JPS6183523A - ホログラフイツク光偏向器 - Google Patents

ホログラフイツク光偏向器

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JPS6183523A
JPS6183523A JP19204684A JP19204684A JPS6183523A JP S6183523 A JPS6183523 A JP S6183523A JP 19204684 A JP19204684 A JP 19204684A JP 19204684 A JP19204684 A JP 19204684A JP S6183523 A JPS6183523 A JP S6183523A
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JP
Japan
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fourier transform
light
pattern
random pattern
hologram
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JP19204684A
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English (en)
Inventor
Masahiro Aoki
雅弘 青木
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の技術分野] この発明は、レザープリンタ、バーコードリーダ、又は
、高密度光情報記録媒体からの情報の記録及び読み出し
に用いられるホログラフィック光偏向器に関する。
[従来技術] 光ビームを偏向走査させる光偏向器については、種々の
ものが提案され、その内のいくつかが実用化されている
。例えば、可動部を有する光偏向器として、レーザプリ
ンタでは、傾動されるガルバノミラ−或は、回転される
回転体多面鏡が又、バーコードリーダでは、回転される
ホログラム・ディスクが用いられ、高密度光情報記録媒
体からの情報の記録及び読み出しでは、ディスク状の記
録媒体が回転されて光ビームが偏向走査されている。
又、可動部を有さない光偏向器として電気光学効果を有
する結晶を利用したもの或は、超音波回折格子を利用し
たものが提案されて一部で実用可されている。
[従来技術の問題点] 可動部分が必要とされるガルバノミラ−或は、回転体多
面鏡等の従来の光偏向器は、安定性耐久性及びコストの
点で問題があり、システムのパフォーマンスを向上させ
る障害となっている。又、これらの光偏向機では、レー
ザビームの偏向方向が機械的可動部分の移動方向によっ
て限定され、任意の領域から情報を読み出すランダムア
クセスには適さないという問題もある。
又、可動部を有さない超音波回折格子を利用したもの等
の光偏向器では、高電圧スイッチングが要求されること
や変偏向点数が多くとれないこと等の多くの問題がある
近年プリンタ用空間光変調器としての液晶シャッタアレ
イ或は、発光ダイオードアレイの実用可の研究が進めら
れているが、大規模なアレイの製造技術の困難性があり
、小規模なものへの応用では分解能が十分でない問題が
ある。
[発明の目的] この発明の目的は、可動部を有さず二次元的なランダム
・アクセスが容易であり、偏向点数が大きく取れ、レザ
ープリンタ、バーコードリーダ、又は、高密度光情報記
録媒体からの情報の記録及び読み出し等に適用可能な光
偏向器を提供するにある。
C発明の概要コ この発明によれば、ランダム・パターンのフーリエ変換
ホログラムと、このランダム・パターン中の任意の部分
パターンを次々と発生し、この部分パターンの空間的光
振幅分布を有するコヒーレント光を発生する手段と、前
記ランダム・パターンと前記部分パターンとの相関強度
分布を前記コよって発生させる光学系とより成るホログ
ラフィック光偏向器が提供される。
又、この発明によれば、ランダム・パターンに対応した
位相変化を与えるランダム・パターンのフーリエ変換ホ
ログラムと、このランダム・パターン中の任意の部分パ
ターンを次々と発生し、この部分パターンの空間的位相
分布を有するコヒーレント光を発生する手段と、前記ラ
ンダム・パターンと前記部分パターンとの相関強度分布
を前記コーヒレント光と前記フーリエ変換ホログラムと
によって発生させる光学系とより成るホログラフィック
光偏向器が提供される。
従って、この発明によれば、可動部を有さず、二次元的
なランダム・アクセスが容易であり、偏向点数が大きく
取れる光偏向器が提供される。
[発明の実施例コ 第1図は、この発明の一実施例に係るホログラフィック
光偏向器が概略的に示されている。この発明の一実施例
に係るホログラフィック光偏向器では、ホログラフィッ
ク・マツチドフィルターと略同様の原理を利用して鋭い
ピークを有するビームスポットを走査面1上に形成すべ
くランダム・パターンをフーリエ変換して形成されたフ
ーリエ変換ホログラム3及びランダム・パターン中の部
分パターンを次々に派生する素子例えば、発光ダイオー
ドアレイ或は、液晶シャッタアレイ等の表示素子3が光
学系の光軸に沿って配置されている。
この表示素子3からランダムパターン中の部分パターン
を次々に発生させる為に表示素子3は、ランダム・パタ
ーンを記憶した画像メモリ 4に接続されたマイクロコ
ンピュータ5に接続され、このマイクロコンピュータ 
5は、走査面1上のアクセスすべき領域、換言すれば走
査すべき領域に応じて画像メモリ 4から部分パターン
を次々に読み出している。表示素子3上に表示された部
分パターンをコヒーレント光の空間強度分布に変換すべ
く、表示された部分パターンがコヒーレント・インコヒ
ーレント変換素子6上に結像されるように表示素子3及
びコヒーレント・インコヒーレント変換素子6間には、
結像レンズ7が配置され、部分パターンに関しての情報
