JPS58166322A - 変調装置 - Google Patents
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- JPS58166322A JPS58166322A JP58028413A JP2841383A JPS58166322A JP S58166322 A JPS58166322 A JP S58166322A JP 58028413 A JP58028413 A JP 58028413A JP 2841383 A JP2841383 A JP 2841383A JP S58166322 A JPS58166322 A JP S58166322A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
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- G02F1/315—Digital deflection, i.e. optical switching based on the use of controlled internal reflection
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- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、ビットアドレスが可能な線形変調器に関し、
特に、変調器からの出力ビームの上−波帯および下り波
帯との間の相殺的干渉を防止するための方法および装置
に関する。
特に、変調器からの出力ビームの上−波帯および下り波
帯との間の相殺的干渉を防止するための方法および装置
に関する。
背景技術
Ｃットアドレスか可能な線形変調器は、原画像を表わす
画像信号すなわち画素信号な画偉コーーに変換する装置
とし【、電気−光学的ラインプリンタと共に使用される
。この形式の変調器は、１９８１年８月４日発行のＲ，
Ａ、スゾラーグ（８ｐｒａｇｕ＊・）勢による「個々に
アドレスされた電極を用いたＴＩＲ電気−光学変調器」
と題する米国特許第４．２８１．９０４号に開示されて
いる。
画像信号すなわち画素信号な画偉コーーに変換する装置
とし【、電気−光学的ラインプリンタと共に使用される
。この形式の変調器は、１９８１年８月４日発行のＲ，
Ａ、スゾラーグ（８ｐｒａｇｕ＊・）勢による「個々に
アドレスされた電極を用いたＴＩＲ電気−光学変調器」
と題する米国特許第４．２８１．９０４号に開示されて
いる。
上述の電気−光学的デリンタにおいては、ゼログラフ受
光体などの感覚性記−一体が、走査方向に直角な軸に沿
つ【前進せしめられる時に１画儂形成−ｙｔ、に露光せ
しめられる。走査の目的のために、レーデなどの適宜な
光源から得られたシート状の平行光束が電気−光学的変
調器を経て伝送されるか、その伝送は変調器の光軸に沿
っての直進透過性伝送であるか、または変調器軸に対し
て小さい角をなすととＫよって内部的全反射を行なうよ
うな伝送である。その伝送と同時に、ディジタルビット
またはアナログ信号の形式の画像信号すなわち画素信号
が、順次変調器の電極に印加される。
光体などの感覚性記−一体が、走査方向に直角な軸に沿
つ【前進せしめられる時に１画儂形成−ｙｔ、に露光せ
しめられる。走査の目的のために、レーデなどの適宜な
光源から得られたシート状の平行光束が電気−光学的変
調器を経て伝送されるか、その伝送は変調器の光軸に沿
っての直進透過性伝送であるか、または変調器軸に対し
て小さい角をなすととＫよって内部的全反射を行なうよ
うな伝送である。その伝送と同時に、ディジタルビット
またはアナログ信号の形式の画像信号すなわち画素信号
が、順次変調器の電極に印加される。
その結果、電気−光学的素子内の１画儂信号が印加され
た電極の近傍には、ある体積または周縁部をもった局所
的な電界が形成される。そのような電界が形成されると
、変調器基板の屈折率に局所的変動が起こり、基板の屈
折率のその変化によって、基板を通過する元Ｃ−五の同
位相波面または偏りか画像信号の内容に応じ【変調され
る。同位相波面が変調された光ビームはその後、それに
対応して変調された強度分布をもった元ビームに変換さ
れ、記録媒体上１に入射せしめられ（１画書信号を表わ
す画像を形成する。このようにして形成された画像は、
後にゼログラフ的に処理されて、原画像の可視的表示す
なわち：Ｉぜ−が得られる。
た電極の近傍には、ある体積または周縁部をもった局所
的な電界が形成される。そのような電界が形成されると
、変調器基板の屈折率に局所的変動が起こり、基板の屈
折率のその変化によって、基板を通過する元Ｃ−五の同
位相波面または偏りか画像信号の内容に応じ【変調され
る。同位相波面が変調された光ビームはその後、それに
対応して変調された強度分布をもった元ビームに変換さ
れ、記録媒体上１に入射せしめられ（１画書信号を表わ
す画像を形成する。このようにして形成された画像は、
後にゼログラフ的に処理されて、原画像の可視的表示す
なわち：Ｉぜ−が得られる。
発明の要約
上述の種類の変調器に関する１つの問題点は。
変調器が画像の画素の走査線の全体をオン状態にすると
必ず１画素間に暗領域が残ることである。
必ず１画素間に暗領域が残ることである。
−一ムストップの周囲を通過する上側波帯と下側波帯と
の相殺的干渉によって生じる１画偉内の上記のような暗
領域は、光学装置の焦点を外したり。
の相殺的干渉によって生じる１画偉内の上記のような暗
