JPS6195526A - 光検出装置 - Google Patents

光検出装置

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Publication number
JPS6195526A
JPS6195526A JP59216266A JP21626684A JPS6195526A JP S6195526 A JPS6195526 A JP S6195526A JP 59216266 A JP59216266 A JP 59216266A JP 21626684 A JP21626684 A JP 21626684A JP S6195526 A JPS6195526 A JP S6195526A
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JP
Japan
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light
exposure
output voltage
comparator
photoelectric conversion
Prior art date
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Pending
Application number
JP59216266A
Other languages
English (en)
Inventor
Takehiko Suzuki
武彦 鈴木
Yoshinori Shimamura
島村 吉則
Ryozo Hiraga
平賀 亮三
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Canon Inc
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Canon Inc
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Publication date
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Publication of JPS6195526A publication Critical patent/JPS6195526A/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26

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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の分野] 本発明は、分光特性可変の光検出装置に関し、例えばフ
ォトレジストを露光する焼付装置においてフォトレジス
トの分光感度特性と焼付装置の露光■測定系(光検出装
置)との分光感度特性を合致させることによってより適
正な露光mを与えるために用いられる光検出装置に関す
る。
[発明の背狽コ ICやLSI等の半導体装置を製造するための焼付装置
において、半導体ウェハ上に塗布された)Aトレジスト
の露光量を設定する際、正しい露光mすなわちフォトレ
ジストの感光に実際に寄与する光のmを測定する必要が
ある。このような正しい露光mを測定するためには、露
光■測定系と露光すべきフォトレジストの分光感度特性
を合致させることが好都合である。
従来、露光量測定系の分光感度特性を露光すべきフォト
レジストの分光感度特性に合せる方法として、1つのフ
ォトディテクタと単数または複数のフィルタとを組合せ
て光呈検出系の分光感度曲線を調節する方法が知られて
いる。しかしながら、このような方法によっては検出系
とフォトレジストの分光感度特性を一致させることが極
めて面倒かつ困難であり、事実上、正しい露光ωを得る
ことができないという欠点があった。
また、露光光を回折格子により分光し、分光した光束を
収斂光学系によって各波長成分ごとに別個のフォトディ
テクタに入射させることによりフォトディテクタと露光
光とを合成した分光感度曲線を得、この分光感度曲線を
補正してフォトレジストの分光感度特性に合致させる方
法も、例えば特開昭58−88624号公報等で知られ
ているが、回折格子と収斂光学系そしてフォトディテク
タの相互の配置位置により分光感度特性が変化しないよ
うにするための複雑なメカ・ニズムが必要であるという
欠点があった。また、このようなメカニズムは設定また
はvJ整に手間が掛り、あるいは組立に高度の熟練を要
し、さらには度々再調整をしなければならない等の欠点
があった。
第3図は、本発明者等が、上記問題点を解決するものと
して、先に、案出した光検出装置をマスクアライナに適
用した例を示す。同図のマスクアライナは、照明系を構
成する超高圧水銀灯1、楕凹面鏡2、第1ミラー3、コ
リメータ4、NDフィルタ5、L39フィルタ6、フラ
イズアイレンズ7、第2ミラー(ハーフミラ−)8およ
びコンデンサレンズ9、ならびに光検出装置を構成する
ダイクロイックミラー11.12.13、光電変換素子
14゜15、16および増幅回路17を具備する。10
