JPS6191397A - 合金めつき浴自動管理方法 - Google Patents

合金めつき浴自動管理方法

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JPS6191397A
JPS6191397A JP59213681A JP21368184A JPS6191397A JP S6191397 A JPS6191397 A JP S6191397A JP 59213681 A JP59213681 A JP 59213681A JP 21368184 A JP21368184 A JP 21368184A JP S6191397 A JPS6191397 A JP S6191397A
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Hiroshi Fujii
博司 藤井
Ryoichi Inoue
良一 井上
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ISHIHARA YAKUHIN KK
OOSAKASHI
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ISHIHARA YAKUHIN KK
OOSAKASHI
Ishihara Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、合金めっき浴を自動管理するための方法に関
する。
合金めっき浴は、浴成分が多く、しかもその変動は得ら
れるめっき皮膜の性質に大きな影響を与える。このため
浴成分を適正範囲内に保つことは重要であり、合金めっ
き浴を自動管理することが望まれている。しかしながら
合金めっき浴は、良質な皮膜を得るために各種の添加剤
が添加された複雑な浴組成となっており、浴成分を正確
1こ分析することは困難であり、特に合金めっき浴を自
動管理するために適する自動分析法は見出されていない
のが現状である。
本発明者は、合金めっき浴を自動管理する方法を見出す
べく種々研兜を重ねた結果、合企めつき浴の金属成分を
自動分析する方法として、含有金属成分と安定度定数の
大きい錯体を形成する錯化剤を添加して吸光度分析を行
なう方法を採用したS合+こ、銅、ニッケル、コバルト
、クロム、鉄及びマンガンの少なくとも1種を含有する
合金めっき浴の金属成分濃度を正確に自動分析できるこ
とを見出し、この分析結果に基づいて金属成分を自動補
給すれば従来困難であった上記成分を含有する合金めっ
き浴の自動管理が可能となることを見出した。
また、本発明者は、上記吸光度分析法と道位差滴定法と
を組み合わせて分析することにより、スズ(2価)も含
めたさらに広い組み合わせの金属成分を含有する合金め
っき浴の金属成分を自動分析できることを見出し、この
自動分析法と自動補給とを組み合わせることにより更に
広い範囲の組み合わせの合金めっき浴の自動管理が可能
1こなることを見出した。
即ち、本発明は、めっき浴サンプル1こ金属成分と安定
度定数の大きい錯体を形成する錯化剤を添加した後、吸
光度を測定して、金、嘱成分温度を求め、次いで金属成
分の必要量を補給することを特徴とする銅、ニッケル、
コバルト、クロム、鉄及びマンガンの少なくとも1握を
含有する合金めっき浴の自動管理方法上びjこめつき浴
サンプルに金属成分と安定度定数の大きい錯体を形成す
る錯化剤を添加した後、吸光度を測定して金属成分濃度
を求めることによる銅、ニッケル、コバルト、クロム、
鉄及びマンガンのうちの少なくとも11の分析と、ヨウ
素酸カリウム溶液を用いる電位差滴定Iこよるスズ(2
価)の分析とを組み合わせること1ζより金属成分濃度
を分析し、次いで金属成分の必要量を補給することを特
徴とする銅、ニッケル、コバルト、クロム、鉄、マンガ
ン及びスズ(2価)の少なくとも1種を含有する合金め
っき浴の自i!hW理方法に係る。