領域は、光学装置の焦点を外したり。
光学的収差を導入したりする従来の方法によっては、除
外することはできない。
外することはできない。
この問題を解決するために、シート状の平行光束を、原
画＊ｉｋ表わす画素ビットによって変調する電気−光学
的変調器が提供されるのであるが。
画＊ｉｋ表わす画素ビットによって変調する電気−光学
的変調器が提供されるのであるが。
この変調器においては、ｏｖｃｒ−ふと少なくとも１対
の側波帯の次数のビームとが選択的に発生せしめられる
。０次ビームの径路内にはビームストップが介在せしめ
られて、０久Ｃ−ムの通過を阻止するようＫされる。さ
らに、記録媒体上に側波帯ビーム対を結儂させるための
光学装置が用いられる。また、この変調器は１画素Ｃッ
ト毎にその画素ピッ）Ｋ＠する伝送元の位相を選択的に
変化させる装！と、１対の側波帯に生じる次数のビーム
間の相殺的干渉を防止する装置と、を備えている。
の側波帯の次数のビームとが選択的に発生せしめられる
。０次ビームの径路内にはビームストップが介在せしめ
られて、０久Ｃ−ムの通過を阻止するようＫされる。さ
らに、記録媒体上に側波帯ビーム対を結儂させるための
光学装置が用いられる。また、この変調器は１画素Ｃッ
ト毎にその画素ピッ）Ｋ＠する伝送元の位相を選択的に
変化させる装！と、１対の側波帯に生じる次数のビーム
間の相殺的干渉を防止する装置と、を備えている。
さらに、原画像を表わす画素ビット群から得られる画偉
露光ＩＩＫ沿つ【画像画素間に暗領域か生じることを防
止する方法が提供されるのであるが、この方法は、実質
的に平らなシート状の−ｙｔｃ−五を発生させる段階と
、このビームをＣ−ムの幅全体にわたって同時に画素Ｃ
シト群に応じて変調して０久ビ一ム成分と上側波帯Ｃ−
ム成分および下側波帯ビーム成分とを発生させる段階と
、０久ビ一ム成分を阻止すると共に鋏上側波帯および下
側波帯の両ビーム成分を記録媒体上に集束させ【媒体上
に画像画素を形成する段階と、上側波帯ビーム成分およ
び下側波帯ビーム成分の少なくとも一方の偏光状態を変
化させて上側波帯Ｃ−ム成分および下側波帯ビーム成分
の偏光方向が互いに直交するようにし、それによって相
殺的干渉およびその結果である暗領域の形成を防止する
段階と、を含んでいる。
露光ＩＩＫ沿つ【画像画素間に暗領域か生じることを防
止する方法が提供されるのであるが、この方法は、実質
的に平らなシート状の−ｙｔｃ−五を発生させる段階と
、このビームをＣ−ムの幅全体にわたって同時に画素Ｃ
シト群に応じて変調して０久ビ一ム成分と上側波帯Ｃ−
ム成分および下側波帯ビーム成分とを発生させる段階と
、０久ビ一ム成分を阻止すると共に鋏上側波帯および下
側波帯の両ビーム成分を記録媒体上に集束させ【媒体上
に画像画素を形成する段階と、上側波帯ビーム成分およ
び下側波帯ビーム成分の少なくとも一方の偏光状態を変
化させて上側波帯Ｃ−ム成分および下側波帯ビーム成分
の偏光方向が互いに直交するようにし、それによって相
殺的干渉およびその結果である暗領域の形成を防止する
段階と、を含んでいる。
本発明の、その他の特徴および利点は、以下の発明の実
施態様によって明らかにされる。
施態様によって明らかにされる。
発明の実施態様
以下１図示された実施例を参照して本発明の詳細な説明
するが１本発明はこれらの実施例によって制限されるも
のではない。これに反し、この説明は、特許請求の範囲
によって定められた本発明の精神および特許請求の範囲
内における全ての修正、択−物、および均等物を含むも
のであることを目的としている。
するが１本発明はこれらの実施例によって制限されるも
のではない。これに反し、この説明は、特許請求の範囲
によって定められた本発明の精神および特許請求の範囲
内における全ての修正、択−物、および均等物を含むも
のであることを目的としている。
第１図および第２図には、多ｒ−）式のビットアドレス
可能な線形変調器１２を有する形式の代表的な電気−光
学的ラインプリンタ１１を示し、この変調器１２は、プ
リンタの感光記録媒体１３を画像形成光に露光する。記
録媒体１３は光導電材を被覆したゼログラフドラム１４
として図示すれており、このドラムは（図示されていな
い装置によって）矢印の方向に回転する。しかし、光導
電材な被覆したゼログラフベルトおよびゼログラフ板、
およびウェブ材またはカットしたシート材として供給さ
れうる感光性フィルムおよび感光材被覆紙、を含む、他
のゼログラフ記録媒体および非ゼログラフ記録媒体を使
用することもできることは明らかである。従って、記録
媒体１３は、一般的な場合においては、変調器１２に対
し交差線方向、すなわちラインピッチ方向に前進しツツ
、画像形成光に露光せしめられる感光性媒体と考えるべ
きである。
可能な線形変調器１２を有する形式の代表的な電気−光
学的ラインプリンタ１１を示し、この変調器１２は、プ
リンタの感光記録媒体１３を画像形成光に露光する。記
録媒体１３は光導電材を被覆したゼログラフドラム１４
として図示すれており、このドラムは（図示されていな
い装置によって）矢印の方向に回転する。しかし、光導
電材な被覆したゼログラフベルトおよびゼログラフ板、
およびウェブ材またはカットしたシート材として供給さ
れうる感光性フィルムおよび感光材被覆紙、を含む、他
のゼログラフ記録媒体および非ゼログラフ記録媒体を使
用することもできることは明らかである。従って、記録
媒体１３は、一般的な場合においては、変調器１２に対
し交差線方向、すなわちラインピッチ方向に前進しツツ