は図示しない半導体ウェハに転写すべき回路パターンが
形成されているマスクである。
ダイクロイックミラー11.12.13は、それぞれ例
えばアライナ用のU■クランプ光源の主要波長であるi
線(365rv> 、h線(405nll1) 、QW
&(436nm)を分光的に反射するもので、図示のよ
うに第2ミラー8の後に直列的に配置されることにより
、第2ミラー8を透過した光束をi線、Q線、h線に分
光する。
増幅回路17は、光電変換素子14.15.16の出力
すなわち第2ミラー8を透過した1線、g線およびh線
それぞれの光mに相当する各電気信号を増幅する7ンプ
17i 、 17(J 、 17hおよびアンプ111
゜17Q 、 1i’ハの出力を合成〈加算)するアン
プ17tを具備する。また、これらのアンプ17i 、
 17o 。
17h(、i、それぞれ負帰還回路に可変抵抗器VRi
VRg、VRhが挿入されており、これらの可変抵抗器
によってゲインを任意かつ独立に変更することができる
ようになっている。
このマスクアライナにおいて、超高圧水銀灯1から楕凹
面鏡2、第1ミラー3、コリメータ4、NOフィルタ5
、シ39フィルタ6およびフライズアイレンズ7を通り
、第2ミラー8で反射され、さらにコンデンサレンズ9
を通った光は、マスク10を通してウェハ面上のレジス
ト(不図示)に照射される。
一方、上記第2ミラー8を透過した光束は、この第2ミ
ラー8の後に配置されたダイクロイックミラー14.1
5.16によってそれぞれi線、Q線、h6に分光され
、それぞれ光電変換素子14.15゜16で電気1を号
に変換される。これらの電気信号は、それぞれのアンプ
17i 、 17g 、 17hにおいて別個に設定さ
れたIJlllで増幅されることにより■みを付された
後、アンプ21で1つの信号に合成され、光検出信号V
outとして出力される。従って、例えば、第4図(a
>に図示するような分光感度特性のフォトレジストを用
いる場合、アンプ171゜17Q 、 17hの出力と
してそれぞれ第4図(b)に示すような信号レベルが得
られるように、アンプ17i 、 17g 、 17ハ
のゲインを可変抵抗器VRi 。
VRlll 、vRhによって設定することにより、ダ
イクロイックミラー11.12.13、光電変換素子1
4゜15、16および増幅回路17の総合特性を第4図
(a)の分光特性に合致させることができる。
この光検出装置は分光特性を露光すべきフォトレジスト
に容易に合致させることができるため、この光検出H置
の出力voutを露光mの制御信号として用いれば、光
源の発光特性が変化しても正しい露光を得ることができ
る。
しかし、第3図の光検出装置においては、受光系のグイ
クロイックミラー11.12.13を直列に配置してい
るため、装置が大型化するという不都合がある。
[発明の目的1 本発明は、従来の欠点に鑑み提案されたもので、正しい
露光口を容易に得るとともに、装置の組立て、調整を容
易にし、さらに装置の小型化を図ることを目的とする。
[発明の構成コ 本発明を具体例により説明ずれば次の通りである。すな
わち、露光光を分光する手段として回折格子の代りに複
数の干渉フィルタを使用し、その干渉フィルタに対応さ
せた複数のフォトディテクタを設け、さらに変換された
電気信号に受光系全体の分光感度特性が露光すべきフォ
トレジストの分光感度特性に合致するよう重み付けを行
なうこ)   とにより、正しい露光量の検出を容易し
、装置の組立て、調整を容易にしている。さらに、複数
の干渉フィルタおよび各干渉フィルタに対応する複数の
フォトディテクタをそれぞれ2次元的に配列し、その配
列体を空間的に対向させる構造とすることにより、装置
の小型化を図っている。ここで、2次元的に配列すると
は、平面上に配列することは勿論、凹面や凸面のような
球面上に配列することも含むものである。
[実施例の説明] 以下、図面に従って本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明の一実施例に係る光検出装置を示す。
この光検出viI置は、vg3図の装置に対し11番以
降の符号で示されていた光学系およびフォトディテクタ
を変更したものである。第1図において、18は8個の
扇形の干渉フィルタ18a〜18hを平面的に円形配列
してなるフィルタブロック、19は円形のフォトディテ
クタをフィルタブロック18と同様の扇形の光検知素子
(光電変換素子)19a〜19tlに分割してなる多分
割のフォトディテクタである。
第2ミラー8(第3図)を透過した光束は、フィルタブ
ロック18の各干渉フィルタ18a〜18hによって8
個の波長成分に分けられ、それぞれ多分割フォトディテ
クタ19の対応する光電変換素子19a〜19hにより
電気信号に変換される。この多分割フォトディテクタ1
9は、同一のシリコン基板あるい1よガリウムもしくは
ヒ素基板上に形成することができ、この場合、装置全体
をさらに小型に構成することができる。
光電変換素子19a〜19hから出力される電気信号は
それぞれアンプ2Qa〜20hに入力される。この装置
においてもアンプ20a〜20hのゲインを、第3図の
装置におけると同様に露光すべきフォトレジストの分光