本発明では、銅、ニッケル、コバルト、クロム、鉄及び
マンガンの少なくとも1浬を含有する非シアン化物合金
めっき浴1こついて、上記金属成分と安定度定数の大き
い錯体を形成する錯化剤を添加した後、該金属成分濃度
を吸光度分析法により分析する。
このように安定度定数の大きい錯体を形成させるのは、
めっき浴中の金属成分が錯体を形成してない場合、安定
度定数が小さい錯体を形成している場合または錯化剤の
濃度が低い場合などでは、めっき浴中の他の添加成分や
反応生成物の影響を受けて金属成分の吸光度が変化する
ことがあるのでこれを防止するためである。
即ち、捏金・ス成分と安定度定数の大きい錯体を形成す
る錯化剤を錯体が生成するために充分な量存在させると
金属成分は、常ζこ安定な錯体として存在し、このため
金属濃度と吸光度との間撹正確な一次関係が成立する。
また本発明では、吸光度分析の測定波長領域を可視領域
とする。これは、紫外または遠赤外領域で吸光度測定を
巧なう場合には、装置がr+雑となり、また多くの添加
剤成分や生成物質が吸収を宵し、目的物以外の吸収の影
響を大きく受けるので、この影響をさけ精度よく分析を
行なうためである。
測定時のpHは、金、預成分の種類により異なるが、広
い範囲のpH値で金属濃度と吸光度との間に正確な一次
関係が成立するので通常は、pH調整をする必要はない
。例えば、銅はpH4〜11、ニッケルはpH2〜12
、コバルトはpH3〜12という二い範囲で吸光度はp
Hによる影Oを受けないので精度よく測定することがで
きる。Ji!I定pHがこの範囲外となるようなめつき
液では、pHの変動により吸光度に影υが生じるので、
この場合には、暦法に従ってこの範囲内となるよう1こ
pHを調整して吸光度の測定を行なえばよい。
本発明では、上記した目的に適合する安定度定数の高い
錯化剤として、例えばエチレンジアミン四酢酸(EDT
A)、ジエチレントリアミン五酢酸(DTPA)、ニド
!J o三tnm< NTA )%これらの塩及びこれ
らの誘導体等を使用することができる。錯化剤の添加量
は、採取したサンプル中に含まれる金属成分の総モル数
に対して等モル以上、溶解限までとする。
これらの錯化剤と安定した錯体を形成し、可視領域で吸
収のある金属成分として、銅、ニッケル、コバルト、ク
ロム、鉄及びマンガンを挙げることができ、本発明では
、これらの金属成分の少なくとも1種を含有する非シア
ン化物合金めっき浴を自動ffmの対象とする。測定対
象を非シアン化物めっき浴に限定する理由は、シアン化
物は、上記余日成分と安定fx9体を形成し、その錯体
は、可視領域に吸収を持たないためJこ可視領域での吸
光度測定ができないからである。
吸光圧と会社成分の濃度との関係は、ランベルト−ベー
ルの法則1こ従って次式で表わされる。
A = t・(M) (式中、AI!吸光度、tはモル吸光係数、(M)は金
属成分の濃度を示すe)可視領域1こ吸収のある金属成
分が1絹のみの揚台には、予めモル吸光係数を求めてお
き、吸光度を測定することにより、容易;こa度を求め
ろことができる。可視領域に吸収のある念q成分が2望
以上含まれる場合には、21以上の異なった波長域好ま
しくは各金属錯体の極大吸収波長で吸光度を測定し、吸
光度の加成性を利用した下記方程式を解くことにより各
金、r4成分の濃度を求めることができる。次Iこ例と
して金昂成分が3種の場合の方程式を示す。
A’ = を試・(Ml)+cム1□・〔M2〕+ε′
AI!、18・〔M3〕3分間1の波長λ1でのモル吸
光係数、〔M1〕は金属成分M1の濃度を示す。) 上記方程式中、波長λ1.λ2及びλ8での各金属成分
のモル吸光度係数を求めておけば、各波長での吸光度を
測定し、上記方程式を解くことξこより各金属成分のa
度が容易1こ求められる。
上記した吸光度分析法!こよれば金属が1扉類の場合は
もちろん、数稲類の金属成分が存在する場合1こ於いて
も精度よく金!!4濃度を求めることができ、また、分
