する必要があり、その場合、樹脂
1−には必要μ上に強いエネルギーが照射されろ事にな
り著しく大径の開口が形成されてしまう不都合が生じる
。又、そのa! K ’Jいエネルギーで加工を行った
場合ic発生するガスや・欧化変形力は強く金属1jに
作用して、これを変形させて金属層の開口部の円周を不
規則な形状に歪めてしまう。又、Aグループに属する金
属はヤング率が小さい為vc樹脂I−の熱変形に対する
抵抗性も小さく、又、上記発生ガスの作用に対する抵抗
性も小さく、従って加工日局部が不規則な形状になって
しまう事を防止できない。
これに対してBグループに#4′f金属を樹脂MIIC
積層して収る素材にレーザー光を照射した場合には、レ
ーザー光の吸収率が入グループ金属よりも著しく高い為
に加工VC安するエネルギーを小さくする事ができろ。
従って樹脂層に作用するエネルギーも小さくなつ℃、樹
脂層の口径の異常な拡大は防止され、又樹脂の軟化や加
工によって生ずるガス膨張力も弱められて金4層を変形
させる効果も弱める事ができる。更ICBグループに属
す金4はヤング率が大きい為に変形力に対する抵抗性が
大きい効果も加わりて加工輪郭は正÷7にcitらかで
規則的な仕上りとする事ができる。
金橋の長波長光での反射4S II+11定のデータは
測定者によって若干の差異があって特定しにくいが、そ
の様な誤差を含め℃もA、Bグループの金t1は分割で
きるレベルの反射率差があり、第1表からBグループの
金属の粘性を以下の様なV値によって分割することがで
きる。すなわちBグループにH4丁金属は、波長1.0
jりpンの光の反射率が略8〇−以下(吸収率略20%
以上)および又は、波長10.[+’りp)の光の反射
率が略97%以下(吸収第略3チ以上)で、ヤング本格
] 5X 1 dONイ2以上の特性を有するものであ
る。この嘘な%注の金属は合金であってもよく、例えは
ステンレススチール等はその条件を満している。
上記の様な金属を選ひ樹脂層に積層して複合層素材を構
成すると、金属層へのレーザー光の吸収効率を高め、そ
れIcより樹脂層に作用するレーザーエネルギーを適正
化できるので、不要な開口系の拡大を防止し得ると共に
、樹脂層加工時の発生ガスエネルギーや樹脂の軟化変形
作用をおさえ℃良好の開口の形成が可能となり、また、
金属層が強靭であるから、加工時の樹脂I―のがス化エ
ネルギーや軟化変形力をおさえて良好な開口の形成を可
能罠する。
なお反射率特性は、YAGレーザ−、又はCO2レーザ
ーいずれかの加工に適丁(ifを有していれば、この発
明に適用可能であって、同時に両波長条件を満している
必要はない。
ここで、Aグループの金属の代表例として銅((ト)及
びアルミニウム(AI )を、Bグループの金属の代f
i 9+1とし”Cニッケル(Ni)Y用いた実験例を
比較して示す。
まず、Aグループの金属である銅及びアルミニウムを用
いた実験をそれぞれ実験例2.実験例3として説明する
〔実験例2〕 第6因は、実験例2の結果を示すlFr面図である。
厚さ125ミクジンのポリエステルのベースの片面上に
厚さ18ミクロンの銅箔を接着剤等で貼付し、銅箔側か
ら00wレーザー光を照射して貫通孔の加工を行ったも
のである。結果は第6図だ示す様に#ll郡部22直径
約150ミクpンの不規則な輪郭の開口23が形成され
、又ポリニスデル層24(接着層を含む)Kは直径約2
50ミクジンの開口25が形成されると共和銅箔の貼付
されていない側の開口周縁部釦はリング状の隆起部26
が形成されて好ましくない加工状況であった。
〔実験例3J 1g7図は、実験例3の結果を示す断面図である。
厚さ25ミクp)のポリイミド層の片面上く厚さ30ミ
クロンのアルミニウム箔を貼付して、複合層素材を作成
し、これにCO2レーザー光を照射して貫通孔の形成を
行ったものである。結果は@7図に示す様に、アルミニ
ウム部27には約150ミクロンの開028が形成され
たが、その円周部ではFjE川に向けて薄いヒダ伏の加
工残り29が見られた。汁コリイミド層30(接着層を
含む)は約300ミクpンの不規則な形状の開口31が
形成されたが、開口部周縁の隆起は少なかった。
eKVc、、この発明の実施例となる特性を持つ金属、
丁なわちBグループに属する金属であるニッケルを用い
た実験例を示す。ニッケルの厚さ及び樹脂の種類と厚さ
を変えて行った実験を実験例4及び実検例5.ニッケル
