JPS6173908A - 光結合素子 - Google Patents
光結合素子Info
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- JPS6173908A JPS6173908A JP19715984A JP19715984A JPS6173908A JP S6173908 A JPS6173908 A JP S6173908A JP 19715984 A JP19715984 A JP 19715984A JP 19715984 A JP19715984 A JP 19715984A JP S6173908 A JPS6173908 A JP S6173908A
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- optical waveguide
- substrate
- coupling
- optical
- waveguide
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Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光通信における光ファイバ或はレンズと他の
光導波路との結合部のような、光の入出力部に使用され
る光結合素子に関する。
光導波路との結合部のような、光の入出力部に使用され
る光結合素子に関する。
従来例の構成とその問題点
光ファイバを利用した通信が実用化され、この新しい技
術革新の進む中で、個々の単一機能を有する光要素部品
から複数の機能を兼ね備える光回路が要望され、その開
発が精力的に進められている。しかし、従来の光回路に
おける最大の問題点は、光通信に応用した場合、光ファ
イバとの光結合が困蛯であるということである。
術革新の進む中で、個々の単一機能を有する光要素部品
から複数の機能を兼ね備える光回路が要望され、その開
発が精力的に進められている。しかし、従来の光回路に
おける最大の問題点は、光通信に応用した場合、光ファ
イバとの光結合が困蛯であるということである。
光ファイバ或はレンズと光導波路との光結合は、従来第
１図のような構成で行なわれている。即ち、光ファイバ
１と基板２上の光導波路３との研磨された端面４，５を
密着させて、光フアイバ１内の導波光２．ヲ光導波路３
内に伝播させる構成である。この場合、導波光２１の強
度分布工、と光導波路３内の導波光２゜の強度分布Ｉ２
を一致させると、１００％の光結合効率が得られること
が理論的に説明されておシ、現実には、強度分布を一致
させるために、光７アイバ１と光導波路３の開口数をほ
ぼ等しくさせることによＩ）ｓｏ％以上の光結合効率が
得られたと報告されている。レンズと光４波路との光結
合も同様な条件で光結合がなされている。
１図のような構成で行なわれている。即ち、光ファイバ
１と基板２上の光導波路３との研磨された端面４，５を
密着させて、光フアイバ１内の導波光２．ヲ光導波路３
内に伝播させる構成である。この場合、導波光２１の強
度分布工、と光導波路３内の導波光２゜の強度分布Ｉ２
を一致させると、１００％の光結合効率が得られること
が理論的に説明されておシ、現実には、強度分布を一致
させるために、光７アイバ１と光導波路３の開口数をほ
ぼ等しくさせることによＩ）ｓｏ％以上の光結合効率が
得られたと報告されている。レンズと光４波路との光結
合も同様な条件で光結合がなされている。
しかし、光フアイバ１内の導波光２１０強度分布１１と
光導波路３内の導波光ｐ２の強度分布工２が異なる場合
には、導波光２１は光導波路の端面６で輻射光Ｑ３と導
波光１２とに分離し、結合効率が低下する。
光導波路３内の導波光ｐ２の強度分布工２が異なる場合
には、導波光２１は光導波路の端面６で輻射光Ｑ３と導
波光１２とに分離し、結合効率が低下する。
このような光ファイバ１と光導波路３における光強反分
