JPS6176658A - 溶融金属のめつき方法 - Google Patents
溶融金属のめつき方法Info
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- JPS6176658A JPS6176658A JP59199178A JP19917884A JPS6176658A JP S6176658 A JPS6176658 A JP S6176658A JP 59199178 A JP59199178 A JP 59199178A JP 19917884 A JP19917884 A JP 19917884A JP S6176658 A JPS6176658 A JP S6176658A
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- JP
- Japan
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- strip
- heated
- zinc
- plating
- molten metal
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/12—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the method of spraying
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C4/00—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
- C23C4/04—Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge characterised by the coating material
- C23C4/06—Metallic material
- C23C4/08—Metallic material containing only metal elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は溶融金属のめつき方法に係り、特に装置がコン
パクトで表面品質の良好なめっきが得られるめっき方法
に関し、溶融金属めっきの分野に利用される。
パクトで表面品質の良好なめっきが得られるめっき方法
に関し、溶融金属めっきの分野に利用される。
〔−従来の技術ｊ
溶融金属のめつきは従来から広く行われているが、その
代表として従来の溶融亜鉛めつき一方法を第５図により
説明する。ストリップ２は焼鈍炉４内で加熱され、デフ
１／クターロール６、ジンクロール８で案内され溶融亜
鉛１０を収容した大きな浸漬槽１２に導入されてめっき
される。めっきされたストリップ２は上方に引上げられ
めっき目付量をコントロールするため浴面直上でワイパ
ー１４で空気吹付けをされるが、この従来法には次の如
き欠点がある。
代表として従来の溶融亜鉛めつき一方法を第５図により
説明する。ストリップ２は焼鈍炉４内で加熱され、デフ
１／クターロール６、ジンクロール８で案内され溶融亜
鉛１０を収容した大きな浸漬槽１２に導入されてめっき
される。めっきされたストリップ２は上方に引上げられ
めっき目付量をコントロールするため浴面直上でワイパ
ー１４で空気吹付けをされるが、この従来法には次の如
き欠点がある。
（イ） ワイパー１４による目付量の調整は、空気を吹
付けるので亜鉛がスゴラソノユとなり飛散し、これがめ
つき面に付着し品質を低下する。またラインスピードを
上げると亜鉛の引上げ量が増加し、スプラッシュが増加
するので、ラインスピードをある程度から上げることが
できない。
付けるので亜鉛がスゴラソノユとなり飛散し、これがめ
つき面に付着し品質を低下する。またラインスピードを
上げると亜鉛の引上げ量が増加し、スプラッシュが増加
するので、ラインスピードをある程度から上げることが
できない。
（ロ） 浸漬槽１２では多量の金属を溶解するので、め
っき金属や光沢を変更するため浴組成を変えろ際、多大
の時間とエネルギーの損失を招く。
っき金属や光沢を変更するため浴組成を変えろ際、多大
の時間とエネルギーの損失を招く。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、めっ
きに必要な最小限の金属を溶解し空気によるワイパーを
必要としない溶融金属のめつき方ン去を提供するにある
。
きに必要な最小限の金属を溶解し空気によるワイパーを
必要としない溶融金属のめつき方ン去を提供するにある
。
〔問題点を解決するための手段および作用〕本発明の要
旨とするところは次の如くである。
旨とするところは次の如くである。
