JPS6187647A - 混合スクアライン化合物の調整方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 光班幻昇景 本発明は一般には混合スクアライン（ｓｑｕａｒａｉｎ
ｅ）化合物の調製方法に関し、さらに詳細には、本発明
はフルオロアニリン化合物の存在下に反応を行うことに
より改善した感光性を有する混合スクアライン化合物を
得る方法に関する。本発明の１つの実施態様においては
、フルオロアニリン特にＮ。

Ｎ−ジメチル−３−フルオロアニリンの存在下にスクア
リン酸と芳香族アミンを反応させることにより改善した
感光性を有するスクアライン化合物生成物の混合物特に
Ｎ、Ｎ’−ジメチル−３−フルオロアニリンスクアライ
ンでドーピングされたビス（４−Ｎ、Ｎ−ジメチル−２
−メチルフェニル〕スクアラインが提供される。これら
の方法より得られるスクアライン化合物は多層型感光性
像形成部材に使用するのに有用であり、例えば、該部材
の感光性を変化または向上させ得る。これらの部材はガ
リウムひ素ダイオードレーザ−を用いるレーザー印刷に
必要な可視光線および赤外線に対し感光性である。意図
する特定の感光性装置または像形成部材は、例えば、光
励起層と支持基体との間に、本発明方法により調製され
たスクアライン化合物からなる光導電性層を位置させ得
る。

特定のスクアライン化合物特にヒドロキシスクアライン
を含む光４電性像形成部材は公知である。

また、光励起層と支持基体とを有する感光装置も従来技
術において開示されている（米国特許第４．２６５，９
９０号参照）。この米国特許に開示された光励起層の例
には三方晶セレンおよびフタロシアニン類がある。使用
できる移送層は不活性樹脂バインダー組成物に分散させ
たある種のアミンからなる。さらに、感光性像形成装置
でのある種のスクアライン顔料の使用は米国特許第４．
４１４，６３９号に開示されており（該米国特許の記載
は参考として本明細書にすべて引用する）、該特許には
、基体、正孔ブロッキング層、任意構成成分としての接
着界面層、無機光励起層、該光励起層の固有の性質を促
進または減少させ得る光導電性化合物、および正孔移送
層からなる改良型感光装置が記載されている。この装置
の光導電性化合物としては、ヒドロキシスクアライン化
合物を含む各種のスクアライン顔料が使用されている。

さらに、米国特許第３．８２４，０９９号には、ある種
の感光性ヒドロキシスクアライン化合物が記載されてい
る。該米国特許の記載によれば、上記スクアライン化合
物は通常の静電写真像形成装置で感光性である。

他のある米国特許出願においては、像形成部材としての
ビス−９−（８−ヒドロキシジュロリジンル）スクアラ
インを含む新規なスクアライン化合物の使用を開示して
いる。記載されている部材の１つは支持基体、正札ブロ
ッキング層、任意構成成分としての接着界面層、無機光
励起層、該光励起層の固有の性質を促進または減少させ
得かつ上記の米国出願に開示された新規ジロリジニルス
クアライン物質からなる光導電性化合物層、および正孔
移送層からなっている。

また、米国特許第３，６１７．１７０号には、好ましく
は光導電体として酸化亜鉛を含む光感応型光導電性層が
開示されており、その感度は該米国特許第１欄、３５行
よりに示された弐の１．３または１゜２−スクアリン酸
メチン染料の存在からして貯蔵の結果として未変化のま
まであり；また米国特許第３，８２４，０９９号はスク
アリン酸メチン染料からなる電荷発生層とトリアリール
ピラゾリン化合物の電荷移送層とを有する感光性静電複
写装置を開示している。

スクアライン化合物を調製する方法は一般にスクアリン
酸と芳香族アミンとの反応を含む。即ち、例えば、前記
の米国特許出願に開示された新規ジュロリジニルスクア
ライン化合物は、脂肪族アルコールと任意成分としての
共沸共溶媒との混合物の存在下に約Ｉ．５：ｌ〜３：１
のモル比の芳香族アミンとスクアリン酸とを約５０″Ｃ
〜約Ｉ３０°Ｃの温度で反応させることにより調製する
。スクアリン酸０．１モル当り約２００　ｍ　ｌのアル
コールを使用し、また約４０ｍ１〜約４．０００ｍｆｆ
の共沸物質を使用する。アミン反応物の具体的な例は８
−ヒドロキシジュロリジンであり、また脂肪族アルコー
ルの例はｌ−ブタノールである。使用した共沸物質には
ベンゼンおよびトルエンを含む芳香族化合物である。

また、“スクアライン化合物の調製方法（Ｐｒｏｃｅｓ
ｓｅｓ　ｆｏｒ　ｔｈｅ　Ｐｒｅｐａｒａｔｉｏｎ　ｏ
ｆ　ＳｑｕａｒａｉｎｅＣｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎｓ　）
　　”なる名称の米国特許出願５７０．５６３号（その
記載は参考として本明細書にすベテ引用する）には、公
知のスクアリン酸反応をフェノールまたはフェノールス
クアラインの存在下で行う光導電性スクアライン化合物
の調製方法が開示されている。この米国特許出願に開示
されているように、有効温度でかつ脂肪族アルコールお
よび任意成分としての共沸化合物の存在下にスクアリン
酸、芳香族アミン、およびフェノールまたはフェノール
スクアラインからなる群から選ばれた化合物とを反応さ
せることからなるスクアライン化合物の改良された調製
方法が提供される。

さらに、“新規スクアライン系（Ｎｏｖｅｌ　５ｑｕａ
ｒａｉｎｅＳｙｓ　ｔｅ解Ｓ）”なる名称の米国特許出
願第５５７，７９５号には、スクアリン酸、第一級アル
コール、第１のターシャリ−アミンおよび第２のターシ
ャリ−アミンとの混合物を形成させることからなる新規
な非対称スクアライン化合物の合成方法が開示されてい
る（該米国特許出願の記載はすべて参考として本明細書
に引用する）。

さらに、“スクアライン化合物の調製方法（Ｐｒｏｃｅ
ｓｓ　ｆｏｒ　　５ｑｕａｒａｉｎｅ　Ｃｏｍｐｏｓｉ
ｔｉｏｎｓ　）　”なる名称の別の米国特許出願第５５
７　、７９６号には、ジアルキルスクアレートとＮ、Ｎ
−ジアルキルアニリンとを酸触媒の存在下約５０℃〜約
Ｉ６０℃の温度でメタノール、エタノール、プロパツー
ル、ブタノール等のような脂肪族溶媒の存在下に反応さ
せることからなるスクアライン製造方法が開示されてい
る（該米国特許出願の記載はすべて参考として本明細書
に引用する）。

Ｌｏｕｔｆｙ等の１フオトコンダクテイビテイオブオル
ガニソクパーテイクルデイスバージヨン：スクアライン
ダイス（Ｐｈｏｔｏｃｏｎｄｕｃｔｉｖｉｔｙ　ｏｆ　
ＯｒｇａｎｉｃＰａｒｔｉｃｌｅ　　Ｄｉｓｐｅｒｓｉ
ｏｎｓ　：　５ｑｕａｒａｉｎｅ　　Ｄｙｅｓ　　）　
　”　、　フォトグラフィクサイエンスアンドエンジニ
アリング（Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ　５ｃｉｅｎｃｅ
　ａｎｄ　Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ　）、Ｖｏｌ、　２
７、隘１．１月／２月、１９８２、ｐｐ。