布の一致を改善するために、従来第２図に示すような構
成が提案されている。即ち、光導波路３の膜厚が薄く、
光ファイバ１のコア径と一致しない之めに光強度分布が
異なシ、光結合が良好に得られない場合、光導波路３の
一端をテーパ１２にして形成した主光導波路１３を設け
、その上に少なくとも前記テーパ部に覆うように主光導
波路１３よ）も小さい屈折率を有する透明材料を積層し
て形成した結合光導波路１４を設け、且つ基板２と結合
光導波路１４の導波光の入射する側の端面１５と基板端
面１６が同一平面上にあるように形成して、この面に光
ファイバ１の端面４？密着させて光結合するものである
。
布の一致を改善するために、従来第２図に示すような構
成が提案されている。即ち、光導波路３の膜厚が薄く、
光ファイバ１のコア径と一致しない之めに光強度分布が
異なシ、光結合が良好に得られない場合、光導波路３の
一端をテーパ１２にして形成した主光導波路１３を設け
、その上に少なくとも前記テーパ部に覆うように主光導
波路１３よ）も小さい屈折率を有する透明材料を積層し
て形成した結合光導波路１４を設け、且つ基板２と結合
光導波路１４の導波光の入射する側の端面１５と基板端
面１６が同一平面上にあるように形成して、この面に光
ファイバ１の端面４？密着させて光結合するものである
。
このような結合方法の改善にょシ、主光導波路寸法が、
光ファイバのコア径と比較して極端に小さい場合にも８
０％をこえる高い結合効率が得られるようになっ之。
光ファイバのコア径と比較して極端に小さい場合にも８
０％をこえる高い結合効率が得られるようになっ之。
しかし、このａな光結合素子においては、光の厚み方向
の一次元閉じ込めだけがなされるだけで、面内方向を含
めた二次元光閉じ込めがなされない光スィッチ、光変調
器や光ブランチングデバイス等々の光回路において、二
次元光閉じ込めは極めて重要な点であり、この観点から
二次元光閉じ込めがなされる、いわゆる三次元薄膜光導
波路への高効率光結合が望まれている。
の一次元閉じ込めだけがなされるだけで、面内方向を含
めた二次元光閉じ込めがなされない光スィッチ、光変調
器や光ブランチングデバイス等々の光回路において、二
次元光閉じ込めは極めて重要な点であり、この観点から
二次元光閉じ込めがなされる、いわゆる三次元薄膜光導
波路への高効率光結合が望まれている。
一方、三次元薄膜光導波路への高効率光結合方法の一つ
として、従来はプリズムを用いた結合方法が知られてお
９８０％以上の結合効率が得られているが、プリズムの
光導波路への圧着回定、および光７ア”イバやレンズ等
の固定等において、製作性と信頼性の面で難点を有して
いる。
として、従来はプリズムを用いた結合方法が知られてお
９８０％以上の結合効率が得られているが、プリズムの
光導波路への圧着回定、および光７ア”イバやレンズ等
の固定等において、製作性と信頼性の面で難点を有して
いる。
発明の目的
本発明は、三次元薄膜光導波路への、光ファイバあるい
はレンズを用いた高結合効率端面結合方式の光結合素子
を提供するものである。
はレンズを用いた高結合効率端面結合方式の光結合素子
を提供するものである。
発明の構成
本発明は、光ファイバ或はレンズを用いて、三次元光導
波路へ直接結合を行う方式の光結合素子において、基板
の一端から徐々に厚くなったテーパ部を有する主先導波
路の上に、前記主光導波路よりも屈折率の小さな透明材
料から成る結合光導波路を、少なくとも前記テーパ部に
重なるように主先導波路上に積層し、前記主先導波路よ
り屈折率が小さく、前記結合光導波路よりも大きな屈折
率を有する透明材料から成り、前記基板の一端からはじ
まる帯状のストリツプと、前記結合光導波路上に、前記
結合光導波路より屈折率の小さな透明材料からなるクラ
ッド層とを具え、前記結合光導波路と前記主先導波路の
面内光閉じ込めを、前記帯状のスＩＩツブにより実現し
、前記基板の一端における前記基板と前記結合光導波路