、画像形成光に露光せしめられる感光性媒体と考えるべ
きである。
第６図ないし第５図に最もよく示されているように、変
調器１２は１個々にアドレス可能な置数の電極１８ｍ−
１８ｎ＆備えた。電気−光学的基板Ｉｎ有する。図示し
た内部全反射（’ｒＩＲ）動作モーｒのため、基板１７
は、一般的ＫＹカット結晶であり１例えば研摩された入
力面２２と出力面２３との間にこれらと一体をなして存
在する研摩された反射面２１を有するＬｉＮｂＯ５であ
ってもよ−・。電極１８ａ−１１ｎを１１反射面２１に
隣接して電気−光学的基板１７に密接に結合し１本質的
に基板１Ｔの幅全体にわたって、平行な対をなす関係に
配列されている０通常、電極１８龜−１８ｎは、約１−
３０ミクロンの幅を有し、大体、−等間隔をなし離間す
る多数の中心線上に配列されて、全体的に均一に、相互
電極間間隙値が１−３０ミク四ノとなる。さら忙、電極
１８ ｍ −１８ｎは基板１７の光軸Ｋｆｉぼ平行に延
長し、各電極は基板の光軸に沿う実質的な長さだけ投射
する。
調器１２は１個々にアドレス可能な置数の電極１８ｍ−
１８ｎ＆備えた。電気−光学的基板Ｉｎ有する。図示し
た内部全反射（’ｒＩＲ）動作モーｒのため、基板１７
は、一般的ＫＹカット結晶であり１例えば研摩された入
力面２２と出力面２３との間にこれらと一体をなして存
在する研摩された反射面２１を有するＬｉＮｂＯ５であ
ってもよ−・。電極１８ａ−１１ｎを１１反射面２１に
隣接して電気−光学的基板１７に密接に結合し１本質的
に基板１Ｔの幅全体にわたって、平行な対をなす関係に
配列されている０通常、電極１８龜−１８ｎは、約１−
３０ミクロンの幅を有し、大体、−等間隔をなし離間す
る多数の中心線上に配列されて、全体的に均一に、相互
電極間間隙値が１−３０ミク四ノとなる。さら忙、電極
１８ ｍ −１８ｎは基板１７の光軸Ｋｆｉぼ平行に延
長し、各電極は基板の光軸に沿う実質的な長さだけ投射
する。
第１図ないし第５図を参照して、ラインプリンタ１１の
動作を説明すると、レーデ１６などの適宜の光源からの
シート状の平行光束２４が１反射面２１に対して小さい
角度で入射するように、電気−光学的基板１７の入力面
２２を通して送られる。元ビーム２４は１面２１のほぼ
中央線の所に（図示されていない装置によって）くさび
状に集束せしめられ、そこで全反射された後、基板１１
の出力面２３を通って送り出される０図示されているよ
うに、光ビーム２４は実質的に基板１Ｔの幅全体な照明
し、それを通過する際に、隣接する電極１１１ｍ−１８
ｎＫ印加された画像信号すなわち画素信号により、同位
相波面に変調される。
動作を説明すると、レーデ１６などの適宜の光源からの
シート状の平行光束２４が１反射面２１に対して小さい
角度で入射するように、電気−光学的基板１７の入力面
２２を通して送られる。元ビーム２４は１面２１のほぼ
中央線の所に（図示されていない装置によって）くさび
状に集束せしめられ、そこで全反射された後、基板１１
の出力面２３を通って送り出される０図示されているよ
うに、光ビーム２４は実質的に基板１Ｔの幅全体な照明
し、それを通過する際に、隣接する電極１１１ｍ−１８
ｎＫ印加された画像信号すなわち画素信号により、同位
相波面に変調される。
さらに詳述すると、元ビーム２４を変調するために、原
画儂の連続ラインな表わすディジタルまたはアナログ画
倭信号、または画素の連続する組が１個々にアドレス可
能な電極１ｅａ−ｔｓｎｔｃ。
画儂の連続ラインな表わすディジタルまたはアナログ画
倭信号、または画素の連続する組が１個々にアドレス可
能な電極１ｅａ−ｔｓｎｔｃ。
順次印加される。これらの画像信号は、印加されるとそ
れぞれの電極間隙によって画定される電気−光学的基板
１７の相互作用領域２１内に局所的な周縁電界２６を発
生させるようになっており、連続電極間に電圧差がある
時は、それらの間の画素信号はオン状態である。連続電
極間に電圧差がない場合は、その画素信号はオフ状態で
ある。その結果、相互作用領域２７の横方向に、電気−
光学的基板１７Ｆ）屈折率の局所的変化が生じ、この屈
折率の変化は、任意の時点におい【電極１８ａ−１８ｎ
上に現われた画像信号を忠実に表わしている。従って、
光ビーム２４の同位相波面は、光Ｃ−ム２４か電気−光
学的基板１７の相互作用領域２Ｔを通過する時１画像値
号によってライン毎に空間的に順次変調される・ 記録媒体１３を画像形成ｆｔ、に露光させるために。
れぞれの電極間隙によって画定される電気−光学的基板
１７の相互作用領域２１内に局所的な周縁電界２６を発
生させるようになっており、連続電極間に電圧差がある
時は、それらの間の画素信号はオン状態である。連続電
極間に電圧差がない場合は、その画素信号はオフ状態で
ある。その結果、相互作用領域２７の横方向に、電気−
光学的基板１７Ｆ）屈折率の局所的変化が生じ、この屈
折率の変化は、任意の時点におい【電極１８ａ−１８ｎ
上に現われた画像信号を忠実に表わしている。従って、
光ビーム２４の同位相波面は、光Ｃ−ム２４か電気−光
学的基板１７の相互作用領域２Ｔを通過する時１画像値
号によってライン毎に空間的に順次変調される・ 記録媒体１３を画像形成ｆｔ、に露光させるために。
Ｖ ３−１７’ −Ｖ ｙ （８ｃｈｌｉｓｒ＠ｎ ）
の中央暗視野式画像形成光学装置３１が用いられており
、この装激変調器１２と記録媒体１３との間に光学的に
整列せしめられており、変調された光ビームな記録媒体
１３上に結像させる。面憎形成光学装置３１は。