を含むインコヒーレント光がこのインコヒーレント変換
素子6上に伝達される。コヒーレント・インコヒーレン
ト変換素子6は、例えば、ビスマス・シリコン・オキサ
イド(830)或は、光導電膜を有する液晶ライトバル
ブが使用される。このコヒーレント・インコヒーレント
変換素子6によって部分パターンに応じて空間的な光強
度変調を受けるコヒーレント光は、半導体レーザ装置等
のコヒーレント光源8から発生され、集光レンズ9によ
ってピンホール10に集光され、コリメータレンズ11
によって平行光束に変換され、偏光ビーム・スプリッタ
12によって偏光反射されてコヒーレント・インコヒー
レント変換素子6に導かれる。コヒーレント・インコヒ
ーレント変換素子6即ち、液晶ライトバルブでは、結像
された部分パターンの光強度に応じてその内の電界強度
分布が変化され、例えば、液晶中の結晶の配向が夫々変
化される。従って、偏向ビーム・スプリッタ 12から
反射されたコヒーレント光は、液晶ライトバルブ6の反
射膜で反射される際に、光強度変調を受け、部分パター
ンの光強度分布に比例した空間的光強度分布を有するコ
ーヒレント光に変換されて偏光ビーム・スプリッタ 1
2に戻される。戻されたコーヒレント光は、偏光面が回
転されていることからそのまま偏光ビーム・スプリッタ
 12を通過し、フーリエ変換レンズ13によってフー
リエ変換され、フーリエ変換ホログラム2に集光される
。従って、このホログラム2上において、フーリエ変換
され、ランダム・パターンとこのランダム・パターン中
から抜出されたフーリエ変換された任意の部分パターン
との相関強度分布を有するコーヒレント光に変換され、
この相関強度分布を有するコーヒレント光は、逆フーリ
エ変換レンズ14によって逆フーリエ変換されて走査面
1上に集光される。その結果、鋭いピークを有するビー
ムスポットが走査面1上の所望の領域に形成される。こ
こで、コヒーレント・インコヒーレント変換素子6及び
、フーリエ変換ホログラム2は、夫々フーリエ変換レン
ズ13の前側及び後側焦点面に配置され、又、走査面1
は、逆フーリエ変換レンズ14の後側焦点面に配置され
ている。
次に、フーリエ変換ホログラム2を作成する方法及び光
走査面1上に鋭いピークを有する光スポットが生じる原
理について説明する。
あるランダムパターンr(x、y)として第1図のよう
に(aox bo)の大きさを有するものが与えられ、
又任意の部分バターfi  (x、y )として(al
xbl)の大きさのものが次々と選定されたとする。こ
のランダム・パターンr(x、y)のフーリエ変換ホロ
グラム2は、例えば、第3図のような光学系で作成され
る。即ち、焦点距離fを有するフーリエ変換レンズL1
の前側焦点面にランダム・パターンr(x、y)が配置
され、フーリエ変換レンズL1の後側焦点面にフーリエ
変換ホログラム2を作成すべき写真乾板H・が配置され
、物体波1oが光軸に平行にランダム・パターンr(x
、y)介して写真乾板Hに照射されると共に参照波I「
が光軸に対して角度θの方向から写真乾板Hに照射され
てランダム・パターンr(x、y)のフーリエ変換ホロ
グラム2が作成される。ここで物体波IO及び参照波I
rは、いずれも平面波であって、ランダム・パターンr
(X、V)の最高空間周波数をWx、W yとすると、
必要とされるホログラム2の大きさくA hxB h)
は、下記式(+1.(2)で与えられる。
Ah≧(λ/2π)x2 WX ・・・◆(1)Bh≧
(λ/2π)×2Wy・・・・(zここでλは、ホログ
ラムの記録光の波長である。
又、ホログラム記録材料Hに要求される分解能W ma
xは、参照波1rが紙面に平行であるとすると下記式(
3)で表わされる。
W max≧(4/λf)bo−−−−=(3)ランダ
ム・パターンr(x、y)のフーリエ変換をR(Wx、
Wy )とし、参照波■r−6Jo)y。
(yo ”≧θ )とすると、フーリエ変換ホログラム
2の透過率は、下記式(4)で表わされる。
T (W) = l R+eJ”cVa  )2−1+
1R12+R″ewwL + R%””’・・・(4) 第1図で示される光学系においては、任意の部分バター
 N  (x、y )は、フーリエ変換レンズ13によ
ってフーリエ変換されて上記式(勾で規定される透過率
を有するフーリエ変換ホログラム2に照射され、フーリ
エ変換ホログラム2を透過されたレーザ光は、逆フーリ
エ変換レンズ14によって逆フーリエ変換されて走査面
1に集束される。
ここで、任意の部分バター fi  (x、y )のフ
ーリエ変換をF (Wx 、 Wy >と表わすと、逆
フーリエ変換レンズ14によって逆フーリエ変換された
レーザ光は、下記(5式で表わされる。
土rt’  cz、1)o  に C21−74−k。
)     −−−−<s)第4図は、走査面1をスク
リーンとした場合におけるこのスクリーン上の光強度分
布即ち、振幅分布を示しているが、(5)式の第1項に
相当する振幅分布が中心領域工に現れ、又、第2項に相
当するr(x、y)とR(Wx、Wy )との相関関数
である振幅分布が領域■に現れる共に第3項に相当する
振幅分布が領域■に現れる。ここで、領域■に現れる振
幅分布は、鋭いピークを有し、アクセス用のビームスポ
ットとなる。また、第3項は、r(x、y)とR(WX
、Wy)との畳み込み積分であり、いずれもランダムで
あるから、微少となる。
領域■及び領域■は、中心領域■の両側に生じ、参照波
Irの入射角θの絶対値が大きくなればなる程、両者の
領域は、離れ、中心領域■との重複部分を生じないよう
にすることができる。入射角θ−〇のとき、領域工、領
域■及び領域■は、中心部分に重なり、入射角θくOの
とき、領域■及び領域■の位置が入れ代ることとなる。
第1図のインコヒーレント・コヒーレント変換光学系の
原理的光学的配置が第5図に示されている。第5図では
、偏向ビームスプリッタ 12がポーラライザ16及び
アナライザ18に置換えられている。第5図に示される
光学系においては、コヒーレント光がポーラライザ16