析操作が簡単であるため、該吸光度法は、自動分析に非
常に適した方法である。
また本発明では、めっき浴中1こスズ(2価)が含まれ
る場合には、スズ(2価)濃度の定量を電位差滴定法に
よって行なう。この電位差滴定法では、滴定液としてヨ
ウ素酸カリウム標準溶液を使用して下記の反応により分
析を行なう。
十 KIO,+5KI+6H−3I、+3H,O+6に+2
+          4+    −3Sn+3I、
−35n+61 ヨウ素酸カリウム標準液は、ヨウ素を用いる酸化滴定で
一般に使用されるヨウ素標準液と比べて長期間安定性が
良いので、ヨウ素酸カリウム標準液を使用すること(こ
より精度よく分析できる。また、上記反応が進行するた
めには、pHを2.5以下とすることが必要であり、そ
のために添加する酸としては、特1ζ制限はないが、適
用pH範囲が広いことや装置への腐食性が少ないことな
どから硫酸が特1こ好ましい。
電位差滴定Eこ於いて使用する電極は、測定する金属成
分lこより各回の電極が使用できるが例えば、白金電極
等が使用できる。比吸電極としては、持fこ制限はなく
、測定液を汚染しないものであればよく、例えばせコウ
F!極、銀−塩化銀!1!極等が使用できる。
本発明の電位差滴定法によれば、スズ(2価)0度が簡
単、迅速かつ精度よく分析できるため、この電位差滴定
法は、自動分析用として非常1ζ適する分析方法である
本発明では、自動管理の対象となるめっき浴の金4成分
に応じて、吸光度分析法単独または吸光度分析法と電位
差滴定法を組み合わせた分析法により、簡単かつ正確に
金、舅成分の分析を行なうことができる。
本発明では、上記した分析法を採用すること1こより、
従来困難であった合金めっき浴の自動分析を初めて実用
的に可能にした。
本発明自動管理方法で使用する自動分析装置の一例を第
1図奢ζ示す。該装置は、めっき液試料に錯化剤を添加
して錯体を形成させる反応槽(1)と電位差滴定を行な
う滴定槽(2)を有する。反応槽(1)Iこは、(3)
から計Aした希釈水を注入し、(4)から計量しためつ
き液試料を注入する。次いで必要量の錯化剤を(5)か
らt5加し、スター9−(6)で十分撹拌した後、この
液を吸光度セル(7)に送る。吸光度セル(ア)は、吸
光度測定対象金属のi頚と同じ奴だけ用意し、それぞれ
の吸光度セル1こは、測定金I属の極大吸収波長に応じ
た透過フィルターを装着する。
吸光度セル(7)Iこ送られた測定液はここで吸光度を
測定される。尚、吸光度測定1こ先立って純水を吸光度
セルEこ送液しブランクの吸光度測定を行なっておくこ
とf(どは寓法(こ従って行なう。次いで予め求めてお
いたモル吸光係数と測定(こよって得られた吸光度から
金゛屑濃度を算出する。滴定槽(2)へは、(3)から
計なした希釈水を注入し、(4)から計なしためつき液
試料を注入した後、(8)から必要なの盾a酸を注入す
る。この液をスター9−(9)で攪拌しながらuQから
ヨウ素准カリウム漂準溶液を滴下する。滴定中の電極α
υと比較電tii四との間の9位を測定し、滴定の終点
を求める。ヨウ素酸カリウム漂準溶液の滴定スからスズ
(2価)の濃度を算出する。
本発明自動管理方法では、自動分析装置、例えば第1図
に於いて実施態様として例示した自動分析装置を用いて
合金めっき浴の金属成分を公訴し、次いで金属成分濃度
の変動を許容限度内jこ保っための必要量の補給液を自
動補給装置により供給する。
本発明合金めっき浴自動管理方法による分析及び補給の
フローチャートを第2図に示す。第2図に於いてpH測
定は必要に応じて実施すればよい。
自動補給装置としては、特1ζ限定はなく、通常使用さ
れている自動補給装置の中から、めっき浴の液ゑ、液の
種類、補給方法等に応じて選択すればよい。補給方法は
、浴組成の変動を少なくして安定しためつき皮膜を連続
して析出させるためには、一時に補給する方法よりも連
続的に少量ずつ補給する方法が好ましい。
補給量は、合金めっき浴の液駄、電解条件、金属成分濃
