JPS618725A - 磁気デイスクとその製造方法 - Google Patents

磁気デイスクとその製造方法

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JPS618725A
JPS618725A JP12753184A JP12753184A JPS618725A JP S618725 A JPS618725 A JP S618725A JP 12753184 A JP12753184 A JP 12753184A JP 12753184 A JP12753184 A JP 12753184A JP S618725 A JPS618725 A JP S618725A
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JP
Japan
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disk
magnetic
base
magnetic disk
base disk
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Application number
JP12753184A
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English (en)
Inventor
Yoshihisa Suzuki
喜久 鈴木
Katsuo Abe
勝男 阿部
Masaaki Imamura
今村 昌明
Sadakuni Nagaike
長池 完訓
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、磁気ディスクとその製造方法に係シ、特に高
密度磁気記録に好適な磁気ディスクと、この磁気ディス
クの製造方法に関する。
〔発明の背景〕
電子計算機の記憶装置として、たとえば、第1図に示す
ような磁気ディスク装置がある。
すなわち、基台1に回転自在に支持された軸2に、多数
の磁気ディスク3を取シ付け、駆動手段4によって磁気
ディスク3を高速で回転させると共に、前記基台1に摺
動可能に支持されたキャリッジ5に、ジンバル6を介し
て支持された磁気ヘッド7を、磁気ディスク30半径方
向に移動させ、図示を省略した電子計算機本体からの指
令によって、所定の位置の記録を読み出したシ、所定の
位置に記録を書き込むようになっている。そして、前記
磁気ディスク3は、従来、第2図に示すごとく、アルミ
ニウムのように非磁性材料から成るベース円板11の表
裏面に、バインダと磁性材料の微粉末を混合した磁性膜
12を塗布して形成されていた。
このような磁気ディスク装置においては、通常磁気ディ
スク3の高速回転によって発生する表面気流によって、
磁気ディスク3と磁気ヘッド70間に微小な間隙が形成
されるようになっている。
この間隙をスペーシングと称している。
しかし、何らかの原因によシ、磁気ディスク3に磁気ヘ
ッド7が接触することが起こる。この頻度が多くなった
ような場合に、磁気ディスク3の磁性膜12が剥離する
ような、摺動事故が発生する。
この事故は、磁気ディスクに書き込まれた情報がなくな
るため、極めて重大な事故である。このような事故をな
くすため、従来は、磁性膜ルの組成として磁性材料とバ
インダだけでなく、フィラーと称する、アルミナの微粒
子を混合していた。このアルミナの微粒子が柱となって
、磁気ディスク3と磁気ヘッド7の直接の接触を防止す
る効果があり、磁性膜12が剥離する事故が防止されて
いた。
しかし、高密度記録においては、このように混合された
磁性塗料を塗布して磁性膜12をつくるのではなく、ス
パッタ法で、直接ベース円板11に磁性層を薄く付着し
たものの方が、良好な電磁気特性が得られるため、その
方向で試作が続けられている。ただ、このようなスパッ
タ法では、アルミナ・フィラーを混合させることができ
ず、このため摺動強度が弱く、実用性がなかった。
なお、磁気ディスク3と磁気ヘッド7は、前記したよう
に、空気流により浮上しているが、高密度記録に応じて
、この浮上量は小さくする必要がある。一方、浮上量が
小さいと摺動事故を起こす確率が高くなるので、適切な
浮上量を設定している。この値を所要スペーシングと称
している。
ところで1%開昭58−3147号公報に、塗膜型磁気
ディスクの製造方法が開示されている。しかし、この公
報に開示されている技術では、ベース円板に形成すべ゛
き突起の材質につき、硬さ、熱伝導、化学的性質などの
要件について考慮が払われていない。また、前記公報に