５〜９゜スクアリン酸のアミン誘導体の構造式が８頁に
示されている。この構造式は該論文の記載からみてミス
プリントのようである。

米国特許第３．８２４，０９９号はスクアリン酸メチン
染料からなる電荷励起層とトリーアリールピラゾリン化
合物からなる電荷移送層とを有する電子写真板を開示し
ている。多くの対称形スクアリン酸誘導体が記載されま
た特定の非対称融合環、即ち、第３欄、実施例５に示さ
れる融合環上にヒドロキシ基を有するスクアリン酸の非
アミン誘導体が記載されている。

米国特許第４，３５３，９７１号は電荷励起層がダイア
ンブルーとスクアリリウム染料のような電荷励起染料の
混合物からなる２層型有機感光体を開示している。多く
の対称形スクアリン酸誘導体が記載され、また特定の非
対称融合環、即ち、融合環上にヒドロキシ基を有するス
クアリン酸の非アミン誘導体が第３欄に構造式５で示さ
れている。

米国特許第４，１２３，２７０号は電荷励起層と電荷移
送層とからなる電子写真像形成要素を開示している。電
荷励起層は有機第一級アミン可溶性モノアゾおよびジア
ゾ化合物からおよびスクアリン酸の有機第一級アミン可
溶性電荷励起誘導体から選ばれた有機染料物質からなる
。記載された光励起層化合物の例は２．４−ビス（２−
メチル−４〜ジメチルアミノ−フェニル）−１，３−シ
クロブタジエンージイリウム−１，３−ジオレート、２
゜４−ビス−（２−ヒドロキシ−４−ジメチルアミノ−
フェニル）−１，３−シクロブタジエンージイリウム−
１，３−ジオレート、および２．４−ビス（ｐ−ジメチ
ルアミノ−フェニル）−１，３−シクロブタジエンージ
イリウム−１，３−ジオレートである。

米国特許第３．８３８．０５９号は光活性化液晶セル中
でのドーパントとして用いるスクアリリウム染料または
テトラシアノ−ｐ−ベンゾキノンを開示している。

米国特許第３．１２１，００６号は電気絶縁性有機樹脂
バインダー中に分散させた光導電性無機化合物の微分割
粒子からなる複合光導電性部材を開示している。

米国特許第４，２６５，９９０号は１つの層が光導電性
層であり、第２の連続層が電荷移送層である多層感光性
部材を開示している。電荷移送層はポリカーボネート樹
脂と１種または２種以上のジアミン正札移送物質からな
る。

米国特許第４．２５Ｌ６１２号は、正孔移送層でオーバ
ーコートされ次いで光励起層のオーバーコーテイングを
有する正札注入層および絶縁性有機樹脂の外部コーティ
ングとを含む感光材料からなる感光装置を開示している
。

ヘルギー特許第７６３，５４０号は少なくとも２つの電
気的に作動する層を有する電子写真部材を開示しており
、その第１の層は電荷キャリヤーを光励起させかつこの
キャリヤーを有機移送物質を含む連続活性層へ注入し得
る光導電性層からなり、上記有機移送物質は意図する用
途のスペクトル領域では実質的に非吸収性であるが光導
電性層から光励起正孔の注入を可能にしまたこれら正孔
を上記活性層を通して移送せしめる点では活性である。

また、Ｊｏｈｎ　Ｆ、　Ｙａｎｕｓの名義で１９８３年
１２月５日に出願された米国特許出願１１ｈ５５７，８
０１号には、スクアリン酸、約り３０℃〜約２１０℃の
沸点を有する長鎖−級アルコールおよび三級芳香族アミ
ンとを上記−級アルコールの沸点以下で減圧下に加熱し
てスクアライン化合物を形成させる方法が開示されてい
る。

Ｋｏｃｋ　Ｙｅｅ　Ｌｏｗの名義で１９８３年１２月５
日に出願された米国特許出願第５５７，７９６号には、
ジアルキルスクアレートとＮ、Ｎ−アルキルアニリンと
を酸触媒の存在下に約８０℃〜１６０℃の温度で反応さ
せる方法が開示されている。メタノール、エタノール、
プロパツール、ブタノール、特に水飽和１−ブタノール
、アミルアルコールを包含する脂肪族アルコールのよう
な溶媒が上記スフアレ　゛−トまたアクアリン酸の溶液
を形成する目的で使用される。

上記のスクアライン化合物を調製する各方法はその意図
する目的には適しているけれども、光導電性スクアライ
ン化合物を調製できる他の方法が要求されている。さら
に、得られた生成物がドーパントを含む簡単かつ経済的
なスクアライン化合物の調整方法が要求されている。理
論によって拘束する積りはないけれども、本発明方法に
より得られたスクアライン化合物中のドーパントの存在
は感光性を増大させるものと信じている。さらにまた、
これらの化合物を多層型感光性像形成装置で用いたとき
改善された感光性を有するスクアライン化合物の調製が
要求されている。さらに、得られた生成物を像形成部材
に使用したときすぐれた暗減衰と高電荷アクセプタンス
値を示す改善された感光性を有するある種のスクアライ
ン化合物の調製を行う方法が要求されている。また、光
活性であるだけでなく変質活性のない混合スクアライン
化合物特に特定のＮ、Ｎ−ジアルキルフルオロアニリン
スクアラインでドーピングしたある種のビス−フェノー
ルスクアラインの調製が要求されている。さらにまた、
増大した青色波長応答と良好な複写回数特性を有する新
規なスクアライン化合物が要求されている。

光里■叉■ 従って、本発明の目的はスクアライン化合物の改良され
た調製方法を提供することである。

本発明の他の目的は、改善された感光性、すぐれた暗減
衰特性および許容できる電荷アクセプタンスとを有する
ある種のスクアライン化合物を調製する改良された方法
を提供することである。

本発明の別の目的は改善された感光性を有するスクアラ
イン化合物の簡単かつ経済的な調製方法を提供すること
である。

本発明のさらに別の目的は優れた感光性を有し変質活性
（ｍｕＬａｇｅｎｉｃ　ａｃｔｉｖｉｔｙ　）のない混
合スクアライン化合物の調製方法を提供することである
。

本発明のさらに別の目的は、優れた感光性および低暗減
衰を有し、変質活性のないある種のＮ。

Ｎ−ジアルキルフルオロ７ニリンスクアラインでドーピ
ングした特定のビス−フェノールスクアライン化合物の
調製方法を提供することである。

本発明のさらに別の目的は、光導電性部材に使用したと
き、スペクトルの可視および赤外Ｉｎ領域に感光性であ
り所望の青色光線応答と改善された複写回数特性とを与
える、Ｎ、Ｎ−ジアルキル３−フルオロアニリンスクア
ラインでドーピングしたビス（ジアルキルフェニル）ス
クアラインの調製方法を提供することである。