度の許容できる変:JJ幅、分析及び補給のサイクル、
補給方法など(こ応じて容易に決定することができ、ま
た分析及び補給のサイクルも合金めつき浴の液よ、電解
条件、金属成分濃度の許容できる変力幅など1こ応じて
容易1こ決定できる。
連続補給を行なう場合1こは、例えば過去の?lt+給
、′よ及び過去の分析値を考m(ζ入れた下Z己計算式
に従って補給量を算出すること(こより、めっき浴中の
金属成分濃度の反動を許容限度内に保つための好ましい
補給量が決定できる。
今回積算補給なtaxi鯰液濃度(mo 1/l)=〔
前回積算補給2(紡×補給液り度(mol/J) )+
〔前回分析値(mol/l)−今回分析Ci (mo 
l/J ))X!f!’g仙(θ+〔設定値(mo l
、、’1?)−今回分析値(mol/1))Xtff容
11t(j’)尚、式中、今回積算補給量とは、今回分
析後、次回分析までの間1ζ補給する承の合計量である
本発明自動管理方法では、上記し1こ計算式に従って算
出した塁の補給液を次回分析までの間(こ連統的1こ少
1ずつ補給する方法がめつき浴組成の変動が少なく良督
なめつき皮膜を得るために最も好ましい?iil給方法
である。
本発明合金めつき浴自勘雪理方法1ζよって、従来困玖
であった合金めっき浴の自動分析が可能となり、この自
助分析結果に基づいて自動補給を行なうこと(こより、
合金めっき浴の成分を適正範囲内に自動管理することが
初めて、実用的に可能となった。従って、本発明方法に
よ抄、合金めっき浴を自動管理すれば、良質なめっき皮
膜を連続して析出させることができる。
実     施     例 以下に実施例を示して本発明の詳細な説明する。
実施例1 未発明自動萱理方法において採用する分析方法の行動性
をvffi 2するために以下の実験を行なった。
第1表に示す組成のめつき浴について、A 1〜8は吸
光度法により、/109〜1種は吸光度法と電位差滴定
法とを組み合わせて金属成分一度の分析をした。尚、錯
化剤としては、h D T A −4Naを使用した。
なお、吸光度分析を行なうに先立って、各金属イオンと
EDTAとの錯体のスペクトルをフィルター型分光光度
計(ζより測定し、各錯体の吸収極大波長及びその波長
でのモル吸光係数を求めた。
結果を第2表に示す。
第  2  表 吸光度分析及び電位差滴定分析は次の方法ζこより行な
った。
0吸光度分析 合金めっき浴を25 ml採取。
↓ EDTA−4Na  1.Qmol/l溶液を添加。
全量を50W11とする。
吸光度測定。
↓ 分析対象金属成分の濃度算出。
O電位差滴定分析 合金めっき浴を3WLl採取。
↓ (1+20)硫酸を5W11加える。
全量をs o meとする。
↓ 0、INヨウ素酸カリウム標準溶液で電位差滴定分析す
る。
↓ 合金めつき浴中のスズ(2価)の濃度を求める。
分析結果を第3表1ζ示す。尚、比較のために原子吸光
分析を行なった結果も第3表に示す。
第322からスズ以外の成分の分析値は、原子吸光法に
よる分析値と比較して誤i3!4以内であり本発明で用
いる自動分析法が有効であることが明らかである。スズ
の分析値における誤差は1、皇子吸光性による分析値が
4価のスズを含んだ総スズ量を表わしていることが原因
であり、容な分析法1こより2価のスズ量を求めた結果
と本発明方法による分析値とを比較したところ、誤差は
3%以内となり非常に良い結果であった。
実施例2 第1図に示す自を分析装置を丈い、スズ−ニッケル合金
めっき浴、スズ−ニッケルー銅合金めっき浴、銅−ニッ
ケル合金めっき浴及び銅−スズ合金めっき浴について金
4成分の分析を行なった。
錯化剤としては、EDTA−4Na を用い、吸光度セ
ルは2個使用して、それぞれ銅−EDTAi体の吸収波
長域(740nm)またはニッケルーEDTA錯体の吸
収波長域(595nm)の光を選択的に述過させるフィ
ルターを装着した。組成を変化させて分析を行なった結
果、各めっき浴とも理論値1こ対して分析値の誤差は3