開示されている技術では、突起を所要高さに形成するこ
とができない。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、前記従来技術では未解決の課題を解決
し、高密度記録に適し、しかも摺動強度の大きい磁気デ
ィスクを提供するにあシ、他の目的は前記磁気ディスク
を確実に製造し得る製造方法を提供するにある。
〔発明の概要〕
本発明磁気ディスクは、所要スペーシング以下の高さの
、硬度7以上で、熱伝導度0.2カロリ/糎秒・度板上
で、融点が800℃以上で、かつベース円板素材と化学
反応を起こさない物質の微小な柱、すなわち突起をたて
たベース円板に、磁性層を付着させたところに特徴を有
する。仁のように。
ベース円板に特定の硬度、熱伝導度および融点以上の物
質の突起を設けているので、摺動強度を著しく大きくす
ることができる。さらに、前記物質の突起を所要スペー
シング以下の高さに形成しているので、磁気ディスクと
磁気ヘッドとの直接的な接触を回避でき、磁性層の剥離
を防止し得るので、高密度記録が可能である。
また、本発明製造方法は、ベース円板素材と、硬度7以
上で、熱伝導度0.2カロリ/糎・秒・度板上で、融点
が800℃以上で、かつ前記ベース円板素材と化学反応
を起こさない微小な物質とを混合溶解し、ついで圧延・
成形・切削・研磨して所要スペーシング以下の厚さのベ
ース円板を製作し、ついでこのベース円板にエツチング
を施して前記物質の、所要スペーシング以下の突起を設
けたベース円板を製作し、さらに前記突起を設けたべ一
ス円板に磁性層を付着するようにしたところに特徴を有
するもので、この構成により、前記磁気ディスクを確実
に製造することができる。
〔発明の実施例〕
以下、本発明の一実施例を図面によシ説明する。
第3図は本発明磁気ディスクの製造方法の一実施例のフ
ローチャートを示し、第4図は製品とし−ての磁気ディ
スクの一部を顕微鏡的に拡大して示す。
その第3図において、まず0.3ないし2μmの粒径の
カーボランダム粒子21とアルミニウム素材22を用意
し、第1の工程路でこれらを混合溶解する。ここで、ア
ルミニウム素材22が溶け、カーボランダム粒子21が
溶けない温度で溶解し、カーボランダム粒子21が均一
に分布するように、良く攪拌し、1立方糎当たり100
0ないし100000個の分布とする。
つぎに、第2の工程Uで、圧延・成型・切削・研磨を行
って、表面性の良い、すなわち表面の凹凸が最大値でも
0.05μm以下のアルミニウム円板25を製作する。
つぎに、第3の工程26で、アルミニウム円板25の表
面を薬品またはスパッタによシ、アルミニウムだけを磁
性層付着の寸法において所要スペシング以下のエツチン
グを行い、所要スペーシング以下のカーボランダム粒子
の突起を有するベース円板nを製作する。
前記第2.第3の工程24.26により、カーボランダ
ム粒子の突起の先端を、すべて同じ高さにすることがで
きる。
なお、前記第3の工程26で使用するエツチング用の薬
品には、−例としてつぎのようなものが用いられる。
赤血塩  300P 苛性カリ     20J’ 水         1に 前記エツチング終了後、水やアルコールにより、良く洗
滌し、乾燥する。
ついで、前記ベース円板27に第4の工程囚により、磁
性層を付着する。この第4の工程路は、従来と同様なコ
ーティングでも、スパッタでも良い。
前記スパッタは、高密度記録用に適している。
このスパッタによシ磁性層を付着する場合には、その厚
さを02μm以下にすることができる。
また、磁性層をコーティングする場合には、その厚さが
厚いので、コーテイング後に研磨工程を入れて、カーボ
ランダム粒子の上に付着している磁性層を除去し、最終
的にカーボランダム粒子の磁性層表面からの突起高さを
所要スペーシング以下になるようにしなければならない
なお、カーボランダム粒子上に付着した磁性層は、使用
中、磁気ヘッド7との接触によシ、剥離することがある
が、この部分の面積は非常に小さく、ディジタルな記録
に使用されている磁気ディスク装置としては、障害とは
ならない。
つぎに、第5の工程器で、磁性層を付着したベース円板
ηに、磁気ヘッドとの接触による衝撃力と発熱を緩和す
るための潤滑剤を塗布し、第4図に示す製品としての磁
気ディスク別を完成する。
前記工程を経て製作された磁気ディスク(資)は、アル
ミニウム製のベース円板270表面に、0.3ないし2
μmの粒径のカーボランダム粒子の突起31が均一に分
布され、かつ所要スペーシング以下の高さに形成されて
おシ、その表面に磁性層32が付着された構造とされて
いる。したがって、この磁気ディスク□□□を使用した