本発明のさらに別の目的は混合スクアライン化合物の容
易にスケールアンプできる調製方法を提供することであ
る。

本発明のさらに別の目的は本発明方法で調製したスクア
ライン化合物を光導電性層として含む静電像形成部材を
提供することである。さらに、これらの部材を用いた像
形成方法も提供される。

本発明の上記および他の目的は、−ｉに、公知のスクア
リン酸反応をフルオロアニリンの存在下に行う光導電性
スクアライン化合物の調製方法を提供することによって
達成される。さらに詳細には、１つの実施態様において
、本発明によれば、有効温度でスクアリン酸、芳香族ア
ミンおよびフルオロアニリンとを脂肪族アルコールと任
意成分としての共沸化合物との存在下に反応させること
からなる混合スクアライン化合物の改良された調製方法
が提供される。１つの特別の実施態様においては、Ｎ、
Ｎ−ジメチル−メタ−トルイジンをスクアリン酸とＮ、
Ｎ−ジアルキル−３−フルオロアニリン特にＮ、Ｎ−ジ
メチル−３−フルオロアニリンの存在下に反応させるこ
とによりスクアライン化合物混合物特にＮ、Ｎ−ジアル
キル３−フルオロアニリンスクアラインでドーピングさ
れたビス（４−Ｎ、Ｎ−ジメチル−２−メチルフェニル
）スクアラインが提供される。また、本発明の混合スク
アライン化合物はＮ、Ｎ−ジメチル−メタ−トルイジン
とＮ、Ｎ−ジメチル−３−フルオロアニリンとの混合物
をスクアリン酸と反応させることによっても８用型でき
る。これらの２つの反応から得られる生成物は後述する
ような等価な電気的特性を含めて、実質的に同じ性質を
有している。

以下、本発明方法を次の２つの反応機構、即ち、反応Ａ
においては約２部のアニリン反応物、１部のスクアリン
酸、ｎ部のフルオロアニリン（ｎは２またはそれ以下の
数を示す）が使用され、反応ＢにおいてはＸモルのアニ
リン反応物とＹモルのフルオロアニリン（Ｘ／Ｙの比は
約Ｉ０〜約０、３３３、好ましいのは約３〜約０．６６
６である）が使用される反応機構に関連して説明する。

八、　　ｖＡＡｌ １□閣 ＣＨ３０− Ｆ　　　　　Ｏ− ＋ 〔式中、ｎはゼロ（０）〜２（１００％）の数である。

〕 Ｂ０機構■ （式中、ｘ＋ｙは前記したとおりである。）例えば上記
の各反応式に関連して説明するある１つの反応順序にお
いては、所望のスクアライン化合物は脂肪族アルコール
と任意成分としての共沸物質中にスクアリン酸を懸濁さ
せ次いで加熱することにより調製する。その後、得られ
た混合物に前述の式で示される芳香族アミンおよびフル
オロアニリンまたはフルオロベンゼンとを所望の生成物
が得られるまで加熱を続けながら加える。

１つの具体的な例示的実施態様においては、本発明のス
クアライン化合物の混合物はスクアリン酸と芳香族アミ
ンとを約ｌ：０４〜約Ｉ：２．５好ましくは約Ｉ：２の
比で脂肪族アルコールと前記フルオロベンゼンとの混合
物の存在下に反応させることにより調製する。スクアリ
ン酸０．１モル当り約２００　ｍ　（ｌのアルコールを
使用するが、スクアリン酸０．１モル当り２．０００ｍ
／までのアルコールも使用できる。また、約０．０１モ
ル〜約０、２モルのフルオロベンゼンが反応混合物中に
存在する。反応は一般に反応が終了するまで撹拌しなが
ら約５０℃〜約Ｉ３０℃の温度好ましくは約５００℃〜
約Ｉ１０℃の温度で行う。続いて、所望の生成物を濾過
を含む公知の方法で単離し、ＮＭＲ、フッ素の元素分析
およびＸ線粉末回折を含む分析手段で同定する。

アミン反応物の例はＮ、Ｎ−ジメチル−メタ−トルイジ
ン、Ｎ、Ｎ−ジフロピルーｍ−トルイジン、Ｎ、Ｎ−ジ
ブチル−ｍ−トルイジン、Ｎ、　Ｎ−ジフェニル−ｍ−
トルイジン等であり、好ましいのはＮ、Ｎ−ジメチル−
メタ−トルイジンである。他の同様なおよび／または等
価のアミン反応物も本発明の目的を達成する限りにおい
て使用できる。これらの反応物は公知であり、文献記載
の方法例えば“ジャーナルオンアメリカンケミカルソサ
エテイ（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃ
ｈｅｍｉｃａｌＳｏｃｉｅｔｙ　）　、Ｖｏｌ、　６８
．８９５−８９６．１９４６″に記載の方法によって調
製できる（該文献の記載は参考としてすべて本明細書に
引用する）。

本発明の反応手順においては、フルオロアニリンドーパ
ントとして次式： （式中、Ｒ１とＲ２は、それぞれ、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチル、ヘキシル、オクチル、デシル、および
ペンタデシル等のような１〜２４炭素原子を有するもの
を包含するアルキル基から選ばれ、好ましいのはメチル
、エチル、プロピルおよびブチルである） のフルオロベンゼンが使用される。本発明にとって重要
なことはフッ素原子がフルオロベンゼン反応物の第３位
即ちメタ位にあるということである。

本発明方法に使用できるフルオロアニリン反応物即ちド
ーパントの具体的例にはＮ、Ｎ−ジメチル−３−フルオ
ロアニリン、Ｎ、Ｎ−ジエチル−３−フルオロアニリン
、Ｎ、Ｎ−ジブチル−３−フルオロアニリン、Ｎ、Ｎ−
ジヘキシルー３−フルオロアニリン等があり、好ましい
のはＮ、Ｎ−ジメチル−３−フルオロアニリンである。

これらのドーパントは一般に文献、例えば、“ジャーナ
ルオンアメリカンケミカルソサエテイ　（Ｊｏｕｒｎａ
ｌｏｆ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　５ｏｃ
ｉｅｔｙ　）　、Ｖｏｌ、　６８、８５９−８６０．１
９４６″に記載されたようにして調製する（該文献の記
載は参考としてすべて本明細書に引用する）。

本発明の混合スクアラインの調製に使用できる脂肪族ア
ルコールの具体的例にはｌ−ヘキサノール、■−オクタ
ツール、ネオペンタノール、１−ヘプタノール等があり
、１〜ペンタノールが好ましい。

本発明によれば、例えば反応機構■および■において示
したような特定の新規スクアライン化合物の混合物が得
られる。より詳細には、例えば、Ｎ、Ｎ−ジメチル−３
−フルオロフェニルスクアラインでドーピングした生成
物ビス（４−、Ｎ、Ｎ−ジメチル−２−メチルフェニル
）スクアライン等が得られる。

生成物化合物は、フッ素燃焼分析、プロトン磁力共鳴お
よびＸ線粉末回折によって特徴付けられ、特に、例えば
、プロトンＮＭＲスペクトルによれば、好ましい生成物
は１９Ｂ、５０、ＩＩ１，４３、■０．０７〜１４１．
３６、ＩＩ　５２．２０、ｍ６．４４の次の３成分の混
合物である。好ましい割合はＩ　７４．６７、ｌＩ２２
．７１．１２．６２である。