の中央暗視野式画像形成光学装置３１が用いられており
、この装激変調器１２と記録媒体１３との間に光学的に
整列せしめられており、変調された光ビームな記録媒体
１３上に結像させる。面憎形成光学装置３１は。
元ビーム２４の空間的な同位相波面の変調を、それに対
応して変調された強度分布に変換すると共に、所望の幅
の画書を得るために必要な倍率をも与える。図示されて
いる画儂形成党学装置３１は。
応して変調された強度分布に変換すると共に、所望の幅
の画書を得るために必要な倍率をも与える。図示されて
いる画儂形成党学装置３１は。
同位相波面を変調された光ビーム２４００久回折成分３
２をフーリエ変換面３７に配置された中央ストップ３５
上に集束させるための視野レンズ３４と、散乱された高
次の回折成分すなわち側波帯５２．５４を記録媒体１３
上に結像させるための結像レンズ３６と、を含んでいる
。視野レンズ３４は、変調器１２ｈストツプ３５との間
忙光学的に整列せしめられ、ｆｔ、♂−ム２４の実質的
に全ての′０次成分３２をンストップ３ＳｔＣよって阻
止されるようにする。ここで上−波帯および下側波帯と
呼んでいる。光Ｃ−ム２４の高次回折成分５２．５４は
、ストップ３５の周囲な通った後結儂レンズ３ＢＫよっ
て集められ、結像レンズ３６はこれらの成分を、記録媒
体１３によって画定された変調器１２の画像形成面上に
送る。もちろん。
２をフーリエ変換面３７に配置された中央ストップ３５
上に集束させるための視野レンズ３４と、散乱された高
次の回折成分すなわち側波帯５２．５４を記録媒体１３
上に結像させるための結像レンズ３６と、を含んでいる
。視野レンズ３４は、変調器１２ｈストツプ３５との間
忙光学的に整列せしめられ、ｆｔ、♂−ム２４の実質的
に全ての′０次成分３２をンストップ３ＳｔＣよって阻
止されるようにする。ここで上−波帯および下側波帯と
呼んでいる。光Ｃ−ム２４の高次回折成分５２．５４は
、ストップ３５の周囲な通った後結儂レンズ３ＢＫよっ
て集められ、結像レンズ３６はこれらの成分を、記録媒
体１３によって画定された変調器１２の画像形成面上に
送る。もちろん。
他の光学的装置を用いて変調器１２の出力である位相変
調された光Ｃ−ムの同位相波面を、それに対応して変調
された強度分布をもった光ビームに変換することもでき
る。
調された光Ｃ−ムの同位相波面を、それに対応して変調
された強度分布をもった光ビームに変換することもでき
る。
第２図に破線３９で示されているように、電極１８ｍ−
１８ｎのそれぞれの対は、変調器１２の電気−光学的基
板１Ｔおよび位相に高感度な読出し光学装置３１と協働
して効果的に局所的な変調器をなし、画像のそれぞれの
ラインに沿つ【の所定の１空間位雪に画素を形成する。
１８ｎのそれぞれの対は、変調器１２の電気−光学的基
板１Ｔおよび位相に高感度な読出し光学装置３１と協働
して効果的に局所的な変調器をなし、画像のそれぞれの
ラインに沿つ【の所定の１空間位雪に画素を形成する。
この画素の集合によってただ１つの画像ラインか形成さ
れる。
れる。
容易に理解しうるように、ｌ１ｉｌラインを構成する画
素の総数は、電極１８ｍ−１８ｎの数によって決定され
る。記録媒体１３か変調器１２に対して交差線方向に前
進しパている関に、連続データの流れとして供給される
画像傭号の連続する組をこれらの局所的変調器に順次印
加するととによって。
素の総数は、電極１８ｍ−１８ｎの数によって決定され
る。記録媒体１３か変調器１２に対して交差線方向に前
進しパている関に、連続データの流れとして供給される
画像傭号の連続する組をこれらの局所的変調器に順次印
加するととによって。
複数の画素による連続線が印刷される。
線形変調器１２のような変調器は、隣接する画素をオン
状籐にする際に必ずその画素間に暗領域を形成するとい
う欠点をもっている。この暗領域は、上側波帯５２と下
側波帯５′４とのビームストップ３５における相般的干
渉によって発生する。
状籐にする際に必ずその画素間に暗領域を形成するとい
う欠点をもっている。この暗領域は、上側波帯５２と下
側波帯５′４とのビームストップ３５における相般的干
渉によって発生する。
この効果は、焦点を外したり、光学的収差を導入したり
するととＫよっては、除外し得ない。
するととＫよっては、除外し得ない。
この問題を解決するため、以前と同様な部品には同様な
番号を付した＠６図を特に参照すると、平面偏光子５０
は、レーデ１６の出力光ビーム２４の面に対して垂直な
面方向を有し、変調器１２の上流に配置されている。偏
光子５０は元Ｃ−ム２４を鉛直方向に偏光させる働きを
もっている。 − 側波帯５２，５４か互いに干渉しないようＫするために
、半波長板５５を、軸が元ビーム２４の面に対し℃４５
＠をなすようにして一方のｉｓｍ帯。
番号を付した＠６図を特に参照すると、平面偏光子５０
は、レーデ１６の出力光ビーム２４の面に対して垂直な
面方向を有し、変調器１２の上流に配置されている。偏
光子５０は元Ｃ−ム２４を鉛直方向に偏光させる働きを
もっている。 − 側波帯５２，５４か互いに干渉しないようＫするために
、半波長板５５を、軸が元ビーム２４の面に対し℃４５
＠をなすようにして一方のｉｓｍ帯。
すなわち側波帯５２．の径路内の、フーリエ変換面３７
０位置に配置する。半波長板５５は、ｌｌＩ波帯５２の
鉛直な偏光方向を水平に変化させることにより、−波帯
５２．５４か互いに干渉しえないようにする。その結果
、−惨ラインに沿った画素間の暗領域かなくなる。
０位置に配置する。半波長板５５は、ｌｌＩ波帯５２の