感度特性と入力される波長成分とに応じて調整すること
により、それぞれの電気信号を加算して得られる出力v
outすなわち干渉フィルタ18a〜18hと光電変換
素子19a〜19hとアンプ20a〜20hとの総合感
度をフォトレジストの分光感度に合致させることができ
る。これにより、この光検出装置においては、フォトレ
ジスト感度とほぼ同じ分光感度を有する電気信号出力y
outかに9られ、この出力voutを第2図に示すよ
うな回路に供給して霧光mの1I1112IIを行なう
ようにすれば、フォトレジストや干渉フィルタ18a〜
18hおよび光電変換素子19a〜19hの個々の分光
感度特性にかかわらず、さらには露光光の波長分布が変
動した場合であっても、常に正しい露光mを得ることが
できる。
なお、ここでは例として8個の干渉フィルタと8分割の
フォトディテクタを用いた例を示したが、一般的に干渉
フィルタをn個(nは正の整数)使用してn個に分割さ
れた多分割フィルタと組み合わせることも可能である。
一般に分割数を増すほどフォトレジスト分光感度の近似
が精度よく行なわれ、従って精度の高い露光を与えるこ
とができる。
第2図は、第1図の光検出装置の出力Voutを基に実
際の露光量を得るための回路例を示す。
アライナ(第3図)において、シャッタ(図示せず)が
開くとウェハ(図示せず)が露光されるとIAViに、
照明系の第2ミラー8を透過してさた光が第1図の光検
出装置に入射される。これにより、光検出装置からは出
力Voltが発生し、この出力VOt、I+は、第2図
の積分回路4】に印加される。
積分器a1の出力はコンパレータ42の一方の入力端・
13にhllえられ1、したコンパレータ42の他力の
入力端44に+、i *丸1d設定器45が1&続され
ている。このため、1ンパレータ42は、h1分′、!
A111の出力が露光ψ設定器45から出力される参照
電圧V refより高くなると反転ザる。従って、この
参照電圧y ratを図示しない可変抵抗器等により適
切に調節してJりくととbに、コンパレータ42の出力
11号VCIIlpをシセツタ開信号とじC用いること
によりこの光検出装置を適用したアライナ(第3図)で
は正しい露光量を19にとができる。
1光明の効果] 以上のように本発明によると、受光系の分光感度特性を
可変抵抗器等によって任意かつ容易に設定することがで
きるため、この受光系の分光感度特性をフォトレジスト
のものと合致させて正しい露光mを青ることが極め−C
容易である。また、このため、装置の組立て、調整も容
易である。ざらに、世故の濾光手段およびこの濾光手段
を経た光を受光するm数の光電変換手段をそれぞれ2次
元的に配列してh光手段の配列体および光電変換手段の
配列体を形成し、これらの配列体を7間的に対向させる
構造としているため、第3図に示したものよりメカニズ
ムが簡略化され、かつ小型に構成することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例に係る光検出Eifflの回
路図、 第2図は本発明の光検出Vt置の出力よりシ1ノック開
信号を得るための回路例を示す図、第3図は本発明者等
が先に案出した光検出装置をマスクアイライナの照明系
に組合わせた溝成図、第4図はフォトレジストの分光感
度特性の一例(a)とその分光感度特性に検知系の分光
感度特性を合わせる場合の各波長成分ごとの出力レベル
(b)を示すグラフである。 18・・・フィルタブロック、18a〜18h・・・干
渉フィルタ、19・・・フォトディテクタ、19a〜1
9h・・・光重変換素子、20a〜201)・・・アン
プ(重み付け回路)、2旧・・・・アンプ、VRa1〜
Rh2・・・可変抵抗器。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、入射光を透過させて複数の波長成分に分離する複数
    の濾光手段と、該濾光手段を経た各波長成分の光をそれ
    ぞれ電気信号に変換する複数の光電変換手段と、光電変
    換された各電気信号をそれぞれ所望の割合で増幅または
    減衰させることにより各電気信号に重み付けを施す複数
    の重み付け手段と、これらの重み付けされた電気信号を
    合成する手段とを有する光検出装置であって、上記複数
    の濾光手段および複数の光電変換手段をそれぞれ空間的
    に対向する2つの面上に配列したことを特徴とする光検
    出装置。 2、前記複数の光電変換手段が、同一半導体基板上に形
    成されている特許請求の範囲第1項記載の光検出装置。 3、前記濾光手段が、干渉フィルタである特許請求の範
    囲第1または2項記載の光検出装置。
JP59216266A 1984-10-17 1984-10-17 光検出装置 Pending JPS6195526A (ja)

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JP59216266A JPS6195526A (ja) 1984-10-17 1984-10-17 光検出装置

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