■ ＮＭＲのデータはフッ素燃焼分析で確認できた。

また、Ｘ線粉末回折は新規化合物の結晶構造が純粋なＩ
に極めて類似し■および■は同形置換（ｉｓｏｍｏｒｐ
ｈｉｃ　５ｕｂｓｔｉｔｕｔｉｏｎ　）により結晶格子
中に合体していることを示唆していた。

例えば、機構Ｉにより示される１本発明の１つの好まし
い実施態様においては、Ｎ、Ｎ−ジメチル−ｍ−トルイ
ジンとスクアリン酸とを２：ｌの割合でＮ、Ｎ−ジメチ
ル−３−フルオロアニリンと、ｌ−ヘキサノール、ｌ−
ヘプタノール、ｌ−オクタツールまたは２−エチルヘキ
サノールを包含する脂肪族アルコールからなる溶媒系の
存在下で反応させる。添加剤Ｎ、Ｎ−ジメチルー３−フ
ルオロアニリンは２モル％〜１００モル％のモルパーセ
ント比で存在し、このモルパーセントはＮ、　Ｎ−ジメ
チル−３−フルオロアニリンの、モル数ｔ−Ｎ。

Ｎ−ジメチル−ｍ−１・ルイジンのモル数で割り１００
％を掛けた比から計算する。Ｎ、Ｎ−ジメチル−３−フ
ルオロアニリンの好ましいモルパーセント添加は６６％
であり、また好ましい溶媒はＩ−ヘプタノールである。

さらに、この反応機構において、還流温度は好ましくは
約５０℃〜約Ｉ１５℃に維持する。この反応温度は、使
用する反応溶媒によりあるいは反応圧を調整することに
より適当に調整できるけれども、約５００℃〜約Ｉ０７
℃の還流温度が好ましい。また、反応時間に適当に変化
させ得る。しかしながら、一般には、反応は約２時間〜
約４０時間好ましくは５時間〜約７時間続行させる。た
だし、本発明の目的を達成する限り、他の反応時間もも
ちろん使用できる。

反応機構■に関しては、ＸモルのＮ、Ｎ−ジメチル−ｍ
−トルイジンとＹモルのＮ、Ｎ−ジメチル−３−フルオ
ロアニリンをｍモルのスクアリン酸と１−ヘキサノール
、ｌ−ヘプタノール、■−オクタツールまたは２−エチ
ルヘキサノールを包含する脂肪族アルコールからなる適
当な溶媒系の存在下に反応させる。（Ｘ＋Ｙ）７ｍの比
は約０．８〜約４であり得るが、好ましいのは２である
。また、Ｘ／Ｙ比は約Ｉ０〜約０．３３３好ましくは約
３〜約０．６６６であり得る。この反応機構においては
還流温度は一般に約５０℃〜約Ｉ１５℃好ましくは約４
００〜約Ｉ０７℃で変化し得る。この特別の反応の反応
時間は反応機構ｌに関して述べたのと同様である。

本発明方法により調製したスクアライン化合物はスペク
トルの赤外線および／または可視領域で感光性の光導電
性物質として有用である。かくして、支持基体、正孔移
送層、およびこれらの間にあり本発明方法で調製したス
クアライン化合物からなる光導電性層とからなる多層型
感光性装置を製造することができる。他の実施態様にお
いては、意図する感光性装置は基体、本発明方法で調製
したスクアライン化合物からなる光導電性層、およびこ
れら光導電性スクアライン層と支持基体との間にある正
孔移送層とからなる。さらに、像形成部材が光励起層と
正孔移送層との間にある本発明方法で調製したスクアラ
イン光導電性化合物の層からなるか、あるいは光導電性
スクアライン化合物層が光励起層とそのような装置の支
持基体との間にある印刷装置において有用な感光性像形
成部材を製造できる。これらの部材は“新規スクアライ
ン化合物を含む光導電性装置（Ｐｈｏｔｏｃｏｎｄｕｃ
ｔｉｖｅ記載されており、その記載は参考として本明細
書にすべて引用する。

本発明方法により調製したスクアラインを含有する１つ
の特別の改良された感光性装置は上記した順序で（１）
支持基体、（２）正札ブロッキング層、（３）任意成分
としての接着界面層、（４）無機光励起層、（５）該光
励起層の固有の性質を向上または減少させることができ
、本発明方法で調製したスクアライン物質からなる光導
電性化合物層、および（６）正孔移送層からなる。

上記の感光性装置または像形成部材は任意の適当な良く
知られた方法で調製でき、プロセスパラメーターおよび
各層のコーティング順序は所望する装置に依存する。即
ら、例えば、３層型感光性装置は支持基体上に光導電性
層を沈着させ次いで電荷移送層を沈着させることにより
製造できる。

他の変形方法においては、多層型感光装置はブロッキン
グ層と任意成分としての接着層を有する導電性基体を調
製しその後この基体に光導電性層を適用することにより
製造できる。本発明の新規スクアラインからなる光導電
性層および正孔移送層は溶媒コーティング法、ラミネー
ティング法または他の適当な方法で形成することができ
る。

本発明の改良された感光性装置は通常の静電複写像形成
装置、複写装置および印刷装置を含む各種の像形成装置
に使用できる。しかも、無機光励起層および本発明のス
クアラインからなる光導電性層とを含む本発明の改良さ
れた感光性装置は可視光線および／または赤外線により
像形成および印刷装置で同時に機能する。この実施態様
において、本発明の改良された感光性装置は負に帯電さ
せ、約４００〜約Ｉ．ＯＯＯｎｍ（ノナメーター）の波
長に順次または同時に露出し、次いで得られた像を現像
し、この像を紙に転写し得る。本発明の多層型感光性装
置の照射に対する露出および消去は、活性照射源と光感
電性層間の任意の介在層の透明度によるが、装置の一端
または両端から行うことができる。

電荷移送層は支持基体と光導電性層との間に置くことが
できる。より詳しくは、感光装置は支持基体、不活性樹
脂バインダー組成物中に分散させた正孔移送物質からな
る正孔移送層、および単独または必要に応じ樹脂バイン
ダー組成物中に分散させた本発明の新規スクアライン化
合物からなる光導電性層とからなり得る。

また、本発明の改良された感光性装置は基体、正孔ブロ
ッキング金属酸化物層、任意構成々分と　′しての接着
層、電荷：トヤリャー無機光励起層、および本発明の新
規スクアライン化合物からなる有機光導電性化合物層と
からなり得る。即ち、例えば、上記無機光励起層は不活
性樹脂バインダー中に分散させた無機光励起化合物から
なり得る。また、上記光導電性層は無機光励起層と基体
との間にあり得、より詳しくは、この実施態様の光導電
性層は上記任意構成成分としての接着層と無機光励起層
の間に位置し得る。