の端面か同一平面内に設けられたことを特徴とする光結
合素子を提供する。
波路へ直接結合を行う方式の光結合素子において、基板
の一端から徐々に厚くなったテーパ部を有する主先導波
路の上に、前記主光導波路よりも屈折率の小さな透明材
料から成る結合光導波路を、少なくとも前記テーパ部に
重なるように主先導波路上に積層し、前記主先導波路よ
り屈折率が小さく、前記結合光導波路よりも大きな屈折
率を有する透明材料から成り、前記基板の一端からはじ
まる帯状のストリツプと、前記結合光導波路上に、前記
結合光導波路より屈折率の小さな透明材料からなるクラ
ッド層とを具え、前記結合光導波路と前記主先導波路の
面内光閉じ込めを、前記帯状のスＩＩツブにより実現し
、前記基板の一端における前記基板と前記結合光導波路
の端面か同一平面内に設けられたことを特徴とする光結
合素子を提供する。
実施料の説明
第３図〜第６図は本発明の実施料の一つを示す。
第３図は断面図を示し、第４図は端面Ａを示し、第６図
は断面Ｂ −Ｂ／を示す。光ファイバ１のコアを伝搬す
る光の強度分布■、を有する導波光Ｑ１は、結合光導波
路２４と結合し、導波光Ｑ８となる。
は断面Ｂ −Ｂ／を示す。光ファイバ１のコアを伝搬す
る光の強度分布■、を有する導波光Ｑ１は、結合光導波
路２４と結合し、導波光Ｑ８となる。
この時、結合光導波路より屈折率の大きな帯状のストリ
ップ２５により、面内閉じ込めかおこなわれ、ストリッ
プ２６にそ１て、β８ＩＩ′ｉ伝搬される。
ップ２５により、面内閉じ込めかおこなわれ、ストリッ
プ２６にそ１て、β８ＩＩ′ｉ伝搬される。
この場合、２ の光強度分布ｌ８ｆｃ１１と一致させる
ことによりはぼ１００チに近い結合効率が得られる。次
に２８は、ストリップ２６にそってテーパ部２２のｚ＝
Ｚ２の点において主先導波路２３へと伝搬し導波光１９
となる。導波光ａ９はストリップ２６により面内閉じ込
めがなされ、ストリップ２５に沿い伝搬する。この場合
、結合光導波路から主光導波路への光の結合は、導波光
の実効屈折率がストリップ２６の屈折率に等しい点（２
＝２２）で完了し、はぼ１００％に近い結合がおこって
いるものと思われる。
ことによりはぼ１００チに近い結合効率が得られる。次
に２８は、ストリップ２６にそってテーパ部２２のｚ＝
Ｚ２の点において主先導波路２３へと伝搬し導波光１９
となる。導波光ａ９はストリップ２６により面内閉じ込
めがなされ、ストリップ２５に沿い伝搬する。この場合
、結合光導波路から主光導波路への光の結合は、導波光
の実効屈折率がストリップ２６の屈折率に等しい点（２
＝２２）で完了し、はぼ１００％に近い結合がおこって
いるものと思われる。
次に面内方向の光の閉じ込めについての原理を簡単に述
べる。第４図において、ストリップ２５のある領域工は
それ以外の領域「よりも実効的に屈折率が高く、この屈
折率差ΔＮ１により面内方向に光が閉じ込められる。領
域Ｉと領域■のそれぞれの実効屈折率ｆ Ｎ １ 、
Ｎ…（＝Ｎ■−ΔＮ１）とすると、面内方向にシングル
モードとする条件は、ここでｋＯ＝２π／λ 、λけ真
空中の波長で与えられる。第５図においても同様の原理
により面内閉じ込めか行われる。第４図の領域■や領域
■も導波しうるが、これは面内閉じこめのない二次元導
波モードであシ、通常スラブモードと呼び導波モードと
区別する。
べる。第４図において、ストリップ２５のある領域工は
それ以外の領域「よりも実効的に屈折率が高く、この屈
折率差ΔＮ１により面内方向に光が閉じ込められる。領
域Ｉと領域■のそれぞれの実効屈折率ｆ Ｎ １ 、
Ｎ…（＝Ｎ■−ΔＮ１）とすると、面内方向にシングル
モードとする条件は、ここでｋＯ＝２π／λ 、λけ真
空中の波長で与えられる。第５図においても同様の原理
により面内閉じ込めか行われる。第４図の領域■や領域
■も導波しうるが、これは面内閉じこめのない二次元導
波モードであシ、通常スラブモードと呼び導波モードと
区別する。