に入射されて、その光学軸に沿ってコヒーレント光の振
動面が整えられて電気光学素子17に向けられる。この
電気光学素子17は、例えば、液晶ライトバルブと同様
な素子であってその表面上に任意の部分バター fi 
 (x、y )の像が結像されると、その部分バター 
fi  (X、/ )の光強度分布に応じて電界強度分
布を生じさせ、電気光学素子17を通過したコヒーレン
ト光に空間的に異なる位相遅れ分布を生じさせる素子で
ある。空間的に異なる位相遅れ分布が生じたコヒーレン
ト光は、ポーラライザ16の光学軸に直交する光学軸を
有するアナライザ18を通過して空間的な光強度分布が
生じ、フーリエ変換レンズ13に向けられる。空間的な
光強度分布が生じ又、空間的に異なる位相遅れ分布が生
じたコヒーレント光は、フーリエ変換レンズ13によっ
てフーリエ変換ホログラム2に集光されてフーリエ変換
されたランダム・パターンとこのランダム・パターン中
から抜出されたフーリエ変換された任意の部分パターン
との相関強度分布を有するコーヒレント光に変換され、
この相関強度分布を有するコーヒレント光は、逆フーリ
エ変換レンズ14によって逆フーリエ変換されて走査面
1上に集光される。その結果、第4図に示すような鋭い
ピークを有するビームスポットが走査面1上の所望の領
域に形成される。
第5図に示される光学系において、この光学系を通過し
たコヒーレント光に空間的に異なる位相遅れ分布が生じ
、空間的な光強度分布が生じることは、物理的には次の
ように説明される。即ち、結晶軸Qxがポーラライザ1
6の振動面即ち、偏光面に対して456の角度を成すよ
うに電気光学素子17が配置されているとすると、ポー
ラライザ16を通過し、電気光学素子17に向けられた
コヒーレント光Iiは、下記(0式で示され、電気光学
素子17のある領域から射出されるコヒーレント光IC
の結晶軸方向の成分は、(7)式で示すように振幅が減
衰され、位相がδだけ遅らされる。
1i=1xe−Φ−cosΦ−1sinΦ ・(6)・
・・(7) (7)式で示すコヒーレント光ICが更にポーラライザ
16の振動面に直交する振動面即ち、偏光面を有するア
ナライザ18を通過されると、(8)式に示されるよう
にその振幅も又位相遅れδに依存して振幅変調を受ける
こととなる。
(8)式から明らかなように第5図に示される光学系に
おいて、電気光学素子17のある領域を通過したコヒー
レント光は、結果として振幅がsinδ/2だけ位相振
幅変調を受け、位相がδ/2だけ遅らされることとなる
。電気光学素子17では、その表面上にに結像された任
意の部分バター fi(x、y)の象の光強度に応じて
領域毎に電界強度が生じ、結果として領域毎に位相遅れ
δが異ってしまう。従って、第5図に示される光学系で
は、任意の部分バター fi(x、y)の像光強度分布
に応じてコヒーレント光は、空間的な位相変調、並びに
振幅変調を受けることとなる。
上述した実施例においては、ランダム・パターンr(X
、V)は、振幅透過率分布で表し、任意の部分バター 
ri  (x、y )は、はとんど空間的な光強度分布
に変換されているが、このような場合には、第7図(a
)に示すように走査面1上のビームスポットは、鋭いピ
ークを有すると共にあるオフセット値を有してしまう。
ランダム・パターンr(x、y)が負の振幅透過率を有
する振幅透過率分布で表わせば、原理的には第7図(b
)に示すようにオフセット値が消滅した鋭いピークを有
するビームスポットを得ることができる。黙しながら、
現実には負の振幅透過率を有する振幅透過率分布は、実
現できない。ビームスポットが鋭いピークを有すると共
にあるオフセット値を有する場合には、読み出し専用の
偏向器として使用できるが、書込みに用いた場合には、
オフセット部分がカブリ光となってしまいS/N比が極
端に悪化してしまう。
このような問題に対処する為にこの発明の他の実施例に
おいては、ランダム・パターンr(x、y)が位相分布
でフーリエ変換ホログラム2上に表され、任意の部分バ
ター IN  (x、y )が空間的な位相分布に変換
される。このように位相分布で表わすことによって第7
図(b)に示すようにオフセット値が消滅した鋭いピー
クを有するビームスポットを得ることができる。即ち、
ランダム・パターンr(x、y)を位相分布でフーリエ
変換ホログラム2上に表すには、ランダム・パターンr
(x、V)のフーリエ変換像が焼付けられた写真乾板H
を漂白してランダム・パターンr(x、y)のフーリエ
変換像に応じた凹部を写真乾板上に形成すれば良いこと
となる。この発明のホログラフィック光偏向器の他の実
施例においては、この位相分布を有するフーリエ変換ホ
ログラム2が第1図と同様に配置され、又、原理的には
、第8図に示すようなコヒーレント・インコヒーレント
変換光学系が採用される。
第8図には、ポーラライザ16の振動面、電気光学素子
11の光学軸及びアナライザ18の振動面が互いに平行
に配列されている光学系が示されているが上述した説明
から明らかなようにこの様な光学系においては、コヒー
レント光は、空間的な位相変調のみを受けることとなる
。従って、第7図(b)に示すような鋭いピークを有す
るビームスポットを走査面1上の所望の領域に得ること
ができる。
第8図に示される光学系を実際の光学系に適用するには
、第1図に示される偏光ビームスプリッタ 12に代え
てハーフミラ−を採用し、適切にポーラライザ16及び
アナライザ18の両者又は、いずれかをコーヒレント光
の光路中に配置することによって実現される。
フーリエ変換ホログラムは、第3図に示すように光学的
方法によって作成される場合に限らず、計算機を用いて
描かれたホログラムであっても良い。計算機によってホ
ログラムを作成する場合には、実際には第(4式に示さ
れる透過率T (W>がプロットされるが、その際、第
1項及び2項の0次に関する項を省略した値を用いるこ
とにより参照光1rの入射角度θを(31式中の1/2
にまで減少させることができる。更に、実際の光学系で
は、不可能であるが計算機によれば可能な入射角度θを