時は、ベース円板27上にカーボランダム粒子の突起3
1を有しているので、摺動強度を著しく大きくすること
ができる。しかも、カーボランダム粒子の突起31を所
要スペーシング以下の高さに揃えているので、磁気ディ
スク30と磁気ヘッド(図示せず)との直接の接触を回
避でき、磁性層32の剥離を防止できる結果、高密度記
録が可能となる。
なお、本発明では突起を形成するだめの物質は、実施例
に示すカーボランダム粒子に限らず、要は硬度7以上、
熱伝導度0.2力ロリ/糎・秒・度以上、融点800″
C以上でベース円板素材と化学的反応を起こさない物質
であれば良い。
また、ベース円板素材もアルミニウムに限らず、この種
ベース円板素材として適するものであれば良い。
〔発明の効果〕
以上説明した本発明磁気ディスクによれば〜ベース円板
上に、硬度7以上、熱伝導度02カロリ/糎・秒・度板
上、融点800″C以上で、かつベース円板素材と化学
反応を起こさない物質の突起を有しているので、摺動強
度を著しく大きくなし得る効果がある。
また、本発明磁気ディスクによれば、前記突起を所要ス
ペーシング以下の高さに揃えているので、この突起を介
して磁気ヘッドとの直接の接触を回避できる結果、磁性
層の剥離を防止し得るので、高密度記録に好適なる効果
がある。
゛ さらに、本発明方法によれば、ベース円板素材と、
硬度7以上で、熱伝導度02カロIJ、4・秒・度板上
で、融点が800℃以上で、かつ前記ベース円板素材と
化学反応を起こさない微小な物質とを混合溶解し、つい
で圧延・成型・切削・研磨して所要スペーシング以下の
厚さのベース円板を製作し、ついでこのベース円板にエ
ツチングを施して前記物質の、所要スペーシング以下の
突起を設けたベース円板を製作し、さらに前記突起を設
けたベース円板に磁性層を付着するようにしているので
、前記本発明磁気ディスクを確実に製造し7得る効果が
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は磁気ディスク装置の概要を示す図、第2図は従
来の磁気ディスクの断面図、第3図は本発明磁気ディス
クの製造方法の一例を示すフローチャート、第4図は本
発明磁気ディスクの一実施例の一部拡大断面図である。 21・・・カーボランダム粒子、22・・・アルミニウ
ム粉末、23.24・・・磁気ディスクを製造する第1
.第2の工程s 25・・・エツチング前のアルミニウ
ム円板、26・・・磁気ディスクを製造する第3の工程
、27・・・エツチングされたベース円板、28.29
・・・磁気ディスクを製造する第4.第5の工程、30
・・・製品としての磁気ディスク、31・・・ベース円
板上に設けられた突起、32・・・磁性層。 第 l [゛( 2;:’r  2 F’“1 第 3 回 *g46 手続補正書(帥) 昭和60年3月14日

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、所要スペーシング以下の高さの、硬度7以上で、熱
    伝導度0.2カロリ/糎・秒・度以上で、融点が800
    ℃以上で、かつベース円板素材と化学反応を起こさない
    物質の微小な突起を設けたベース円板に、磁性層を付着
    させたことを特徴とする磁気デイスク。 2、特許請求の範囲第1項において、前記硬度7以上で
    、熱伝導度0.2カロリ/糎・秒・度以上で、融点が8
    00℃以上で、かつベース円板素材と化学反応を起こさ
    ない物質は、カーボランダム粒子であることを特徴とす
    る磁気デイスク。 3、特許請求の範囲第2項において、前記カーボランダ
    ム粒子は、0.3ないし2μmの粒径であることを特徴
    とする磁気デイスク。 4、特許請求の範囲第1項において、前記ベース円板素
    材は、アルミニウム粉末であることを特徴とする磁気デ
    イスク。 5、ベース円板素材と、硬度7以上で、熱伝導度0.2
    カロリ/糎・秒・度以上で、融点が800℃以上で、か
    つベース円板素材と化学反応を起こさない微小な物質と
    を混合溶解し、ついで圧延・成型・切削・研磨して所要
    スペーシング以下の厚さのベース円板を製作し、ついで
    このベース円板にエツチングを施して前記物質の、所要
    スペーシング以下の微小な突起を設けたベース円板を製
    作し、さらに前記微小な突起を設けたベース円板に磁性
    層を付着することを特徴とする磁気デイスクの製造方法
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