本発明の１つの好ましい感光性装置は約Ｉ００オングス
トロームの厚さを有する２０％光透過性アルミニウムの
層でコーティングした約３ミル（０，０７６ａｓ）厚さ
のマイラーウェブ、約２０オングストロームの厚さを有
する酸化アルミニウムからなる金属酸化物層、約０．０
５ミクロン厚のポリエステル接着層（Ｅ、１．デュポン
社より４９．０００ポリエステルとして入手可能）、約
Ｉミクロンの厚さを有しかつ約７０重里％の樹脂バイン
ダー中に分散させた３０重尾％の本発明の混合スクアラ
インからなる光励起層、および約　１５ミクロンの厚さ
を有しポリカーボネート樹脂バインダー中に分散させた
約３５重量％のＮ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス
（３−メチルフェニル）−（１，１’−ビフェニル）−
４，４’−ジアミンからなる正孔移送層とからなる。

別の特定の実施態様においては、本発明の感光性装置は
２０％光透過性アルミニウムの約Ｉ００オングストロー
ム層でコーティングした約３ミルの厚さを有するマイラ
ーウェブの基体、約２０オングストローム厚の酸化アル
ミニウムの金属酸化物正孔ブロッキング層、約０．０５
ミクロン厚の任意成分としての接着層（Ｅ、１．デュポ
ン社より４９．０００ポリエステルとして入手可能）、
フェノキシ樹脂バインダー〔アライドケミカル社よりポ
リ　（ヒドロキシエーテル）バケライト（Ｂａｋｅｌｉ
ｔｅ　）として入手できる〕中に分散させた約３３容量
％の三方晶セレンからなり、約０．４ミクロンの厚さを
有する光励起層、約７０重量％の樹脂バインダー〔ホー
ムバー（Ｆｏｒｍｖａｒ　　、登録商標）、モンサント
社より人手可能〕中に分散させた約３０重量％のスクア
リン酸、Ｎ、Ｎ−ジメチル−アニリンおよびＮ、　Ｎ−
ジメチル−ｍ−トルイジンとの反応生成物即ち本発明の
混合スクアラインからなり約０．５ミクロンの厚さを有
する光導電性層、および約５０重■％のポリカーボネー
ト樹脂バインダー中に分散させた約５０重量％のＮ、Ｎ
’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（３＝メチルフエニル
）−（１，１’−ジフェニル〕−４，４′−ジアミンか
らなる約２５ミクロン厚の正孔移送層とからなる。

基体層は不透明または実質的に透明であり得、必要な機
械的性質を有する任意の適当な材料であり得る。即ち、
基体は商業的に入手可能なポリマーであるマイラーのよ
うな無機または有機重合体物質の如き絶縁性材料の層；
インジウムスズ酸化物または酸化アルミニウムのような
半導電性表面層を有する有機または無機物質の層；例え
ば、アルミニウム、クロム、ニッケル、黄銅等の導電性
物質の層からなり得る。基体は軟質または硬質でもよく
、例えばプレート、円筒状ドラム、スクロール、エンド
レスの可撓性ベルトのような任意の形状を有し得る。必
要ならば、基体の裏面は耐カール性層例えば樹脂層でコ
ーティングしていてもよい。

基体層の厚さは特別に重要ではない。経済的考慮のよう
な要因によるが、この層は例えば１００ミル（２，５４
＋ｕ）以上の実質的厚さでもよく、あるいはもし怒光装
置の他の層が自己支持性である場合には削除してもよい
。約２５ミル〜約Ｉ００ミル厚のベルトが高速装置用と
して満足できる。

正孔ブロッキング層は酸化アルミニウムおよびインジウ
ムスズ酸化物を含む金属酸化物；ポリビニルブチラール
のような樹脂類；加水分解した３−アミノプロピルトリ
エトキシシランのようなケイ素化合物より誘導した高分
子オルガノシラン頬；アセチルアセトン酸金属塩のよう
なオルガノ金属化合物等のような任意の適当な公知物質
からなり得る。この層の第一の目的は電荷のブロッキン
グを与えること即ち、荷電中または荷電後に基体から電
荷注入を防止することである。典型的には、この層は約
５０オングストローム以上の厚さを有する。

任意の適当な接着層を用い得る。代表的な接着材料には
ポリエステル、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロ
リドン等の重合体がある。典型的には、この層は約０．
３ミクロン以下の厚さを有する。無機光励起層は可視光
線に感光性の任意の適当な電荷キャリヤー励起性物質か
らなり得る。代表的な無機光励起物質には無定形セレン
、無定形セレン合金、ハロゲンでドーピングした無定形
セレン、ハロゲンでドーピングした無定形セレン合金、
三方晶セレン、硫化カドミウム、セレン化カドミウム、
テルル化カドミウム、セレン化カドミウムイオウ、テル
ル化カドミウムイオウ、セレノテルル化カドミウム、お
よび銅または塩素でドーピングし、た硫化カドミウム、
セレン化カドミウムまたはセレン化カドミウムイオウ等
である。代表的なセレン合金にはセレン−テルル合金、
セレン−ひ素合金、セレン−テルル−ひ素合金があり、
これら合金はさらに約５０〜約２００ｐｐｍの量で塩素
のようなハロゲン物質を含み得る。

無機光励起層は、典型的には、約０．０５５ミフロン〜
１０ミクロンまたはそれ以上好ましくは約０．４ミクロ
ン−約３ミクロンの厚さを有する。しかしながら、この
層の厚さは、主として、約５〜約Ｉ００容励％で変化し
得る光励起物質の容量に依存している。一般に、この層
を像形成または印刷露出段階でこの層に向けられる照射
の約９０％以」二を吸収するのに十分な厚さで調製する
ことが望ましい。この層の最大厚は、主として、機械的
要因即ち可撓性感光装置が望まれるかどうかのような物
理的要因に依存している。

本発明の感光性装置の極めて重量な層は本発明のスクア
ライン化合物からなる光導電性層である。

これらの化合物は一般に電荷キャリヤー移送層と電気的
に適応性であり、光刺激した電荷キャリヤを移送層に注
入せしめさらに電荷キャリヤーを光導電性層と電荷移送
層との間の界面を横切る両方存在する光導電性物質の量
を包含する多くの要因に依存する。従って、この層は、
本発明の光導電性スクアライン組成物が約５〜約ｌＯＯ
重量％で存在するとき、約０．０５５ミフロン〜１０ミ
クロンの厚さで変化し得る。より好ましいのは、この層
は光導電性スクアライン化合物が約３０重量％の量で存
在するとき約０．２５５ミフロン〜１ミクロンの厚さを
有する。この層の最大厚は機械的要因即ち可撓性の感光
装置が望まれるかどうかのような物理的要因に主として
依存している。

無機光励起用物質または光導電性物質は各々の層の１０
０％からなり得るか、あるいはこれらの物質は各種の適
当な無機または樹脂状高分子バインダー中に約５〜約９
０容量％の量で分散させ得る。使用できる高分子バイン
ダー樹脂の具体的例には例えば米国１１Ｆ許第３，１２
１，００６号に記載されたものがある（該米国特許の記
載はすべて参考として本明細書に引用する）。代表的な
高分子バインダー樹脂物質にはポリエステル、ポリビニ
ルブチラール、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルカル
バゾール、エポキシ樹脂、ポリ　（ヒドロキシエーテル
）樹脂等がある。