を片面だけに貼布したものを実験例6として説明する。
〔実験例4〕 第1図は、実験例4の結果を示す断面図である。
厚さ25ミクロンのポリイミド層の両面に厚さ15ミク
gノのニッケル箔を貼付して複合層素材を構成した。こ
の索住にCO2レーザー元fr:照射して直径約150
ミクロンのJj辿孔を形成したところ、第1図に示す様
に両面のニッケル箔1a、lbに形成された開口2a、
21)は、はとんど等しい大きさで、円周輪郭も滑らか
であった。片面のニッケル箔をはがして内部のポリイミ
ド層3(接着層を含む)を観察したところ、その開口4
の直径は約180jりqンで開口部周縁に隆起は児られ
なかった。
〔実験例5〕 第2図は、実験例5の結果を示す断面図である。
厚さ124Mりpンのポリエステルシートの両面に厚さ
40ミクロンのニッケルシートを貼付して複合!II素
材を構成した。この素材にCO2レーザーを照射して、
直径150jりpンの貫通孔の加工を行ったところ、第
2図に示す様に両面のニッケルシート5a、5blCけ
ぽ等しい大きさの開口6a。
6bが形成され、開口6a、6bの周縁部分は滑らかで
あった。一方のシートをはがして内部のポリエステル層
7(接着層を含む)を観察したところ、開口8の直径は
約200jクロンで、その形状はやや不規則であったが
、開口周縁部に隆起は形成され℃いなかった。
〔実験例6〕 第3図は、実験例6の結果を示す断面図である。
厚さ125ミクロンのポリニスデルシートの片面に厚さ
40ミクロンのニッケルシートを貼付して複合層素材を
作成した。この素材に002レーザー光?照射して約1
50ミクpンの開口をした。結果は第3図に示す様に二
/ケルシートlOの開口11は滑らかで良好な形状を示
していたが、ポリエステル層9(接着層を含む)には約
200ミクpンのやや不規則な開口12が形成され、さ
らに、ニッケルが貼付されていない側圧は溶融したポリ
エステルによる開口周縁部の隆起13が見られた。
以上い(つかの実験例罠見られた様にグループ。
AIC属す金属(実験例(おいてはCu、 AI )を
樹脂に積層した素材に対してレーザー加工を施した結果
はきわめて不満足なものであったが、グル−プBに属す
金属(実験例においてはNi )を樹脂に積層した素材
に対しては比較的良好な結果が得られた。なおグループ
Bに属す金属の物性のうち、レーザー光の吸収率が大き
い事と、ヤング率が大きい事は各単独でもレーザー加工
特性の改良に寄与するものであるが、火陥の金属の列に
見られる様に両者の特性が共に好ましい唾となったのか
グループBの金属である。この例では吸収率及びヤング
率の一方のみが太き(て他方が小さいという例はみられ
ない。グループBの金属と樹脂を積層した素材は、この
発明が目指す様に高精細加工な楕′1″場合Klしい効
果が得られるものである。ただし、複合層素材の厚さが
IIuIをこえる様な厚さとなった場合にはレーザー光
の拡がりや熱の拡散の作用によ′)て高度の高硝細加工
、すなわち数十〜数1ミクロンの加工寸法を高精度で確
保てる様な加工には不適当となる。
なお上[ll88実験例5及び6の比較から理解される
様に樹脂ノーの片面に金属層を設げた累けに対して貫通
孔を形成する場合罠は、金属層を設けない側の樹脂の開
口周R部に樹脂の隆起が形成される場合がある。あるい
は樹脂層のみから収る素材に高精細な貫通孔を形成しよ
うとすると開口両立1而部に樹脂の隆起が形成されてし
まう場合がある。この様な不都合を除去する為に、樹脂
の両面VcBグループの金属層を設けて構成した素材に
対して貫通孔の加工を行い、貫通孔形成の後にその一方
の面又は両方の面の金pj4膚を除去して所望形状の加
工物を得る様圧すると好適である。第4図(aJ(b)
((!1は、その工程を示す図である。第4図(alは
樹脂層14に前記Bグループに属す金属の薄膜、115
a。
15bを形成して成る素材疋レーザービーム加工・によ
って貫通孔を形成した状態を示している。この加工は実
験例4,5から理解される様に高精細な貫通加工が行わ
れる。樹脂層の片面に金Jf%層があり一片面には金属
層がない仕上りを必要とする場合には、第4図(b)<
示す様に第4図(&)の一方の面から金属M15bを除
去する加工工程を加える。
金属層の除去は機械的な剥離や化学的な腐蝕による除去
法が適用される。前者の場合には剥離を予定した側の金