0にした場合を考えると次のように(4式を単に次の通
りとすることができる。
(5)式に対応する逆フーリエ変換は、次式のように表
わされる。
T(W)−R(Wx、Wy)+R(Wx、Wy)−2R
eal R(Wx 、 Wy )   −(91逆フー
リエ変換は、上述した式から明らかなようにランダム・
パターンr(x、y)及び任意の部分バターN  (X
、V )の相関パターンとコンボリューション・パター
ンとの重ね合わせであるが、ランダム位相のコンボリュ
ーションは、はぼ零と考えることができることから、こ
の式は、ランダム・パターンr(x、y)と任意の部分
バター fi(x、y )の相関パターンであるとみな
してよいこととなる。
上述した実施例においては、フーリエ変換されたランダ
ム・パターンR(WX、WV )の位相分布は、0〜2
πの間でランダムに変化していると考えて良いが、マイ
クロコンピュータが取り扱う情報量を低減し、表示素子
が中間調のランダム・パターンを表示することを不要と
する為には、フーリエ変換されたランダム・パターンR
(WX、Wy)の位相分布は、0及び2πの2値のいず
れかを取ることが好ましい。
計算はによってホログラムを作成した場合には、十分な
偏光点数を得ることができることが例えば、次のように
確認されている。
ホログラム記録材料の分解能 ・・・1500本/ m
mインコヒーレント・ コヒーレント変換素子の分解能・・・100本/ mm
フーリエ変換レンズの焦点距離・・・300mmコーヒ
レコーヒレント光   ・・・0.6μmであるとすれ
ば、2値ランダム・パターンのサンプル点数は、100
本ll1mまで取れ、(3式におけるbOの最大は、2
70m1となる。(但し、入射角度θ−〇)ランダム・
パターンの1サンプル点は、相関ピークの1分解点と考
えられるから一次元方向の総偏向点数は、270 xl
oo −27,000点にもなる。
[発明の効果] 以上のようにこの発明によれば、可動部を有さす二次元
的なランダム・アクセスが容易であり、偏向点数が大き
く取れ、レザープリンタ、バーコードリーダ、又は、高
密度光情報記録媒1体からの情報の記録及び読み出し等
に適用可能な光偏向器が提供される。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例に係るホログラフィック
光偏向器を示す概略図、第2図は、ランダム・パターン
を示す平面図、第3図は、第2図ランダム・パターンか
ら形成されるホログラムを作成する為の光学系を示す斜
視図、第4図は、走査面上の光レベルを示すグラフ、第
5図は、第1図に示されたインコヒーレント・コヒーレ
ント変換光学系を示す概略図、第6図は、インコヒーレ
ント・コヒーレント変換光学系における空間的光変調を
説明する為の座標図、第7図(a)及び(b)は、ビー
ムスポットの相関強度を示すグラフ、及び第8図は、こ
の発明の他の実施例に係るホログラフィック光偏向器の
インコヒーレント・コヒーレント変換光学系を示す概略
図である。 1・・・走査面、2・・・ホログラム、3・・・表示素
子、4・・・画像メモリ、6・・・インコヒーレント・
コヒーレント変換素子、13・・・フーリエ変換レンズ
、14・・・逆フーリエ変換レンズ。 出願人代理人 弁理士 鈴江武彦 第2図 第3図 (a) 手続補正書 1f+R+ 表”IJ?’30[1 特許庁長官  宇 賀 道 部 殿 ■、事件の表示 待紬昭59−192046号 2、発明の名称 ホログラフィック光偏向器 36  補正をする者 事件との関係 特許出願人 名称(037)  オリンパス光”’iミニ−2、抹、
(イン?l。 4、代理人 7 補正の内容 fi+  明細書全文を別紙の通り訂正する(2)発明
の名称「ホログラフィック光偏向器」に訂正する。 (3)図面中筒2図を別紙のように訂正する。 明    細    書 1、発明の名称 ホログラフィック光偏向器 2、特許請求の範囲 1、 ランダム・パターンのフーリエ変換ホログラムと
、このランダム・パターン中の任意の部分・ぐターンを
次々と発生し、この部分/4’ターンの空間的光振幅分
布を有するコヒーレント光を発生する手段と、前記ラン
ダム・・4ターンと前記部分パターンとの相関強度分布
を前記コヒーレント光と前記フーリエ変換ホログラムと
によって発生させる光学系とより成ることを特徴とする
ホログラフィック光偏向器。 2、前記コヒーレント光を発生する手段は、任意の部分
パター/を次々と発生する手段と、及び、この部分・臂
ターンを部分・セターンの空間的光振幅分布を有するコ
ヒーレント光に変換する手段とから成ることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の゛ホログラフィック光偏
向器。 3、  前記ランダム・/4’ターンのフーリエ変換ホ
ログラムは、前記コヒーレント光に対してランダム・パ
ターンに対応した位相変化を与え、前記コヒーレント光
に変換する手段は、前記部分ノ臂ターンに対応した位相
変化を与えた空間的位相分布を有するコヒーレント光に
変換することを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の
ホログラフィック光偏向器。 43  前記ランダム・パターンのフーリエ変換ホログ
ラムは、0次の回折光が消去されるノ々ターンを有する
計算機ホログラムであることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のホログラフィック光偏向器。 5、 前記ランダム・パターンのフーリエ変換ホログラ
ムは、参照光と物体光との成す角が零であるとの条件で
作成された計算機ホログラムであること全特徴とする特
許請求の範囲第4項記載のホログラフィック光偏向器。 6、 ランダム・/4’ターンに対応した位相変化を与
えるランダム・t+ターンのフーリエ変換ホログラムと
、このう/ダム・・リーン中あ任意の部分・々ターンを
次々と発生し、この部分・!ターンの空間的光振分布金
