JPS6186933U - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6186933U JPS6186933U JP17209684U JP17209684U JPS6186933U JP S6186933 U JPS6186933 U JP S6186933U JP 17209684 U JP17209684 U JP 17209684U JP 17209684 U JP17209684 U JP 17209684U JP S6186933 U JPS6186933 U JP S6186933U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core tube
- electric furnace
- inlet
- heating
- opening
- Prior art date
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- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
Description
第１図は本考案の実施例を示す電気炉の構造説
明図、第２図は従来の電気炉の構造説明図である
。 １……電気炉、４……発熱体、５……カバー、
２０……半導体物品（例えば半導体ウエハ）、２
１……ボート、３０……ごみ、１０３……炉心管
、１０３ａ……開口部、１０３ｂ……ガス導入管
、１０３ｃ……ガス噴出口。
明図、第２図は従来の電気炉の構造説明図である
。 １……電気炉、４……発熱体、５……カバー、
２０……半導体物品（例えば半導体ウエハ）、２
１……ボート、３０……ごみ、１０３……炉心管
、１０３ａ……開口部、１０３ｂ……ガス導入管
、１０３ｃ……ガス噴出口。
Claims (1)
- 垂直に配置され上端に半導体物品挿入用の開口
部及び下端にガス導入用のガス導入口を有する筒
状の炉心音と、この炉心管内を加熱する発熱体と
を備えた電気炉において、前記ガス導入口は該炉
心管の内壁底面より上方に突出するノズル形状と
したことを特徴とする電気炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17209684U JPS6186933U (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17209684U JPS6186933U (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6186933U true JPS6186933U (ja) | 1986-06-07 |
Family
ID=30729772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17209684U Pending JPS6186933U (ja) | 1984-11-13 | 1984-11-13 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6186933U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56155635A (en) * | 1980-05-06 | 1981-12-01 | Toshiba Corp | Apparatus for oxide film growth in vacuum cvd process |
| JPS5878423A (ja) * | 1981-10-16 | 1983-05-12 | ヘルムト・ザイエル・ゲ−エムベ−ハ− | 半導体物品の熱処理方法及びその装置 |
-
1984
- 1984-11-13 JP JP17209684U patent/JPS6186933U/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56155635A (en) * | 1980-05-06 | 1981-12-01 | Toshiba Corp | Apparatus for oxide film growth in vacuum cvd process |
| JPS5878423A (ja) * | 1981-10-16 | 1983-05-12 | ヘルムト・ザイエル・ゲ−エムベ−ハ− | 半導体物品の熱処理方法及びその装置 |