鉛直な偏光方向を水平に変化させることにより、−波帯
５２．５４か互いに干渉しえないようにする。その結果
、−惨ラインに沿った画素間の暗領域かなくなる。
第７図に示されている実施例においては、やはり以前と
同様な部品ｒ７ＩＣは同様な番号を付してあり。
同様な部品ｒ７ＩＣは同様な番号を付してあり。
この実施例においては、第６図の平面偏光子が用いられ
ておらず、２つの半波長板６５．８６が用いられている
。この装置においては、半波長板６５はフーリエ変換面
３７において側波帯５２の径路内に配置され、半波長＠
６６はフーリエ変換面において側波帯５４の径路内に配
置される・半波長板６５．６６は、半波長板６５の軸か
半波長板６６の軸に対して・４５＠をなすように置かれ
る。
ておらず、２つの半波長板６５．８６が用いられている
。この装置においては、半波長板６５はフーリエ変換面
３７において側波帯５２の径路内に配置され、半波長＠
６６はフーリエ変換面において側波帯５４の径路内に配
置される・半波長板６５．６６は、半波長板６５の軸か
半波長板６６の軸に対して・４５＠をなすように置かれ
る。
その結果、側波帯５２．５４は、入ってくるｒ −五の
偏光角にかかわらず、互いに直角に偏光せしめられる。
偏光角にかかわらず、互いに直角に偏光せしめられる。
これに関連して、＠７図の実施例の動作効率を安定する
ために、側波帯５２，５４は共に半波長板によ・つて遅
延せしめられて１両側波帯５２゜５４に対する径路の長
さか等しくされた対称的システムが構成されている。市
販されている安価なレーデは、偏光を生じないものとさ
れているが。
ために、側波帯５２，５４は共に半波長板によ・つて遅
延せしめられて１両側波帯５２゜５４に対する径路の長
さか等しくされた対称的システムが構成されている。市
販されている安価なレーデは、偏光を生じないものとさ
れているが。
実際には相異なる周波数のいくつかの線形偏光したビー
ムを放射する。第７図の実施例は、非偏光性レーデから
放射された各側波帯成分間の相殺的干渉を防止する。種
々の♂−ム成分は通常約５００ ＭＨｚ互いに離間して
いるので、２０ナノ秒より大きな積分時間を有する装置
においては、鎖成分間の一一ト作用は無視することがで
きる。このため第７図の実施例におい【は、偏光方向か
装置に対して整列していない非偏光性レーデな使用する
ことができる。
ムを放射する。第７図の実施例は、非偏光性レーデから
放射された各側波帯成分間の相殺的干渉を防止する。種
々の♂−ム成分は通常約５００ ＭＨｚ互いに離間して
いるので、２０ナノ秒より大きな積分時間を有する装置
においては、鎖成分間の一一ト作用は無視することがで
きる。このため第７図の実施例におい【は、偏光方向か
装置に対して整列していない非偏光性レーデな使用する
ことができる。
以上においては１本発明をここに開示された構成に関し
て述べてきたが１本発明は以上に行なわれた詳細によっ
て制限されるものではなく１本発明は、特許請求の範囲
内における修正または変更なも含んでいる。
て述べてきたが１本発明は以上に行なわれた詳細によっ
て制限されるものではなく１本発明は、特許請求の範囲
内における修正または変更なも含んでいる。
第１図は、ビットアドレスが可能な直線変調器を用いた
代表的な電気−光学的ラインプリンタの概略的雪面図、
第２図は、第１図に示されている電気−光学的ラインプ
リンタの概略的底平面図。 第３図は、第１図および第２図の電気−光学的ラインプ
リンタに用いられ【いるＣットアｒレス可能な線形変調
器の拡大側面図、第４図は、第３図に示されている変調
器の拡大底平面図、第５図は。 第３回に示されている変調器の周縁電界と元ビームとの
間の相互作用を示す概略的拡大部分端面図。 第６図は１本発明の干渉抑制装置を用いるととによって
改変された。第１図ないし第５図の電気−光学的ライン
プリンタの斜視図、および第７図は、本発明の別の干渉
抑制装置を用いるととによって改変された。第１図ない
し１１５図の電気−光学的ラインゾリンタの斜視図であ
る。 １２・・・・・・線形変調器、１３・・・・・・記鎌媒
体、１７・・・・・・電気−光学的基板、１１１１１−
１８！ｌ・・・・・・電極。 ２４・・・・・：平行光束、”３１・・・・・・−偉形
成光学装置、３２・・・・・・０次回折成分、３５・・
・・・・ビームストップ。 ５０・・う・・・平面偏光子、５２・・・・・・上側波
帯、５４・・・・・・下側波帯、５５．６５．６６・・
・半波長板。 代理人 浅 村 皓 外４名
代表的な電気−光学的ラインプリンタの概略的雪面図、
第２図は、第１図に示されている電気−光学的ラインプ
リンタの概略的底平面図。 第３図は、第１図および第２図の電気−光学的ラインプ
リンタに用いられ【いるＣットアｒレス可能な線形変調
器の拡大側面図、第４図は、第３図に示されている変調
器の拡大底平面図、第５図は。 第３回に示されている変調器の周縁電界と元ビームとの
間の相互作用を示す概略的拡大部分端面図。 第６図は１本発明の干渉抑制装置を用いるととによって
改変された。第１図ないし第５図の電気−光学的ライン
プリンタの斜視図、および第７図は、本発明の別の干渉
抑制装置を用いるととによって改変された。第１図ない
し１１５図の電気−光学的ラインゾリンタの斜視図であ
る。 １２・・・・・・線形変調器、１３・・・・・・記鎌媒
体、１７・・・・・・電気−光学的基板、１１１１１−
１８！ｌ・・・・・・電極。 ２４・・・・・：平行光束、”３１・・・・・・−偉形