有するコヒーVント光を発生する手段と、前記ランダム
・パターンと前記部分・臂ターンとの相関強度分布を前
記コヒーンント光と前記フーリエ変換ホログラムとによ
って発生させる光学系とより成ることを特徴とするホロ
グラフィック光偏向器。 3、発明の詳細な説明 〔発明の技術分野〕 この発明は、V−デグリンタ、バーコードリーグ、又は
、高密度光情報記録媒体からの情報の記録及び読み出し
に用いられるホログラフィック光偏向器に関する。 〔従来技術〕 光ビームを偏向走査させる光偏向器については、種々の
ものが提案され、その内のいくつかが実用化されている
。例えば、可動部を有する光偏向器として、V−デプリ
ンタでは、傾動されるがルバノミラー或は、回転される
回転体多面鏡が用いられ、又、バーコードリーグでは、
回転されるホログラム・ディスクが用いられ、高密度光
情報記録媒体からの情報の記録及び読み出しでは、ディ
スク状の記録媒体が回転されて光ビームが偏向走査され
ている。又、可動部金有さない光偏向器として電気光学
効果を有する結晶を利用したもの或は、超音波回折格子
を利用したものが提案されて一部で実用化されている。 〔従来技術の問題点〕 可動部分が必要とされるガルバノi2−或は、回転体多
面鏡等の従来の光偏向器は、安定性耐久性及びコストの
点で問題があシ、システムのノぐフォーマンスを向上さ
せる障害となっている。 又、これらの光偏向器では、レーデビームの偏向方向が
機械的可動部分の移動方向によって限定され、任意の領
域から情報を読み出すランダムアクセスには適さないと
いう問題もある。 又、可動部を有さない超音波回折格子を利用したもの等
の光偏向器では、高電圧スイッチングが要求されること
や偏向点数が多くとれないこと等の多くの問題がある。 更に光偏向器と同様の機能を有する装置として、近年グ
リンタ用空間光変調器としての液晶シャツタアレイ或は
、発光ダイオ−ドアVイの実用化の研究が進められてい
るが、大規模なアレイの製造技術の困難性があり、小規
模なものへの応用では分解能が十分でない問題がある。 〔発明の目的〕 この発明の目的は、可動部を有さす二次元的なランダム
・アクセスが容易であシ、偏向点数が大きく取れ、V−
デプリンタ、バーコードリーグ、又は、高密度光情報記
録媒体からの情報の記録及び読み出し等に適用可能な光
偏向器を提供するにある。 〔発明の概要〕 この発明によれば、ランダム・/4ターンのフーリエ変
換ホログラムと、このランダム・ノ!ターン中の任意の
部分・!ターン金次々と発生し、この部分・2ターンの
空間的光振幅分布を有するコヒーVント光全発生する手
段と、前記ラング、ム・パターンと前記部分ノぞターン
との相関強度分布を前°記コヒーVント光と前記フーリ
エ変換ホログラムとによって発生させる光学系とよシ成
るホログラフィック光偏向器が提供される。 又、この発明によれば、ランダム・ノ4ターンに対応し
た位相変化を与えるランダム・・ぐターンの7−リエ変
換ホログラムと、このランダム・ノ臂ターン中の任意の
部分パターンを次々と発生し、この部分パターンの空間
的位相分布を有するコヒーVント光を発生する手段と、
前記ランダム・パターンと前記部分・母ターンとの相関
強度分布を前記コヒーVント光と前記フーリエ変換ホロ
グラムとによって発生させる光学系とより成るホログラ
フィック光偏向器が提供される。 従って、この発明によれば、可動部金有さす、二次元的
なランダム・アクセスが容易であシ、偏向点数が大きく
取れる光偏向器が提供される。 〔発明の実施例〕 第1図は、この発明の一実施例に係るホログラフィック
光偏向器が概略的に示されている。 この発明の一実施例に係るホログラフィック光偏向器で
は、ホログラフィック・マツチドフィルターと略同様の
原理を利用して鋭いピークを有するビームスポットを走
査面1上に形成すべくランダム・パターン′fr:7−
リエ変換して形成されたフーリエ変換ホログラム2及び
ランダム・・ぐターン中の部分ノリーンを次々に発生す
る素子例えば、発光ダイオ−ドアソイ或は、液晶シャツ
タアVイ等の表示素子3が光学系の光軸に溢って配置さ
れている。この表示素子3からランダム・パターン中の
部分ノJ?ターン金次々に発生させる為に表示素子3は
、ランダム・ノ臂ターンを記憶した画像メモリ4に接続
されたマイクロコンぎユータ5に接続され、このマイク
ロコンピュータ5は、走査面1上のアクセスすべき領域
、換言すれば走査すべき領域に応じて画像メモリ4から
部分パターンを次々に読み出している。表示素子3上に
表示された部分・母ターンをコヒーレント光の空間強度
分布に変換すべく、表示された部分パターンがコヒーレ
ント・インコヒーレント変換素子6上に結像されるよう
に表示g子、? 及びコヒーレント・インコヒーレント
変換素子6間には、結像レンズ7が配置され、部分パタ
ーンに関しての情報を含むインコヒーレント光カこのコ
ヒーレント・インコヒーレント変換素子6上に伝達され
る。コヒーレント・インコヒーレント変換素子6は、例
えば、ビスマス・シリコン・オキサイド(BSO)或は
、光導電膜を有する液晶ライトパルプが使用される。 このコヒーレント・インコヒーレン)i換516によっ
て部分ノ’l?ターンに応じて空間的な光強度変調を受
けるコヒーレント光は、半導体V−デ装置等のコヒーレ
ント光源8から発生され、集光レンズ9によってピンホ
ール10に集光され、コリメータレンズ11によって平
行光束に変換され、偏光ビーム・スゲリッタ12によっ
て偏光反射されてコヒーレント・インコヒーレント変換
素子6に導かれる。コヒーレント・インコヒーレント変
換素子6即ち、液晶ライトパルプでは、結像された部分
・臂ターンの光強度に応じてその内の電界強度分布が変
化され、例えば、液晶中の結晶の配向が夫々変化される
。光膜で反射される際に、位相変調を受け、部分パター
ンの光強度分布に比例した偏光成分の空間的分布を有す
るコヒーレント光に変換されて偏光ビーム・スゲリッタ
12に戻される。ビームスグリツタ12を通過する光量
は、前記偏光成分の空間的分布に比例し、フーリエ変換