属層15bは弱い凝着剤で’F;jn’FtR14KM
着し℃お(か、あるいはエレクトp7オーミング等接潴
剤を用いる事なく積層しておく等の工夫が必要である。
後者の場合には腐蝕除去を必要としない面の金Fi#1
5aを保護膜で覆って腐蝕液を作用させた後に保護膜を
除去すると好適である。
第3ス(C+は樹脂jij 14の両面から金属層15
a。
15bを除去し、樹脂1含14から成る素材に貫通孔を
形成した例を示している。この場合の金属層15a、1
5bの除去加工は前記方法が適用され、腐蝕法の場合に
は保a嗅を形成する必要がない。
なおこの発明における複合層素材の金属層はBグループ
にi4丁金属の一様な層によって形1度されている例に
ついて説明したが、踵徨の金属を覆合層状にして金属j
−を構成し、一様な金属層における欠点(上述したAグ
ループにおける)を補う様にしてもよい。この場合に異
種金属の中に8グループにかSすものが含まれているこ
とが当然必要となる。例えば、M?liと樹脂層を接層
した素材の少(共高精細レーサー加工を行う側の銅箔上
にニッケルメッキを施してレーザー加工性を同上させる
様な央箔例が考えられる。
又、実験例としては、円形の独立した貫通孔の加工例を
示したが、レーザービームと複合層X材を相対、移動さ
せて直線や曲線の連続した高精細加工を行う事も可能で
あるがこれ等の加工は貫通孔加工の変形とみなす事がで
きる。
〔発明の効果〕
以上説明した様にこの発明によれば、適した特性を持つ
金属と樹脂とで複合層素材を構成すること如より、高N
細レーザ加工に適した素材を提供する事ができ、かつ、
これにより高精細レーザー加工を実現する事ができる。
【図面の簡単な説明】
箒1−はこの発明の実施列としての実験例4の加工結果
を示す図、第2図は実験例5による加工結果を示す断面
図、第3図は実験例6による加工結果を示す断簡図、第
11図(al(bJ(C)はレーザービームにより貫通
孔を形5Z した仮に金属層を除去する加工工程を示す
図で、第4図ialはまず両面に金属層を貼付した加工
素材に貫通孔を形成した伏rAを示す断面図、第4図(
b)はこの貞命孔が形成された加工素材から片面の金属
層を除去した状態を示す断面図、第4図(c)は貫通孔
が形成された加工素材から画面の金属層を除去した伏弗
を示す断面図、gs図(a)(blはこの発明の実施例
と比較するための実験例1を示す図で、第5図fa)は
複合層木材の構成を示す断面図、第5図tb)は実験例
I Kよる加工結果を示す図、第6図は実験例2による
加工結果を示す図、8g7図を丁実験例3による加工結
果な示す図である、 la、It)・・・ニッケル箔(金JA層)3・・・ポ
リイミドM(樹脂層) 特許出願人 オリンパス光学工業株式会社・(。 ゛・−) 1g 1 図 フ 第2図 第3図 (b) 第4図 第5 b 第6図 (b) 図 第7図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、樹脂層に対して、波長1.0ミクロンの光の反射率
    が略80%以下およびまたは波長10.0ミクロンの光
    の反射率が略97%以下で、かつ、ヤング率が略15×
    10^1^0N・m^−^2以上である金属層を積層し
    て構成した事を特徴とする高精細レーザー加工素材。 2、樹脂層に対して、波長1.0ミクロンの光の反射率
    が略80%以下およびまたは波長10.0ミクロンの光
    の反射率が略97%以下で、かつ、ヤング率が略15×
    10^1^0N・m^−^2以上である金属層を積層し
    た複合層素材に、レーザー光を照射して貫通孔を形成す
    る事を特徴とする高精細レーザー加工法。
JP60238635A 1985-10-25 1985-10-25 高精細レ−ザ加工素材及びその加工法 Pending JPS62101390A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003124154A (ja) * 2001-10-15 2003-04-25 Shinko Electric Ind Co Ltd シリコン基板の穴形成方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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