すなわら、溶融しためっき金属のストリップ表面へのめ
つき方法において、前記めっき金属を溶解する段階と、
前記溶融金属を所定温度に加熱した前記ストリップに霧
化噴射する段階と、前記噴射された溶融金属が前記スト
リップ表面に付着後固化する前に前記金属の融点以上に
加熱したならしロールで前記付着した溶融金属の表面を
平滑化する段階と、を有して成り、上記すべての段階を
不活性ガス雰囲気中で行うことを特徴とする溶融金属の
めっき方法である。
つき方法において、前記めっき金属を溶解する段階と、
前記溶融金属を所定温度に加熱した前記ストリップに霧
化噴射する段階と、前記噴射された溶融金属が前記スト
リップ表面に付着後固化する前に前記金属の融点以上に
加熱したならしロールで前記付着した溶融金属の表面を
平滑化する段階と、を有して成り、上記すべての段階を
不活性ガス雰囲気中で行うことを特徴とする溶融金属の
めっき方法である。
本発明の詳細を亜鉛めつきの実施例により説明する。ま
ず、本発明実施例で使用する装置を第１図により説明す
る。
ず、本発明実施例で使用する装置を第１図により説明す
る。
雰囲気ガス室１６の中央を垂直にストリップ２が通板さ
れ、ストリップ２の両側に溶解槽１８が設けられ、溶解
槽１８の上部は圧力室２０となっており、ストリップ２
に面する両面にはスリットノズル２２が設けられている
。溶解槽１８は従来の如く浸漬ロールが内在しないので
噴射量に相当したコンパクトなものでよい。
れ、ストリップ２の両側に溶解槽１８が設けられ、溶解
槽１８の上部は圧力室２０となっており、ストリップ２
に面する両面にはスリットノズル２２が設けられている
。溶解槽１８は従来の如く浸漬ロールが内在しないので
噴射量に相当したコンパクトなものでよい。
溶解槽１８の上部には一組の例えば径５０〜１００胴の
ならしロール２４が設けられている。
ならしロール２４が設けられている。
ならしロール２４は加熱が可能で、めっき金属とのねれ
性の悪いことが必要で、例えばセラミックなど＃４熱性
とぬれ性の点から望ましい。また、ならしロール２４の
配置は第１図の如（相対する場合もあるが、第２図の如
く左右の高さを変えて通板するストリップの板厚の変動
に備えることもできる。
性の悪いことが必要で、例えばセラミックなど＃４熱性
とぬれ性の点から望ましい。また、ならしロール２４の
配置は第１図の如（相対する場合もあるが、第２図の如
く左右の高さを変えて通板するストリップの板厚の変動
に備えることもできる。
上記の如き装置を使用する溶融亜鉛めっきの実施例を説
明する。Ｎ２ガスの頗き不活性ガス１５を充填した雰囲
気ガス室１６を５００℃に加熱されたストリップ２が垂
直に上昇している。溶解槽１８において亜鉛を４８０℃
に溶融し上部の圧力室２０にＮ２ガス１５て１〜１０ｋ
ｇ／ｅ＋＋ｆの圧力をかけて下部のスリットノズル２２
から溶融亜鉛１０を押し出す。押し出された溶融亜鉛１
０は不活性ガス１５（例Ｎ２ガス）により霧化され５０
０℃に加熱されたストリップ２に付着する。ストリップ
２に付着した亜鉛は１３図に示す如く表面に凹凸の亜鉛
面２８が存在し、スｈ ＩＪツブ２の露出面３０も存在
する。次に亜鉛の固化前に亜鉛の融点以上すなわち約５
００℃に加熱されたならしロール２４で表面を平滑化す
ると、第４図に示す如くストリップ２０表面はならされ
た亜鉛面３２となる。
明する。Ｎ２ガスの頗き不活性ガス１５を充填した雰囲
気ガス室１６を５００℃に加熱されたストリップ２が垂
直に上昇している。溶解槽１８において亜鉛を４８０℃
に溶融し上部の圧力室２０にＮ２ガス１５て１〜１０ｋ
ｇ／ｅ＋＋ｆの圧力をかけて下部のスリットノズル２２
から溶融亜鉛１０を押し出す。押し出された溶融亜鉛１
０は不活性ガス１５（例Ｎ２ガス）により霧化され５０
０℃に加熱されたストリップ２に付着する。ストリップ
２に付着した亜鉛は１３図に示す如く表面に凹凸の亜鉛
面２８が存在し、スｈ ＩＪツブ２の露出面３０も存在
する。次に亜鉛の固化前に亜鉛の融点以上すなわち約５
００℃に加熱されたならしロール２４で表面を平滑化す
ると、第４図に示す如くストリップ２０表面はならされ
た亜鉛面３２となる。
本発明のめっきを不活性ガス１５の雰囲気中で行うのは
、ストリップ２が加熱されているので、もし大気中であ
れば表面が酸化しテンパーカラーを生してめっき密着性
が低下し、また噴射された溶融亜鉛１０が酸化されてな
らしロール２４でならしても平滑面とならないからであ
る。なお不活性ガスとしてはＮ２、八「等を使用できる
。
、ストリップ２が加熱されているので、もし大気中であ
れば表面が酸化しテンパーカラーを生してめっき密着性
が低下し、また噴射された溶融亜鉛１０が酸化されてな
らしロール２４でならしても平滑面とならないからであ
る。なお不活性ガスとしてはＮ２、八「等を使用できる
。
本実施例においては目付ｉ４５〜３００ｇ／ｍ″、厚み