レンズ13によってフーリエ変換され、フーリエ変換ホ
ログラム2に集光される。従って、このホログラム2上
において、フーリエ変換されたランダム・パターンとこ
のランダム・パターン中から抜出されフーリエ変換され
た任意の部分・ぐターンの積の項が生じ、これが逆フー
リエ変換レンズ14によって逆フーリエ変換され走査面
1上に相関強度分布として集光される。その結果、鋭い
ピークを有するビームスポットが走査面1上の所望の領
域に形成される。ここで、コヒーレント・インコヒーレ
ント変換素子6及び、フーリエ変換ホログラム2は、夫
々7−リエ変換ノンズ13の前側及び後側焦点面に配置
され、又、走査面1は、逆フーリエ変換レンズ14の後
側焦点面に配置されている。 次に、フーリエ変換ホログラム2を作成する方法及び光
走査面1上に鋭いピークを有する光スポットが生じる原
理について説明する。 あるランダムパターンr(x、y)として第2図のよう
に(aoXbo)の大きさを有するものが与えられ、又
任意の部分パターンf f i (x 、 y )とし
て(al、Xbl)の大きさのものが次々と選定された
とする。このランダム・パターンr(x、y)のフーリ
エ変換ホログラム2は、例えば、第3図のような光学系
で作成される。即ち、焦点距離fを有するフーリエ変換
レンズL1の前側焦点面にランダム・・母ターンr(x
、y)が配置さヘフーリエ変換VンズLノの後側焦点面
にフーリエ変換ホログラム2を作成すべき写真乾板Hが
配置され、物体波I0が光軸に平行にランダム・パター
ンr(x、y)e介して写真乾板Hに照射されると共に
参照波Irが光軸に対して角度θの方向から写真乾板H
に照射されてランダム・ノ!ターンr(x・y)のフー
リエ変換ホログラム2が作成される。ここで物体波I0
及び参照波Irは、いずれも平面波であって、ランダム
・パターンr(x、y)の最高空間周波数fCWx 、
Wyとすると、必要とされるホログラム2の大eさくa
hXbh)は、下記式(1) 、 (2)で与えられる
。 a ≧(λ/ 2 yr ) X 2 W x    
−−(4)b ≧(λ/2π)x2wy    ・・・
・・・(2)ここでλは、ホログラムの記録光の波長で
ある。 又、ホログラム記録材料Hに要求される分解能wrr1
1は、参照波Irが紙面に平行であるとすると下記式(
3)で表わされる。 W ≧(4/λf)bo    ・・・・・・(3)a
x ランダム・パターンr(x、y)の7−リエ変換f R
(Wx 、 Wy )とし、参照技工r=ej0yO(
y。=Pθ)とすると、フーリエ変換ホログラλ ム2の透過率は、下記式(4)で表わされる。 T(W) ” l R+ e J ’ye l 2=1
+1R12+R”e””’+Re””’   −(4)
第1図で示される光学系においては、任意の部分パター
ンrt(x、y)は、フーリエ変換Vンズ13によりて
フーリエ変換されて上記(4)式で規定される透過率を
有する7−リエ変換ホログラム2に照射され、フーリエ
変換ホログラム2を透過されたV−デ光は、逆7−リエ
変換し/ズ14によって逆フーリエ変換されて走査面1
に集束される。ここで、任意の部分ツクターンft(x
、y)のフーリエ変換2 F (Wx 、war )と
表わすと、逆フーリエ変換レンズ14によって逆7−リ
エ変換されたレーデ光は、下記(5)式で表わされる。 + F (r 1 ) ・F”(R) e ”” IF
 (r l) ・F(R)e−””=(rl(−x、−
7)+ri■F−’ IF(R) +2+rl(x、y
)*R”(x、y−yo )+ri(x、y)■Fgx
*y−16)第4図は、走査面1をスクリーンとした場
合に督けるこのスクリーン上の光強度分布即ち、振幅分
布金示しているが、(5)式の第1項に相当する振幅分
布が中心領域■に現れ、又、第2項に相当するr(x、
y)とR(Wx 、Wy )との相関関数である振幅分
布が領域■に現れると共に第3項に相当する振幅分布が
領域■に現れる。ここで、領域■に現れる振幅分布は、
鋭いピーク全盲し、アクセス用のビームスポットとなる
。また、第3項はr(X、3F)とR(WX、WY)と
の畳込み積分であり、いずれもランダムであるから、微
少となる。領域■及び領域■は、中心領域Iの両側に生
じ、参照波Irの入射角θの絶対値が大きくなればなる
程、両者の領域は、離れ、中心領域Iとの重複部分音生
じないようにすることができる。入射角θ=0のとき、
領域I、領域■及び領域■は、中心部分に重なり、入射
角θくOのとき、領域■及び領域■の位置が入れ代るこ
ととなる。 第1図のインコヒーレント・コヒーVント変換光学系の
原理的光学的配置が第5図に示されている。第5図では
、偏光ビームスデリック12がポーラライプ16及びア
ナライプ18に置換えられている。第5図に示される光
学系においては、コヒーレント光がポーラライプ16に
入射されて、その光学軸に歯ってコヒーレント光の振動
面が整えられて電気光学素子17に向けられる。この電
気光学素子17は、例えば、液晶ライトパルプと同様な
素子であってその表面上に任意の部分パターンrt(x
、y)の像が結像されると、その部分パターンf i 
(X ’r y)の光強度分布に応じて電界強度分布を
生じさせ、電気光学素子17を通過したコヒーレント光
に空間的に異なる位相遅れ分布を生じさせる素子である
。空間的に異なる位相遅れ分布が生じたコヒーレント光
は、ポーラライプ16の光学軸に直交する光学軸を有す
るアナライブ18全通過して空間的な光強度分布が生じ
、フーリエ変換Vンズ13に向けられる。空間的な光強
度分布が生じ又、空間的に異なる位相遅れ分布が生じた
コヒーレント光は、フーリエ変換レンズ13によってフ
ーリエ変換ホログラム2に集光されてフーリエ変換され
たランダム・パターンとこのランダム・/4’ターン中
から抜出されたフーリエ変換された任意の部分パターン
との積の項を有するコヒーレント光に変換され、この強
度分布を有するコヒーレント光は、逆フーリエ変換レン
ズ14によって逆7−リエ変換されて走査面1上に相関