電荷キャリヤー移送層は、効果的に電荷キャリヤーを移
送することのできる任意の適当な物質からなり得る。こ
の層は一般に約５ミフロン〜約５０ミクロンの範囲の厚
さを有する。約２０マイクロメーターの厚さが好ましい
、即ち、そのような層厚は低い可動性のキャリヤー移送
分子を有するより薄い層よりもより効果的で耐摩耗性で
ある。

特に好ましい実施態様においては、移送層は高絶縁性で
透明な有機樹脂バインダー中に分散させた次式のジアミ
ン分子からなる： 〔式中、Ｘは（オルソ）　Ｃ１１３、（メタ）　ＣＨ３
、（バラ）Ｃ１１３、（オルソ）Ｃｌ、（メタ）　ｃｅ
。

（パラ）Ｃ１を含むアルキルまたはハロゲンからなる群
より選ばれる。） 少なくとも１０１２オー１、−ロの抵抗性を有して望ま
しくない暗減衰を防止する高絶縁性樹脂は光励起層から
の正孔の注入を必ずしも支持し得すまたこれら正札の移
送を単独では行い得ない材料である。しかしながら、樹
脂は約Ｉ０〜７５重量％の上記式に相当する置換ジアミ
ンを含むとき電気的に活性となる。

上記式に相当する化合物には、例えば、Ｎ、Ｎ’−ジフ
ェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（アルキルフェニル）−（１，
１−ビフェニル）−４，４’−ジアミン（式中、アルキ
ルは、２−メチル、３−メチルおよび４−メチルのよう
なメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル等から
なる群から選ばれる）がある。塩素置換物には、Ｎ、Ｎ
’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（クロロフェニル）−
（１，１’−ビフェニル）−４，４’−ジアミンであり
、その塩素原子は２−クロロ、３−クロロまたは４−ク
ロロである。

電気的に不活性な樹脂中に分散させて正孔を移送する層
を形成させることのできる他の電気的に活性な小分子に
は、例えば、ビス（４−ジエチルアミン−２−メチルフ
ェニル）フェニルメタン；４’、４’−ビス（ジエチル
アミノ）−２’、２”−ジメチルトリフェニルメタン；
ビス−４−（ジエチルアミノフェニル）フェニルメタン
：および４．４′−ビス（ジエチルアミノ）−２，２’
−ジメチルトリフェニルメタンがある。本発明の目的が
達成される限りにおいては、他の適当な電荷　　　゛キ
ャリヤー移送分子も移送層に用い得る。

高絶縁性で透明な樹脂材料即ち不活性バインダー樹脂材
料の例には米国特許第３，１２１，００６号に記載され
たものがあり、その記載は参考として本明細書にすべて
引用する。有機樹脂材料にはポリカーボネート、アクリ
レートポリマー、ビニルポリマー、セルロースポリマー
、ポリエステル、ポリシロキサン、ポリアミド、ポリウ
レタン、エポキシ、およびこれらポリマーのブロック、
ランダムまたは交互コポリマーがある。好ましい電気的
に不活性なバインダー材料は約２０，０００〜約Ｉ００
．０００の分子量（ＭＷ　”）特に好ましいのは約５０
，０００〜約ｔ　ｏ　ｏ、ｏ　ｏ　ｏの範囲の分子量を
有するポリカーボネート樹脂である。一般に、樹脂バイ
ンダーは移送層の全重量基準で約３５〜５０重量％好ま
しいのは約３５〜５０重量％の活性移送物質を含んでい
る。

また、本発明の範囲内には、本発明の混合スクアライン
からなる感光性装置による像形成方法が包含される。こ
れらの像形成方法は一般に像形成部材上での静電潜像の
形成、この潜像のトナー組成物による現像、適当な受入
部材への像の転写、続いて、該受入部材へ像を永久的に
定着させることを含む。静電潜像は任意の適当な方法に
より、例えば、均一に静帯電せしめ次いで活性化照射に
露出させることにより形成できる。活性化照射への露出
は通常の広スペクトル白色光源を用いる光／レンズ装置
によりあるいはレーザーまたは像形成バーのような他の
手段により行うことができる。

後の２つの実施態様においては、その感光性装置は赤外
線に感応性である。

以下、本発明をその特定の好ましい実施態様に関して詳
細に説明するが、これらの実施例は単に例示のみを目的
とすることを理解されたい。本発明はこれら実施例で示
した材料、条件およびプロセスパラメーターに限定する
ものではない。すべての部およびパーセントは特に断わ
らない限り重量による。

叱１ 第１表に示されるモル％のフッ素添加物を有する数種の
混合スクアライン化合物を次の方法で調製した： ディーンスタークトランプ、還流コンデンサー、圧力平
衡化添加ロート、アルゴン排出チューブおよび磁力撹拌
棒とを備えたｌＮの４つ日丸底フラスコにスクアリン酸
（１１，４ｇ、０．１モル）およびｌ−ヘプタノール（
４００ｍ／）とを装入した。

添加ロートをＮ、Ｎ−ジメチル−ｍ−１−ルイジン（０
，２モル）とＮ、Ｎ−ジメチル−３−フルオロアニリン
添加物（ｎモル）とで満した。系を密封しメカニカルポ
ンプで４０トールに；威圧した。反応器内の圧力が平衡
に達したとき、反応器を加熱用マントルで加熱し約Ｉ０
分間還流させた（１０３℃）。正確に１５分間還流させ
たのら、上記アミンを１度に加えた。溶液はアミン添加
の５分以内で透明から緑色に変化した。還流を５．５時
間続け、約３　ｍ　ｌの水がディーンスタークトラソプ
に集まったとき、反応を停止させた。得られた生成物結
品を１０鰭のミリポア（Ｍｉｌｌｉｐｏｒｅ　、登録商
標）　。

フィルターで集め、２Ｘ２５０ｍｌの酢酸エチルで２回
スラリー化した。収率および特性付データは表１表に示
す。

第１表 １　５３％　０　　０　０ １１５７％　０．０１　　５　　０．０８４ＩＩＩ　　
　６０％　０．０２　　１０　　０．１９ＩＶ　　　５
８％　０．０５　　２５　　０．３９Ｖ　　　５８％　
０．１　　５０　　０．６８Ｖｌ　　　６２％　０．１
３２　６６　　１．１９■　　５９％　０．２　　　ｔ
ｏｏ　　　１．２６＊燃焼分析により測定したフッ素の
割合（％）さらに、化合物ｌ、■および■の割合（％）
を次に示す。