成光学装置、３２・・・・・・０次回折成分、３５・・
・・・・ビームストップ。 ５０・・う・・・平面偏光子、５２・・・・・・上側波
帯、５４・・・・・・下側波帯、５５．６５．６６・・
・半波長板。 代理人 浅 村 皓 外４名
Claims (2)
- （１）電気−光学的変調器において、原画偉を表わす画
素ぎットから得られる画像露光ラインに沿つ【画像画素
間における暗領域の発生を防止する方法であって。 イ）実質的に平らなシート状の光束を発生させる段階。 口）該光束を該光束の幅全体にもたり前記画素ビットに
よって同時に変調することにより０次元京成分と上側波
帯光束成分および下側波帯光束成分とを発生させる段階
。 ハ）前記上側波帯成分および下側
波帯成分を記録媒体上に集束し、かう−記０次光束成分
を阻止することにより【該媒体上に前記画像画素を形成
する段階。 二）前記上側波帯光束成分および下側波帯成分の少なく
とも一方の偏光状態を変化させることＫよって前記上側
波帯光束成分および下側波帯光束成分の偏光方向が互い
に直交するようＫＬ、それＫよってそれらの間の相殺的
干渉およびその結果としての前記暗領域の形成を防止す
る段階を含む事を特徴とする画像画素間における暗領域
の発生を防止する方法。″・ - （２） シート状の光束を原画倭を表わす画素ビット
によって変調し、該画素Ｃットに応答した０次党束と少
なくとも１対の側波帯に生じる次数の光束とを選択的に
発生する電気−光学的変調器であって、前記０次元束の
径路内に介”在せしめられて該０次光束の通過を阻止す
るビームストップ装置と。 前記１対の側波′帯に生じる次数′の光束を記録媒体上
に結像させる光学装置と、前記画素ピット毎に伝送され
る元の位相を選択的に変化させる装置と。 前記１対の側波帯に生じる次数の光束の間の相殺的干渉
を防止する装置と、を備えた事を特徴とする画像画素間
における暗領域の発生を防止する装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US06/353,726 US4483596A (en) | 1982-03-01 | 1982-03-01 | Interface suppression apparatus and method for a linear modulator |
| US353726 | 1982-03-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58166322A true JPS58166322A (ja) | 1983-10-01 |
| JPH0374368B2 JPH0374368B2 (ja) | 1991-11-26 |
Family
ID=23390311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58028413A Granted JPS58166322A (ja) | 1982-03-01 | 1983-02-22 | 変調装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4483596A (ja) |
| EP (1) | EP0087970B1 (ja) |
| JP (1) | JPS58166322A (ja) |
| DE (1) | DE3378661D1 (ja) |
Families Citing this family (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4730331A (en) * | 1985-04-03 | 1988-03-08 | Xerox Corporation | Superluminescent LED source |
| US4638334A (en) * | 1985-04-03 | 1987-01-20 | Xerox Corporation | Electro-optic line printer with super luminescent LED source |
| US4940314A (en) * | 1985-05-13 | 1990-07-10 | Xerox Corporation | Variable wavelength discrete optical image bars having passively enhanced spatial addressing capacity |
| US4786918A (en) * | 1985-12-12 | 1988-11-22 | Xerox Corporation | Incoherent, optically uncoupled laser arrays for electro-optic line modulators and line printers |
| US4673953A (en) * | 1985-12-13 | 1987-06-16 | Xerox Corporation | Interpixel null suppression for optical image bars |
| US4718752A (en) * | 1985-12-23 | 1988-01-12 | Xerox Corporation | Interpixel null suppression for polarized optical image bars |