強度分布として集光される。その結果、第4図に示すよ
うな鋭いピークを有するビームスポットが走査面1上の
所望の領域に形成される。 第5図に示される光学系において、この光学系を通過し
たコヒーレント光に空間的に異なる位相遅れ分布が生じ
、空間的な光強度分布が生じることは、物理的には次の
ように説明される。 即ち、結晶軸Oxがポーラライプ16の振動面即ち、偏
光面【対して・45°の角度金成すように電気光学素子
17が配置されているとすると、ポーラライプトロを通
過し、電気光学素子17に向けられたコヒーレント光I
iは、下記(6)式で示され、電気光学素子17のある
領域から射出されるコヒーレント光Icの結晶軸方向の
成分は、(7)式で示すように振幅が減衰され、位相が
δだけ遅らされる。 l1=IXe’Φ=可Φ−1dnΦ      ・−・
−・−(6)(7)式で示すコヒーレント光Icが更に
ポーラライプ16の振動面に直交する振動面即ち、偏光
面を有するアナライプ18を通過されると、(8)式に
示されるようにその振幅も又位相遅れδに依存して振幅
変調を受けることとなる。 ■p=(i−)2(cns(Φ−δ)−丘Φ−δ))(
−)(可Φ−i癲Φ) 一一献Φ−−)sfn(−−)−i可(Φ−−Mn(−
7)=4.。−五(Φ−Σ甲      ・・・(8)
(8)式から明らかなように第5図に示される光学系に
おいて、電気光学素子17のある領域を通過したコヒー
レント光は、結果として振幅かれることとなる。電気光
学素子17では、その表面上に結像された任意の部分ノ
9ターンfi(x、y)の像の光強度に応じて領域毎に
電界強度が生じ、結果として領域毎に位相遅れδが異っ
てしまう。従って、第5図に示される光学系では、任意
の部分・!ターンfi(x、y)の像光強度分布に応じ
てコヒーレント光は、空間的な位相変調、並びに振幅変
調を受けることとなる。 上述した実施例においては、ランダム・パターンr(x
、y)は、振幅透過率分布で表し、任意の部分・ぐター
ンfi(x、y)は、はとんど空間的な光強度分布に変
換されているが、このような場合には、第7図(−)に
示すように走査面1上のビームスポットは、鋭いピーク
を有すると共にあるオフセット値を有してしまう。ラン
ダム・・やターンr(X、7)が負の振幅透過率を有す
る振幅透過率分布で表わせば、原理的には第7図(b)
に示すようにオフセット値が消滅し九鋭いピークを有す
るビームスプツトを得ることができる。 然しなから、現実には負の振幅透過率を有する振幅透過
率分布は、実現できない。ビームスポットが鋭いピーク
を有すると共にあるオフセット値を有する場合には、読
み出し専用の偏向器として使用できるが、書込みに用い
た場合には、オフセット部分がカプリ光となってしまい
S/N比が極端に悪化してしまう。 このような問題に対処する為にこの発明の他の実施例に
おいては、ランダム・パターンr(x、y)が位相分布
でフーリエ変換ホログラム2上に表され、任意の部分パ
ターンf l (X r ! )が空間的な位相分布に
変換される。このように位相分布で表わすことによって
第7図(b)に示すようにオフセット値が消滅した鋭い
ピークを有するビームスポットを得ることができる。即
ち、ランダム・パターンr(x、y)を位相分布でフー
リエ変換ホログラム2上に表すには、ランダム・・ぐタ
ーンr (X r 3’ )のフーリエ変換像が焼付け
られた写真乾板Hを漂白してランダム・パターンr(x
、y)のフーリエ変換像に応じた凹部を写真乾板上に形
成すれば良いこととなる。この発明のホログラフィック
光偏向器の他の実施例においては、この位相分布を有す
るフーリエ変換ホログラム2が第1図と同様に配置され
、又、原理的には、第8図に示すようなコヒーレント・
インコヒーレント変換光学、系が採用される。 第8図には、ポーラライプ16の振動面、電気光学素子
17の光学軸及びアナライプ18の振動面が互いに平行
に配列されている光学系が示されているが上述した説明
から明らかなようにこの様な光学系においては、コヒー
レント光は、空間的な位相変調のみを受けることとなる
。 従って、第7図(b)に示すような鋭いピークを有する
ビームスポットを走査面1上の所望の領域に得ることが
できる。 第8図に示される光学系を実際の光学係に適用するには
、第1図に示される偏光ビームスグリツタ12に代えて
ハーフミラ−を採用し、適切にポーラライプ16及びア
ナライザ18の両者又は、いずれかをコヒーレント光の
光路中に配置すること罠よって実現される。 フーリエ変換ホログラムは、第3図に示すように光学的
方法によって作成される場合に限らず、計算機を用いて
描かれたホログラムであっても良い。計算機によってホ
ログラムを作成する場合には、実際には第(4)式に示
される透過率T (W)がグロットされるが、その際、
第1項及び覧2項の0次に関する項を省略した値を用い
ることにより参照光Irの入射角度θを(3)式中の1
/2にまで減少させることができる。更に、実際の光学
系では、不可能であるが計算機によれば可能に入射角度
θをOにした場合を考えると次のように(4)式を単に
次の通υとすることができる。 (4)式に対応する透過率は、次式のように表わされる
。 T(W) = R” (Wx 、Wy ) + R(W
x 、Wy )=2Real R(Wx、Wy)   
     −=−(9)また、(5)式に対応する逆フ
ーリエ変換は、F[T−F(r4):] =F−’(F
(ri)F(R)+F(ri)・F(R〕’:1=r 
i” R+ r i■R 逆フーリエ変換は、上述した式から明らかなようにラン
ダム・パターンr(x、y)及び任意の部分ノでターン
f i (X r Y )の相関パターンとコンボリユ
ーシヨン・パターンとの重ね合わせであるが、ランダム
位相のコンデリューシ望ンは、はぼ零と考えることがで
きることから、この式は、ランダム・・ヂターンr(X
+7)と任意の部分パターンf i (X + )’ 
)の相関パターンでちるとみなしてよいこととなる。 上述した実施例においては、フーリエ変換されたランダ