次に、テーパ部での光波の結合について、簡単に説明す
る。第６図は、導波モードとスラブモードの実効屈折率
の端面（Ｚ＝ｏ）からの距離による変化を示す。同図に
おいて、光ファイバから結合光導波路に結合した光の大
部分は伝搬定数ｋｏＮ１で伝般し、残シの光の一部はｋ
ｏ Ｎ ｎの伝搬定数を持つスラブモードとなって伝
搬する。テーパ２２の始まり（Ｚ＝２１）からテーパ２
２の終わり（Ｚ＝２３）まで実効屈折率が増加する。２
＝ ２１の点から導波光は主導波路のテーパ部２２に
入って行き、導波光の実効屈折率がストリップ２６の屈
折率に等しくなる点（Ｚ；Ｚ２）で最大となシ、ＺンＺ
２では、主光導波路のストリップのある領域に光が閉じ
込められて伝搬する。スラブモードは実効屈折率が結合
光導波路２４の屈折率ｎ９に等しくなる時点で結合が完
了する。
る。第６図は、導波モードとスラブモードの実効屈折率
の端面（Ｚ＝ｏ）からの距離による変化を示す。同図に
おいて、光ファイバから結合光導波路に結合した光の大
部分は伝搬定数ｋｏＮ１で伝般し、残シの光の一部はｋ
ｏ Ｎ ｎの伝搬定数を持つスラブモードとなって伝
搬する。テーパ２２の始まり（Ｚ＝２１）からテーパ２
２の終わり（Ｚ＝２３）まで実効屈折率が増加する。２
＝ ２１の点から導波光は主導波路のテーパ部２２に
入って行き、導波光の実効屈折率がストリップ２６の屈
折率に等しくなる点（Ｚ；Ｚ２）で最大となシ、ＺンＺ
２では、主光導波路のストリップのある領域に光が閉じ
込められて伝搬する。スラブモードは実効屈折率が結合
光導波路２４の屈折率ｎ９に等しくなる時点で結合が完
了する。
テーパ部２２は波長にくらべてゆるやかなテーパであれ
ば良く、テーパ角は基板儂折率ｎ３ ）あるいはクラッ
ド層（屈折率ｎｃ）にもれない条件により与えられ次式
で与えられる。
ば良く、テーパ角は基板儂折率ｎ３ ）あるいはクラッ
ド層（屈折率ｎｃ）にもれない条件により与えられ次式
で与えられる。
ｎｆｃｏｓ［θ ＋ｓｉｎ （ｃｏｓ（θｅｆｆ＋θ
１）１１＞ｎＳ’ ｎｆ ｎ ｇ ＣＯＳ （θｅｆｆ＋２０１−０２ ） ＞
ｎ ｃここで、θｅｆｆは結合光導波路を伝搬してくる
導波光の実効屈折率、ｎｆは主光導波路の屈折率θ１（
ｌ−ｊ主光導波路のテーパ部の基板に対する傾きで、θ
２は結合光導波路の基板に対する傾き角である。
１）１１＞ｎＳ’ ｎｆ ｎ ｇ ＣＯＳ （θｅｆｆ＋２０１−０２ ） ＞
ｎ ｃここで、θｅｆｆは結合光導波路を伝搬してくる
導波光の実効屈折率、ｎｆは主光導波路の屈折率θ１（
ｌ−ｊ主光導波路のテーパ部の基板に対する傾きで、θ
２は結合光導波路の基板に対する傾き角である。
次に更に具体的な例を挙げて説明する。まず、電気光学
材料として知られるＰＬＺＴ系薄模をサファイア基板２
上にマグネトロンスパッタ法でエピタキシャル成長させ
て膜厚０．４μｍの光導波路を形成する。ＰＬＺＴ系薄
膜全薄膜率が２．６と大きく、可視光領域でこれ以上大
きい屈折率の材料をサファイア基板上に積層することは
現在のところ報告されていない。又、ＰＩ、ＺＴ系厚薄
膜通学のレンズでの集光径の限界とされる１μｍ、ある
いは光ファイバのコア径６μｍまで膜厚を増加させるこ
とは、蒸着時間が３時間以上もかかり、しかもエピタキ
シャル温度がｅｏｏｃｓ度と高いため、内部歪み等によ
り光伝播損が増加し、光集積回路用には適さない。従っ
てこのような薄い例えば０．４μｍの膜厚のＰＬＺＴ系
薄模の端面を研磨し、そのまま＝ｙ７径４ ｐ ｍ （
Ｈｅ −Ｎ ｅレーザ０．６３３μｍ）の光ファイバと
光結合させた場合、僅か１チの光結合が得られるに過き
゛ない。
材料として知られるＰＬＺＴ系薄模をサファイア基板２
上にマグネトロンスパッタ法でエピタキシャル成長させ
て膜厚０．４μｍの光導波路を形成する。ＰＬＺＴ系薄
膜全薄膜率が２．６と大きく、可視光領域でこれ以上大
きい屈折率の材料をサファイア基板上に積層することは
現在のところ報告されていない。又、ＰＩ、ＺＴ系厚薄