爽ｍｌの％　　■の％　　■の％ Ｉ　　　　　　　１００　　　　　　０　　　　　　０
１　　　　　　　９Ｂ、５　　　　　１．４３　　　０
．０７Ｉｎ　　　　　　　　９６．１　　　　　３．５
　　　　０．４０Ｉｔ／　　　　　　　　９２．３　　
　　　６．９　　　　０．８０Ｖ　　　　　　　　８７
．１　　　　　１１．５　　　　１．４Ｖｌ　　　　　
　　　７９．２　　　　１Ｂ、６　　　　２．２■　　
　　　　　７Ｂ、２　　　　１９．４　　　　２．４実
施例■〜ＸＶＩＩＩ 反応機構Ｈに従って、第２表に示すように各反応物の比
を変化させて数種の混合スクアライン化合物製品を調製
した。これらの調製は次の方法で行った： ディーンスクークトランプ、還流コンデンサー、圧力平
衡化添加ロート、アルゴン排出チューブおよび磁力撹拌
棒とを備えたｌｌの４つ目丸底フラスコにスクアリン酸
（１１，４ｇ、０．１モル）と１−ヘプタノール（４０
０ｍｌ）とを入れた。添加ロートにＮ、Ｎ−ジメチル−
ｍ−トルイジン（Ｘモル）とＮ、Ｎ−ジメチル−３−フ
ルオロアニリン（１モル）とを入れた。反応系を密封し
メカニカルポンプで４０トールに減圧した。反応器の内
圧が平衡に達したとき、反応器を加熱用マントルで加熱
し約Ｉ０分間還流させた（１０３℃）。

１５分の還流後、上記アミンを１度で加えた。溶液はア
ミン添加の５分以内に透明から緑色に変化した。還流を
５．５時間続け、その特約３　ｍ　１２の水がディーン
スタークトラップに集った。反応を停止させ悶生成物結
晶を１０ミクロンミリポアフィルタ−上に集め次いで２
Ｘ２５０ｍ６の酢酸エチルで２回スラリー化した。収率
および特性付データを第２表に示す。これらサンプルの
Ｘ線粉末パターンはフッ素の割合が５．１３であるとき
でさえもビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニ
ル）スクアラインのＸ’Ｓ粉末パターンとすべて同一で
あった。

Ｈｍｒ（ＣＤＣ７！３）：　　２．９　２　　（ｓ　、
　　６１１．　　八ｒＣｔｈ　　　Ｉ　　）　　２．９
４（ｓ、３Ｈ＋　　＾ｒｃＩ１３　　ＩＩ）　　、　　
３．１６　　（Ｓ、６Ｈ１ＮＣＩＩ３　　ＩＩ）　　。

３．１　７　　（ｓ、　　１　２１１．　　ＮＣｌｌ３
１）　　、　　３．２０　　（Ｓ。

１２Ｈ，ＮＣＨ３ｎｌ）、　　３．２１　　（ｓ、　　
６８　　ＮＣＨｚ　　Ｕ）　　。

６．０−９．５　（ｍ、芳香族プロトン）。

化合物Ｉ、■および■の割合（％）は次のとおりである
。

実施例陽、　　■の％　　■の％　　■の％■　　　　
　０　　　　０　　　１００ＩＸ　　　　　４１．３６
　　５２．２０　　　６．４４Ｘ　　　　　５４．７７
　　４０．８　　　４．４３ＸＩ　　　　　７１．１２
　　２５．８　　　３．０８χＩＩ　　　　　７４．６
７　　２２．７１　　　２．６２ＸＩ１１　　　７９．
１　　　１Ｂ、７　　　２．２０ＸＩＶ　　　　　８３
．６Ｂ　　　１４．５　　　１．８８ＸＶ　　　　　８
４．７９　　１３．６　　　１．６１ＸＶＩ　　　　　
９０．５８　　　８．４　　　１．０２ＸＶ　ＩＩ　　
　　９５．９９　　　３．６　　　０．４１ＸＶＩ　　
　　Ｚｏｏ　　　　　ＯＱ ス羞港■伏 次に、感光性像形成部材を上記の混合スクアライン化合
物の各々により調製した。これらの部材はアルミニウム
処理マイラーの支持基体、厚さ８０オングストロームの
シランブロッキング層、デュポン４９，０００として商
業的に人手可能な接着剤による０、　１ミクロンの１７
さの接着層、７０重量％のポリエステル樹脂バインダー
中に分散させた３０重量％の本発明により調製した混合
スクアライン化合物からなり厚さ０．７ミクロンの光導
電性層、およびトップ層としての６０重量％のポリカー
ボネート樹脂バインダー中に分１１Ｊｉさせた電荷移送
分子Ｎ、Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’、−ビス（３−メ
チルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４′−ジ
アミンからなる厚さ１５ミクロンの電荷移送層とを含ん
でいた。

さらに詳しくは、怒光性装置は薄い（８０オングストロ
ーム）のシラン電荷ブロッキング層および０．１ミクロ
ンのデュポン４９．０００ポリ工ステル接着層をオーバ
ーコーテイングした厚さ３ミルのアルミニウム処理マイ
ラー基体を調製することにより作製した。３０重量％の
実施例１−ＸＶＩＩＩにより合成したスクアラインを含
む光導電性層は次のようにして調製した。

別々の２オンスこはくビンに、０．３０　ｇの各々のス
クアライン、即ち、実施例■〜ｘｖ■により調製した各
スクアライン、０．７０ｇのバイチルＰＥ−２００（Ｖ
ｉｔｅｌＰＥ−２００、グツドイヤ社から入手できるポ
リエステル）、７０ｇのｌ／８＃（３，１７５順）のス
テンレススチール球おヨヒ１９、０　ｇの塩化メチレン
とを一緒に混合した。混合物をボールミルで２４時間処
理した。得られたスラリーを次いでマルチプルクリアラ
ンスフィルムアプリケーターで基体上に１ミルの湿潤厚
にコーティングした。この層を５分間空乾せしめた。

得られた装置を強制送風炉中で８０℃で１５分間乾燥さ
せた。得られたスクアライン層の乾燥厚は０．７ミクロ
ンであった。

６５重量％のメルロン３９　（Ｍｅｒｌｏｎ　３９）ポ
リカーボネートからなる移送層温液を３５重量％のＮ、
Ｎ’−ジフェニル−Ｎ、Ｎ’−ビス（３−メチルフェニ
ル）−１，１’−ビフェニル−４゜４′−ジアミンと混
合した。この溶液を塩化メチレン中で９重量％に混合し
た。これらの成分すべてをこはくビンに入れ溶解させた
。混合物を８ミルの湿潤空隙厚さのマルチプルクリアラ
ンスフィルムアプリケーターを用いて上記光励起層上に
１５ミクロンの乾燥厚にコーティングした。次いで、得
られた装置を室温で２０分間続いて強制送風炉で８０℃
、１時間乾燥させた。

感光体像形成装置が実用的であるためには、装置が良好
な使用回数性能即ち複写工程の繰返しの荷電／露出／抹
消段階中に安定な電気的特性を示すべきである。実施例
Ｘｌｌで得られたスクアラインを含む装置は一般に良好
な短時間使用回数性を示す。例えば、１０００サイクル
後で、電荷アクセプタンスの変化は１００ボルト以下で
あり、暗減衰の最小の増加があり、また抹消後の表面電
位（残存電位）は低い（５０ボルト以下）ま＼である。

従って、現像のための良好なコントラスト電位をかかる
感光体装置の繰返し使用中維持できる。

同様な結果は本発明の他の像形成部材でも観察できる。

合成反応への少量のＮ、Ｎ−ジメチル−３−フルオロア
ニリンの添加は感光性を実質的に向上させるが、暗減衰
は低いまへである。供給比（Ｘ／ｙ）が０／１００と２
５／７５である実施例■と■においてのみ、暗減衰がこ
れら装置が帯電できず、かくして像を得るのに使用でき
ない程度に増大している。