ム・・ぞターンR(Wx 、Wy )の位相分布は、0
〜2πの間でランダムに変化していると考えて良いが、
マイクロコンピュータが取シ扱う情報量を低減し、表示
素子が中間調のランダム・・9ターンを表示することを
不要とする為には、フーリエ変換されたランダム・パタ
ーンR(Wx。 Wy)の位相分布は、0及び2πの2値のいずれかを取
ることが好ましい。 計算機によってホログラムを作成した場合には、十分な
偏向点数を得ることができることが例えば、次のように
確認されている。 ホログラム記録材料の分解能・・・1500本/鱈イン
コヒーレント・ コヒーレント変換素子の分解能・・・100本/匍フー
リエ変換レンズの焦点距離・・・300fiコヒーレン
ト光ノ波長     ・・・0.6μmであるとすれば
、2値ランダム・パターンのサンプル点数は、100本
瓢まで取れ、(3)式におけるboの最大は、270m
となる。(但し、入射角度θ=0)ランダム・パターン
の1サンプル点は、相関ピークの1分解点と考えられる
から一次元方向の総偏向点数は、270X100=27
000点にもなる。 〔発明の効果〕 以上のようにこの発明によれば、可動部を有さす二次元
的なランダム・アクセスが容易でちり、偏向点数が大き
く取れ、レーザプリンタ、バーコードリーダ、又は、高
密度光情報記録媒体からの情報の記録及び読み出し等に
適用可能な光偏向器が提供される。 4、図面の簡単な説明 第1図は、この発明の一実施例に係るホログラフィック
光偏向器を示す概略図、第2図は、ランダム・パターン
を示す平面図、第3図は、第2図ランダム・パターンか
ら形成されるホログラムを作成する為の光学系を示す斜
視図、第4図は、走査面上の光レベルを示すグラフ、第
5図は、第1図に示されたインコヒーレント・コヒーレ
ント変換光学系を示す概略図、第6図ハ、インコヒーレ
ント・コヒーレント変換光学系における空間的光変調を
説明する為の座標図、第7図(−)及び(b)は、ビー
ムスポットの相関強度を示すグラフ、及び第8図は、こ
の発明の他の実施例に係るホログラフィック光偏向器の
インコヒーレント・コヒーレント変換光学系を示す概略
図である。 1・・・走査面、2・・・ホログラム、3・・・表示素
子、4・・・画像メモリ、6・・・インコヒーレント・
コヒーレント変換素子、13・・・フーリエ変換レンズ
、14・・・逆7−リエ変換レンズ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ランダム・パターンのフーリエ変換ホログラムと、
    このランダム・パターン中の任意の部分パターンを次々
    と発生し、この部分パターンの空間的光振幅分布を有す
    るコヒーレント光を発生する手段と、前記ランダム・パ
    ターンと前記部分パターンとの相関強度分布を前記コー
    ヒレント光と前記フーリエ変換ホログラムとによつて発
    生させる光学系とより成ることを特徴とするホログラフ
    ィック光偏向器。 2、前記コヒーレント光を発生する手段は、任意の部分
    パターンを次々と発生する手段と、及び、この部分パタ
    ーンを部分パターンの空間的光振幅分布を有するコヒー
    レント光に変換する手段とから成ることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載のホログラフィック光偏向器。 3、前記ランダム・パターンのフーリエ変換ホログラム
    は、前記コヒーレント光に対してランダム・パターンに
    対応した位相変化を与え、前記コヒーレント光に変換す
    る手段は、前記部分パターンに対応した位相変化を与え
    た空間的位相分布有するコヒーレント光に変換すること
    を特徴とする特許請求の範囲第2項記載のホログラフィ
    ック光偏向器。 4、前記ランダム・パターンのフーリエ変換ホログラム
    は、0次の回折光が消去されるパターンを有する計算機
    ホログラムであることを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載のホログラフィック光偏向器。 5、前記ランダム・パターンのフーリエ変換ホログラム
    は、参照光と物体光との成す角が零であるとの条件で作
    成された計算機ホログラムであることを特徴とする特許
    請求の範囲第4項記載のホログラフィック光偏向器。 6、ランダム・パターンに対応した位相変化を与えるラ
    ンダム・パターンのフーリエ変換ホログラムと、このラ
    ンダム・パターン中の任意の部分パターンを次々と発生
    し、この部分パターンの空間的位相分布を有するコヒー
    レント光を発生する手段と、前記ランダム・パターンと
    前記部分パターンとの相関強度分布を前記コーヒレント
    光と前記フーリエ変換ホログラムとによつて発生させる
    光学系とより成ることを特徴とするホログラフィック光
    偏向器。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0311340A2 (en) * 1987-10-05 1989-04-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical pickup head
JPH02266331A (ja) * 1989-04-07 1990-10-31 Citizen Watch Co Ltd 光ビーム走査装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0311340A2 (en) * 1987-10-05 1989-04-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Optical pickup head
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