%以内であった。
また、スズ−ニッケル合金めっき浴について、この自動
分析装置の分析結果にもとづいて補給風を算出し、自動
補給を行ないながら連続電解を行なった。めっき浴の組
成及び1!解条件を第4表ζζ示す。
第  4  表 補給方法は、浴変動の少ない連続補給形式とし、補給量
の計算は、設定値、今回の分析値の池に、過去の補給量
及び分析値も考慮に入れ、下記の計算式1ζより求めた
今回積算補給量(メ×補給液濃度(mol/l)=〔前
回積算補給量(わ×補給液濃度(mol/lり ’1+
〔前回分析値(mol/l)−今回分析値(mol/l
) )×槽容積幡+〔設定値(mol/1I)−今回分
析値(mol/l) ) X槽容積(a尚、今回積算補
給たとは今回分析後、次回分析までの間に連続補給する
量の合計ユである。
分析及び補給は第2図のフローチャート1こ従って行な
った。
補給を行なわすjζ自動分析だ(ブを行なった結果を第
3図に、自動分析及び自!tll?IIl給を行なった
結果を第4図に示す。尚図中、Oはニッケル4L△はス
ズ5度である。補給を行なわない場合には、1時間を過
ぎると急速1こ浴が分解し、特に2価のスズは大きく城
少したが、補給を行ないながら連続電解した場合ζこは
、4時間経過後も浴組成がほのために極めて有効である
ことが明らかである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、めっき浴自動分析装置の模式図である。第2
図は、本発明自動管理方法のフローチャートである。第
3図は、実施例2における自動分析結果を表わすグラフ
、第4図は実施例2において自動補給を行なった場合の
自動分析結果を表わすグラフである。 同図1こ於いて、1は反応槽、2は滴定槽、3は純水注
入口、4はめつき散性入口、5は錯化剤注入口、6はス
ターラー、7は吸光度セル、8は希硫酸注入口、9はス
ターラー、10はヨウ素酸カリウム注入口、11はft
t!、12は比較WL極、13はpHWL極である。 第1図 第2図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)めっき浴サンプルに金属成分と安定度定数の大き
    い錯体を形成する錯化剤を添加した後、吸光度を測定し
    て金属成分濃度を求め、次いで金属成分の必要量を補給
    することを特徴とする銅、ニッケル、コバルト、クロム
    、鉄及びマンガンの少なくとも1種を含有する合金めっ
    き浴の自動管理方法。
  2. (2)めっき浴サンプルに金属成分と安定度定数の大き
    い錯体を形成する錯化剤を添加した後、吸光度を測定し
    て金属成分濃度を求めることによる銅、ニッケル、コバ
    ルト、クロム、鉄及びマンガンのうちの少なくとも1種
    の分析と、ヨウ素酸カリウム溶液を用いる電位差滴定に
    よるスズ(2価)の分析とを組み合わせることにより金
    属成分濃度を分析し、次いで金属成分の必要量を補給す
    ることを特徴とする銅、ニッケル、コバルト、クロム、
    鉄、マンガン及びスズ(2価)の少なくとも1種を含有
    する合金めっき浴の自動管理方法。
JP59213681A 1984-10-11 1984-10-11 合金めつき浴自動管理方法 Granted JPS6191397A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011107346A (ja) * 2009-11-16 2011-06-02 Ishihara Chem Co Ltd 現像液中のフォトレジスト溶解量の測定方法
JP5830795B1 (ja) * 2015-04-20 2015-12-09 株式会社ムラタ ニッケルフリーめっき液、めっき皮膜の形成方法及び電子部品の製造方法

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