膜通学のレンズでの集光径の限界とされる１μｍ、ある
いは光ファイバのコア径６μｍまで膜厚を増加させるこ
とは、蒸着時間が３時間以上もかかり、しかもエピタキ
シャル温度がｅｏｏｃｓ度と高いため、内部歪み等によ
り光伝播損が増加し、光集積回路用には適さない。従っ
てこのような薄い例えば０．４μｍの膜厚のＰＬＺＴ系
薄模の端面を研磨し、そのまま＝ｙ７径４ ｐ ｍ （
Ｈｅ −Ｎ ｅレーザ０．６３３μｍ）の光ファイバと
光結合させた場合、僅か１チの光結合が得られるに過き
゛ない。
本発明は、これを改善し、前記０．４μｍのＰＬＺＴ系
薄膜全薄膜研磨の場合のいわゆる「だれ」金利用したシ
、タングステン薄板をマスクにしてＰＬＺＴ系薄膜企ス
パッタすることにより、およそ１／１αカのテーバ部２
２を有する主光導波路２３とした後、フォトリングラフ
ィ技術を用い、主光導波路２３上にマグネトロンスパッ
タ法により酸化タンタルのスｌ−１）ツブ１５００人程
度の厚さで幅４μｍに形成しその上に、酸化タンタルに
アルミニウムをドープすることにより屈折率を低げた薄
膜をマグネトロンスパッタ法により室温で３μｍ蒸着さ
せ結合光導波路とし、その上に、更に屈折率の低いアル
ミニウムドープ酸化タンタルを２μｍ形成し、次にその
端面２７をダイヤモンドペーストで研磨し、結合光導波
路２４を作製するものである。
薄膜全薄膜研磨の場合のいわゆる「だれ」金利用したシ
、タングステン薄板をマスクにしてＰＬＺＴ系薄膜企ス
パッタすることにより、およそ１／１αカのテーバ部２
２を有する主光導波路２３とした後、フォトリングラフ
ィ技術を用い、主光導波路２３上にマグネトロンスパッ
タ法により酸化タンタルのスｌ−１）ツブ１５００人程
度の厚さで幅４μｍに形成しその上に、酸化タンタルに
アルミニウムをドープすることにより屈折率を低げた薄
膜をマグネトロンスパッタ法により室温で３μｍ蒸着さ
せ結合光導波路とし、その上に、更に屈折率の低いアル
ミニウムドープ酸化タンタルを２μｍ形成し、次にその
端面２７をダイヤモンドペーストで研磨し、結合光導波
路２４を作製するものである。
以上の構成により、コア径４μｍの光ファイバと光結合
させた場合、７０％以上の結合効率が得られることが確
認され之。また、導波光の強度分布を、光ファイバと反
対側の端面のニアフィールドパターンを観測することに
より試べた結果ストリップ直下部分のＰＬＺＴ系薄膜の
主光導波路部分に９ｏ％以上の光パワーが閉じこめられ
ていることが確認され、三次元導波が良好に行われてい
ることが確認された。
させた場合、７０％以上の結合効率が得られることが確
認され之。また、導波光の強度分布を、光ファイバと反
対側の端面のニアフィールドパターンを観測することに
より試べた結果ストリップ直下部分のＰＬＺＴ系薄膜の
主光導波路部分に９ｏ％以上の光パワーが閉じこめられ
ていることが確認され、三次元導波が良好に行われてい
ることが確認された。
上述の実施例ではストリップ２５．結合光導波路２４お
よびクラッド層２６を構成する透明材料として酸化メン
タルおよびアルミニウムドープ酸化タンタルを使用した
例を示し之が、ストリップ２５と結合光導波路２４の透
明材料はその屈折率が基板より大きく、主光導波路より
も小さいものであればよく、透明材料は酸化タンタルの
ほか、酸化チタン、酸化イツトリウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化ランタンおよび
酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸
化ゲルマニウム等の酸化物や窒化ケイ素等の窒化物を積
層することにより光伝播損失も少なく、光結合も良好な
光結合素子が得られることが確認された。
よびクラッド層２６を構成する透明材料として酸化メン
タルおよびアルミニウムドープ酸化タンタルを使用した
例を示し之が、ストリップ２５と結合光導波路２４の透