６〜４０．ｕの平滑な亜鉛めっきを得ることができた。
６〜４０．ｕの平滑な亜鉛めっきを得ることができた。
本発明は上記実施例からも明らかな如く、不活性ガス雰
囲気中で加熱されたストリップに溶融しためつき金属を
霧化噴射し固化前に表面を加熱したならしロールで平滑
化することにより、従来の溶融金属めっき法に比し次の
如き効果をあげることができた。
囲気中で加熱されたストリップに溶融しためつき金属を
霧化噴射し固化前に表面を加熱したならしロールで平滑
化することにより、従来の溶融金属めっき法に比し次の
如き効果をあげることができた。
（イ） 溶融金属量が少ないので、浴組成を変更するの
が容易であり、かつ溶融エネルギーの損失が少ない。
が容易であり、かつ溶融エネルギーの損失が少ない。
（ロ） 空気吹付ワイパーがないのでラインスピードの
増加が可能であり、かつ従来の如き付着による品質低下
がない。
増加が可能であり、かつ従来の如き付着による品質低下
がない。
（樽 ならしロールを使用するのでめっき面が滑らかで
ある。
ある。
第１図は本発明法で使用するめつき装置の断面図、第２
図は本発明法で使用するならしロールの変形配置を示す
断面図、第３図は本発明法における噴射直後の拡大ス１
． ＩＪツブ断面図、第４図は本発明法におけるならし
ロールによる平滑後の拡大ストリップ断面図、第５図は
従来の浸漬式溶融金属めっき装置の断面図である。
図は本発明法で使用するならしロールの変形配置を示す
断面図、第３図は本発明法における噴射直後の拡大ス１
． ＩＪツブ断面図、第４図は本発明法におけるならし
ロールによる平滑後の拡大ストリップ断面図、第５図は
従来の浸漬式溶融金属めっき装置の断面図である。
Claims (1)
- （１）溶融しためっき金属のストリップ表面へのめっき
方法において、前記めっき金属を溶解する段階と、前記
溶融金属を所定温度に加熱した前記ストリップに霧化噴
射する段階と、前記噴射された溶融金属が前記ストリッ
プ表面に付着後固化する前に前記金属の融点以上に加熱
したならしロールで前記付着した溶融金属の表面を平滑
化する段階と、を有して成り、上記すべての段階を不活
性ガス雰囲気中で行うことを特徴とする溶融金属のめつ
き方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59199178A JPS6176658A (ja) | 1984-09-22 | 1984-09-22 | 溶融金属のめつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59199178A JPS6176658A (ja) | 1984-09-22 | 1984-09-22 | 溶融金属のめつき方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6176658A true JPS6176658A (ja) | 1986-04-19 |
Family
ID=16403442
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59199178A Pending JPS6176658A (ja) | 1984-09-22 | 1984-09-22 | 溶融金属のめつき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6176658A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2748278A1 (fr) * | 1996-05-02 | 1997-11-07 | Pont A Mousson | Procede et installation de metallisation de tuyaux en fonte |
-
1984
- 1984-09-22 JP JP59199178A patent/JPS6176658A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2748278A1 (fr) * | 1996-05-02 | 1997-11-07 | Pont A Mousson | Procede et installation de metallisation de tuyaux en fonte |
| WO1997042355A1 (fr) * | 1996-05-02 | 1997-11-13 | Pont-A-Mousson S.A. | Procede et installation de metallisation de tuyaux en fonte |
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