| US6303986B1 (en) | 1998-07-29 | 2001-10-16 | Silicon Light Machines | Method of and apparatus for sealing an hermetic lid to a semiconductor die |
| US6956878B1 (en) | 2000-02-07 | 2005-10-18 | Silicon Light Machines Corporation | Method and apparatus for reducing laser speckle using polarization averaging |
| US6707591B2 (en) | 2001-04-10 | 2004-03-16 | Silicon Light Machines | Angled illumination for a single order light modulator based projection system |
| US6782205B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-08-24 | Silicon Light Machines | Method and apparatus for dynamic equalization in wavelength division multiplexing |
| US6747781B2 (en) | 2001-06-25 | 2004-06-08 | Silicon Light Machines, Inc. | Method, apparatus, and diffuser for reducing laser speckle |
| US6829092B2 (en) | 2001-08-15 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Blazed grating light valve |
| US6800238B1 (en) | 2002-01-15 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | Method for domain patterning in low coercive field ferroelectrics |
| US6767751B2 (en) | 2002-05-28 | 2004-07-27 | Silicon Light Machines, Inc. | Integrated driver process flow |
| US6728023B1 (en) | 2002-05-28 | 2004-04-27 | Silicon Light Machines | Optical device arrays with optimized image resolution |
| US6822797B1 (en) | 2002-05-31 | 2004-11-23 | Silicon Light Machines, Inc. | Light modulator structure for producing high-contrast operation using zero-order light |
| US6829258B1 (en) | 2002-06-26 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Rapidly tunable external cavity laser |
| US6714337B1 (en) | 2002-06-28 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Method and device for modulating a light beam and having an improved gamma response |
| US6813059B2 (en) | 2002-06-28 | 2004-11-02 | Silicon Light Machines, Inc. | Reduced formation of asperities in contact micro-structures |
| US6801354B1 (en) | 2002-08-20 | 2004-10-05 | Silicon Light Machines, Inc. | 2-D diffraction grating for substantially eliminating polarization dependent losses |
| US6712480B1 (en) | 2002-09-27 | 2004-03-30 | Silicon Light Machines | Controlled curvature of stressed micro-structures |
| US6987600B1 (en) | 2002-12-17 | 2006-01-17 | Silicon Light Machines Corporation | Arbitrary phase profile for better equalization in dynamic gain equalizer |
| US6806997B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-10-19 | Silicon Light Machines, Inc. | Patterned diffractive light modulator ribbon for PDL reduction |