明材料はその屈折率が基板より大きく、主光導波路より
も小さいものであればよく、透明材料は酸化タンタルの
ほか、酸化チタン、酸化イツトリウム、酸化ジルコニウ
ム、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化ランタンおよび
酸化アルミニウム、酸化ケイ素、酸化マグネシウム、酸
化ゲルマニウム等の酸化物や窒化ケイ素等の窒化物を積
層することにより光伝播損失も少なく、光結合も良好な
光結合素子が得られることが確認された。
また、クラッド層は別に設ける必要はなく、この場合に
は、空気（屈折率１）がクラッド層となる。
は、空気（屈折率１）がクラッド層となる。
ま之、ストリップ２６は、本実施例では主光導波路２３
の上に接して形成した例を示したが、基板２と主光導波
路２３との間にあっても良く、結合光導波路２４の中に
埋めこまれていたり、結合光導波路２４の上に積層して
あっても、面内方向光閉じ込めが行なわれる効果にかわ
シはない。
の上に接して形成した例を示したが、基板２と主光導波
路２３との間にあっても良く、結合光導波路２４の中に
埋めこまれていたり、結合光導波路２４の上に積層して
あっても、面内方向光閉じ込めが行なわれる効果にかわ
シはない。
以上の実施例は、光ファイバとの結合について説明した
けれども、本発明は単レンズならびにロッドレンズとの
結合にも適用することができ、又牛導体レーザの端面と
の直接結合にも適用することができ、いずれの場合にも
上述の実施例におけると同様の効果を得ることができる
。
けれども、本発明は単レンズならびにロッドレンズとの
結合にも適用することができ、又牛導体レーザの端面と
の直接結合にも適用することができ、いずれの場合にも
上述の実施例におけると同様の効果を得ることができる
。
発明の効果
以上のように本発明の光結合素子は、膜厚の薄い三次元
光導波路と光ファイバ或はレンズとの光結合を効率良く
行なうことができる効果を有し、特に膜厚が４μｍ以下
の先導波路との結合においてその効果が大である。
光導波路と光ファイバ或はレンズとの光結合を効率良く
行なうことができる効果を有し、特に膜厚が４μｍ以下
の先導波路との結合においてその効果が大である。
第１図、第２図は従来の光結合素子の要部断面図、第３
図は本発明の光結合素子の一実捲例の要部断面図、第４
図は第３図における端面Ａを示す図、第５図は第３図に
おける断面Ｂ −Ｂ／を示す図、第６図は本発明の動作
原理を示す実効屈折率の距離による変化を示す図である
。 １・・・・・・光ファイバ、４・・・・・・光７アイパ
端面、２・・・・・・基板、２２・・・・・・テーパ部
、２３・・・・・・主光導波路、２４・・・・・・結合
光導波路、２６・・・・・・ストリップ、２６・・・・
・・クラッド層、２７・・・・・・基板端面、２８・・
・・・・結合光導波路端面。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第４
図 Ｗ。 第５図
図は本発明の光結合素子の一実捲例の要部断面図、第４
図は第３図における端面Ａを示す図、第５図は第３図に
おける断面Ｂ −Ｂ／を示す図、第６図は本発明の動作
原理を示す実効屈折率の距離による変化を示す図である
。 １・・・・・・光ファイバ、４・・・・・・光７アイパ
端面、２・・・・・・基板、２２・・・・・・テーパ部
、２３・・・・・・主光導波路、２４・・・・・・結合
光導波路、２６・・・・・・ストリップ、２６・・・・
・・クラッド層、２７・・・・・・基板端面、２８・・
・・・・結合光導波路端面。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第４
図 Ｗ。 第５図
Claims (4)
- （１）基板と、前記基板の一端から徐々に厚くなったテ
ーパ部を有して前記基板上に設けられた。前記基板より
屈折率の大きな透明材料から成る主光導波路と、前記主