第１図は実施例■〜■のスクアライン混合物（第１表参
照）の反応混合物へＮ、Ｎ−ジメチル−３−フルオロア
ニリンを添加したときの感光性の効果を説明する線グラ
フである。このグラフはＥｌ／□で示す放電数に対する
反応混合物に添加したアニリンのモル％をプロットした
ものである。

エルグ／　ｃＪでの放電数Ｅ＋ｚｚは感光体を横切る電
圧をその当初値の半分に減少させるのに必要な光エネル
ギーを意味する。例えば１００以下の低い値は極めて感
応性のある感光体を示す。例として、実施例■のスクア
ライン混合物は５０モル％の３−フルオロアニリンを反
応混合物に添加して調製した。得られた混合物を光励起
性化合物として実施例ＸＩＸに記載された手順によって
１つの装置に使用した場合、その放電数は１２エルグ／
　ｃｎｌであった。

第２図では、実施例Ｘ−ＸＶ■　（第２表参照）の装置
の感光性Ｅ１７２および暗減衰についての分析したフッ
素含有量の効果を示している。例えば、実施例Ｘｌｌの
スクアライン混合物は５５／４５のｘ／ｙ比を用いて調
製した。実施例Ｘｌｌの生成物の分析したフッ素含有量
は１．４６％であった（第２表）。この混合物を実施例
ＸＩＸに示された装置に用いたとき、その放電数は約７
．５エルグ／　ｃａｌであり（第２図点線参照）、約３
８ボルト／秒の暗減衰を有していた（第２図実線参照）
。即ち、第２図は各種混合物の放電数と暗減衰値が実施
例■〜ＸＶＩＩＩのスクアライン混合物の各成分のパー
セン゛トの関数としてどのように変化するかを示してい
る。

使用できる共沸物質の例は前述した米国特許出願に記載
されており、ヘンゼンおよびトルエンがある。

本発明の他の変形は本明細書の記載に基づいて当業者に
とって容易になし得るものであり、これらの変形は本発
明の範囲に属するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図は実施例■〜■のスクアライン混合物における反
応混合物へのＮ、Ｎ−ジメチル−３−フルオロアニリン
の協力■による感光性の効果を示すグラフである。 第２図は、実施例Ｘ−ＸＶＩＩのスクアライン混合物を
用いた装置の感光性Ｅｌ／□および暗減衰についての分
１バしたフッ素含有量の効果を示すグラフである。 ０　　　２０　　　４０　　　６０　　　　Ｂ０１０Ｇ
７！メ１に加えたＮ、Ｎ−７メタルー３−フルオロ１シ
ソンシ惑ル（勾ＦＩＧ、／

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. （１）スクアリン酸、芳香族アミンおよびフルオロアニ
   リンとを、脂肪族アルコールおよび任意成分としての共
   沸物質の存在下に反応させることからなるスクアライン
   化合物の調製方法。
2. （２）反応を約５０℃〜約１３０℃の温度で行う特許請
   求の範囲第（１）項記載の方法。
3. （３）芳香族アミンがＮ，Ｎ−ジアルキル−ｍ−トルイ
   ジンである特許請求の範囲第（１）項記載の方法。
4. （４）芳香族アミンがＮ，Ｎ−ジメチル−ｍ−トルイジ
   ンである特許請求の範囲第（１）項記載の方法。
5. （５）芳香族アミンがＮ，Ｎ′−ジブチル−ｍ−トルイ
   ジンである特許請求の範囲第（１）項記載の方法。
6. （６）フルオロアニリンがＮ，Ｎ′−ジメチル−３−フ
   ルオロアニリンである特許請求の範囲第（１）項記載の
   方法。
7. （７）フルオロアニリンがＮ，Ｎ′−ジエチル−３−フ
   ルオロアニリンである特許請求の範囲第（１）項記載の
   方法。
8. （８）脂肪族アルコールが約１〜８個の炭素原子を含む
   特許請求の範囲第（１）項記載の方法。
9. （９）脂肪族アルコールがブタノールまたはヘプタノー
   ルである特許請求の範囲第（１）項記載の方法。
10. （１０）脂肪族アルコールの存在下に、次式：▲数式、
    化学式、表等があります▼＋▲数式、化学式、表等があ
    ります▼＋▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｎは０〜２の数である） のスクアリン酸、芳香族アミンおよびフルオロアニリン
    とを反応させることからなるスクアライン化合物の調製
    方法。
11. （１１）フルオロアニリンがＮ，Ｎ−ジメチル−３−フ
    ルオロアニリンであり、芳香族アミンがＮ，Ｎ−ジメチ
    ル−ｍ−トルイジンである特許請求の範囲第（１０）項
    記載の方法。
12. （１２）生成物としてＮ，Ｎ−ジメチル−３−フルオロ
    アニリンスクアラインでドーピングされたビス（４−Ｎ
    ，Ｎ−ジメチル−２−メチルフェニル）スクアラインを
    得る特許請求の範囲第（１０）項記載の方法。
13. （１３）成分 I 、IIおよびIIIからなる混合スクアライ
    ン化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼
14. （１４）各成分が I ９８．５０、II１．４３、III０．
    ０７〜約 I ４１．３６、II５２．２０、III６．４４の
    割合で存在する特許請求の範囲第（１３）項記載の化合
    物。
15. （１５）各成分が I ７４．６７、II２２．７１、III２
    ．６２の割合で存在する特許請求の範囲第（１３）項記
    載の化合物。
16. （１６）得られる混合物が青色波長領域で増大したスペ
    クトル応答を有する特許請求の範囲第（１４）項記載の
    化合物。
17. （１７）得られる混合化合物が感光性像形成部材に合体
    させたとき優れた複写回数特性を有する特許請求の範囲
    第（１４）項記載の化合物。
18. （１８）脂肪族アルコールの存在下に、次式：▲数式、
    化学式、表等があります▼＋▲数式、化学式、表等があ
    ります▼＋▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、ｘのｙに対する比は約１０〜約０．３３３であ
    る） のスクアリン酸、芳香族アミンおよびフルオロアニリン
    とを反応させることからなるスクアライン化合物の調製
    方法。
19. （１９）支持基体、光励起顔料としての特許請求の範囲
    第（１３）項のスクアライン化合物およびこれに接触し
    ているアリールアミン正孔移送層とからなる像形成部材
    。
20. （２０）各成分が I ９８．５０、II１．４３、III０．
    ０７〜約 I ４１．３６、II５２．２０、III６．４４の
    割合で存在する特許請求の範囲第（１９）項記載の像形
    成部材。
21. （２１）アリールアミンがＮ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ、
    Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）１，１′−ビスフェ
    ニル−４，４′−ジアミンである特許請求の範囲第（１
    ９）項記載の像形成部材。
22. （２２）正孔移送層が支持基体と光導電性層の間にある
    特許請求の範囲第（１９）項記載の像形成部材。
23. （２３）さらに、接着層とシランフラッシング層とを含
    む特許請求の範囲第（１９）項記載の像形成部材。