| US6829077B1 (en) | 2003-02-28 | 2004-12-07 | Silicon Light Machines, Inc. | Diffractive light modulator with dynamically rotatable diffraction plane |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS565523A (en) * | 1979-06-21 | 1981-01-21 | Xerox Corp | Acoustoooptical modulator |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3295911A (en) * | 1963-03-15 | 1967-01-03 | Bell Telephone Labor Inc | Semiconductor light modulators |
| US3440424A (en) * | 1964-07-16 | 1969-04-22 | Gen Telephone & Elect | Optical system for transmitting and receiving two independent signals over a single electromagnetic carrier wherein the rotational orientation of the receiver is independent of the angular position of the transmitter |
| US3510198A (en) * | 1967-05-17 | 1970-05-05 | North American Rockwell | Polarizing beam-splitter having improved contrast ratio |
| US3684350A (en) * | 1970-08-17 | 1972-08-15 | Westinghouse Electric Corp | Light beam polarization modulator |
| US3722982A (en) * | 1971-10-26 | 1973-03-27 | Westinghouse Electric Corp | Coherent optical processing method and system having improved signal-to-noise ratio utilizing polarizing filters |
| US4019151A (en) * | 1974-04-26 | 1977-04-19 | Kms Fusion, Inc. | Multiple pass laser amplifier system |
| DE2500380A1 (de) * | 1975-01-07 | 1976-07-08 | Siemens Ag | Verfahren zur hochaufloesenden nichtmechanischen lichtstrahlablenkung |
| US4053763A (en) * | 1976-05-25 | 1977-10-11 | The United States Of America As Represented By The United States Energy Research And Development Administration | Method and apparatus for pulse stacking |
-
1982
- 1982-03-01 US US06/353,726 patent/US4483596A/en not_active Expired - Fee Related
-
1983
- 1983-02-22 JP JP58028413A patent/JPS58166322A/ja active Granted
- 1983-02-28 EP EP83301058A patent/EP0087970B1/en not_active Expired
- 1983-02-28 DE DE8383301058T patent/DE3378661D1/de not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS565523A (en) * | 1979-06-21 | 1981-01-21 | Xerox Corp | Acoustoooptical modulator |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3378661D1 (en) | 1989-01-12 |
| EP0087970A3 (en) | 1985-09-18 |
| JPH0374368B2 (ja) | 1991-11-26 |
| US4483596A (en) | 1984-11-20 |
| EP0087970A2 (en) | 1983-09-07 |
| EP0087970B1 (en) | 1988-12-07 |
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