光導波路よりも屈折率が小さな透明材料から成り、前記
基板の一端からはじまる帯状のストリップと、前記スト
リップより屈折率が小さく前記基板より屈折率の大きな
透明材料から成り、少なくとも前記テーパ部に重なるよ
うに主光導波路上に積層して形成された結合光導波路と
、前記結合光導路より屈折率の小さな透明材料から成り
、前記結合光導波路上に配置されたクラッド層とを備え
、前記基板の一端における前記基板と前記結合光導波路
の端面が同一平面内に設けられたことを特徴とする光結
合素子。 - （２）主光導波路がＰＬＺＴ系薄膜で構成されているこ
とを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の光結合素子
。 - （３）基板がサファイアで構成されていることを特徴と
する特許請求の範囲第２項記載の光結合素子。 - （４）結合光導波路および前記ストリップを形成する透
明材料が、酸化チタン、酸化タンタル、酸化イットリウ
ム、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化ジルコニウム、
酸化ランタン、および酸化アルミニウム、酸化ケイ素、
酸化マグネシウム、酸化ゲルマニウムのうちの少なくと
も１種で構成されていることを特徴とする特許請求の範
囲第２項記載の光結合素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19715984A JPS6173908A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 光結合素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19715984A JPS6173908A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 光結合素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6173908A true JPS6173908A (ja) | 1986-04-16 |
Family
ID=16369749
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19715984A Pending JPS6173908A (ja) | 1984-09-20 | 1984-09-20 | 光結合素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6173908A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1253447A3 (en) * | 2001-04-23 | 2004-06-30 | Omron Corporation | Optical integrated waveguide device, optical transceiver and other optical apparatuses using the optical device |
-
1984
- 1984-09-20 JP JP19715984A patent/JPS6173908A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1253447A3 (en) * | 2001-04-23 | 2004-06-30 | Omron Corporation | Optical integrated waveguide device, optical transceiver and other optical apparatuses using the optical device |
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