JPS6172018A - エポキシ樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ樹脂組成物Info
- Publication number
- JPS6172018A JPS6172018A JP19540084A JP19540084A JPS6172018A JP S6172018 A JPS6172018 A JP S6172018A JP 19540084 A JP19540084 A JP 19540084A JP 19540084 A JP19540084 A JP 19540084A JP S6172018 A JPS6172018 A JP S6172018A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- epoxy resin
- curing agent
- weight
- parts
- resin composition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0326—Organic insulating material consisting of one material containing O
Landscapes
- Epoxy Resins (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、電子機器用途のエポキシ樹脂積層板やエポ
キシ樹脂成型材料等に用いられるエポキシ樹脂組成物に
関する。
キシ樹脂成型材料等に用いられるエポキシ樹脂組成物に
関する。
電子機器の高信頼化、小型化、軽量化および低コスト化
が進むとともに、この用途に用いられるエポキシ樹脂組
成物に対し耐熱性および接着性の向上ならびに低コスト
化が強く望まれている。
が進むとともに、この用途に用いられるエポキシ樹脂組
成物に対し耐熱性および接着性の向上ならびに低コスト
化が強く望まれている。
従来、この用途のエポキシ樹脂組成物においては、硬化
剤としてジシアンジアミド、ジハロゲン化ジアミノジフ
ェニルメタン等の窒素化合物、あるいは、フェノールホ
ルムアルデヒド樹脂などが工業的に使用されている。し
かしながら、ジシアンジアミドは、硬化物の熱分解温度
が低く吸湿耐熱性も低いというように耐熱性が劣ったも
のとなるという欠点を有する。ジハロゲン化ジアミノジ
フェニルメタンは、塩基性度が低いために、反応性が遅
いという欠点を有する。フェノールホルムアルデヒド樹
脂は、エポキシ樹脂組成物の接着性が低くなるという欠
点を有する。
剤としてジシアンジアミド、ジハロゲン化ジアミノジフ
ェニルメタン等の窒素化合物、あるいは、フェノールホ
ルムアルデヒド樹脂などが工業的に使用されている。し
かしながら、ジシアンジアミドは、硬化物の熱分解温度
が低く吸湿耐熱性も低いというように耐熱性が劣ったも
のとなるという欠点を有する。ジハロゲン化ジアミノジ
フェニルメタンは、塩基性度が低いために、反応性が遅
いという欠点を有する。フェノールホルムアルデヒド樹
脂は、エポキシ樹脂組成物の接着性が低くなるという欠
点を有する。
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであ
って、良好な耐熱性と接着性さらには速硬化性をも兼ね
そろえたエポキシ樹脂組成物を提供することを目的とし
ている。
って、良好な耐熱性と接着性さらには速硬化性をも兼ね
そろえたエポキシ樹脂組成物を提供することを目的とし
ている。
前記のような目的を達成するため、この発明は、電子吸
引基を有するアミン系硬化剤と、つぎの一般式 %式%) 〔ただし、XはCH2またはC(CH3)2であり、Y
はHまたはCH3であって、かつ、4個のYは同じであ
っても異なっていてもよい)で示される化合物を主成分
として含有し、かつ、ベンゼン核が2個以下の低分子化
合物の含有量の少ない多価フェノール類硬化剤とが併用
されていることを特徴とするエポキシ樹脂組成物をその
要旨としている。以下に、この発明の詳細な説明する。
引基を有するアミン系硬化剤と、つぎの一般式 %式%) 〔ただし、XはCH2またはC(CH3)2であり、Y
はHまたはCH3であって、かつ、4個のYは同じであ
っても異なっていてもよい)で示される化合物を主成分
として含有し、かつ、ベンゼン核が2個以下の低分子化
合物の含有量の少ない多価フェノール類硬化剤とが併用
されていることを特徴とするエポキシ樹脂組成物をその
要旨としている。以下に、この発明の詳細な説明する。
この発明に用いられるエポキシ樹脂としては、1分子あ
たり平均で2個以上のエポキシ基を有していればよ(、
その他に、特に制限はない。たとえば、ビスフェノール
Aのジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールAのジグリシジルエーテル型エポキシ樹
脂、ブタジエンジエボキサイド、フェノールノボラック
のポリグリシジルエーテル、タレゾールノボラックのポ
リグリシジルエーテル、ハロゲン化フェノールノボラッ
クのポリグリシジルエーテル等がある。
たり平均で2個以上のエポキシ基を有していればよ(、
その他に、特に制限はない。たとえば、ビスフェノール
Aのジグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、ハロゲン化
ビスフェノールAのジグリシジルエーテル型エポキシ樹
脂、ブタジエンジエボキサイド、フェノールノボラック
のポリグリシジルエーテル、タレゾールノボラックのポ
リグリシジルエーテル、ハロゲン化フェノールノボラッ
クのポリグリシジルエーテル等がある。
従来、エポキシ樹脂の硬化剤として用いられているフェ
ノールホルムアルデヒド樹脂の代表的なものとしてノボ
ラック樹脂が知られている。ノボラック樹脂は通常、フ
ェノール類対ホルムアルデヒドのモル比がたとえば、1
対0.7〜0.9となるようなフェノール類過剰の条件
下で、たとえば蓚酸のような酸触媒(通常0.2〜2%
)でフェノール類とホルムアルデヒド(ホルマリン)と
を反応させることによって製造される。発明者らの調べ
たところによると、このような方法で得られるフェノー
ルノボラック樹脂は、ベンゼン核が2 f[lil以下
の低分子化合物を比較的多量(たとえば8〜20重量%
)に含有するため、架橋密度を高くして高温時の特性を
確保するためには、1分子当たり3個以上のエポキシ基
を有する多官能エポキシ樹脂を多量に用いざるを得ない
。しかし、そのようにすると高温時の特性を確保するこ
とは可能だが、接着性が低下するという問題が新たに生
じるということがわかった。
ノールホルムアルデヒド樹脂の代表的なものとしてノボ
ラック樹脂が知られている。ノボラック樹脂は通常、フ
ェノール類対ホルムアルデヒドのモル比がたとえば、1
対0.7〜0.9となるようなフェノール類過剰の条件
下で、たとえば蓚酸のような酸触媒(通常0.2〜2%
)でフェノール類とホルムアルデヒド(ホルマリン)と
を反応させることによって製造される。発明者らの調べ
たところによると、このような方法で得られるフェノー
ルノボラック樹脂は、ベンゼン核が2 f[lil以下
の低分子化合物を比較的多量(たとえば8〜20重量%
)に含有するため、架橋密度を高くして高温時の特性を
確保するためには、1分子当たり3個以上のエポキシ基
を有する多官能エポキシ樹脂を多量に用いざるを得ない
。しかし、そのようにすると高温時の特性を確保するこ
とは可能だが、接着性が低下するという問題が新たに生
じるということがわかった。
そこで、ベンゼン核が2個以下の低分子化合物の含有量
を少なくしたフェノールホルムアルデヒド樹脂を得るこ
とができ、それを硬化剤として用いることとすれば、エ
ポキシ樹脂組成物は優れた性能を有するものとなるであ
ろうと考え、発明者らは、まず、そのようなフェノール
ホルムアルデヒド樹脂を得ようとして研究を重ねた。そ
の結果、ビスフェノールAまたはビスフェノールFとホ
ルムアルデヒドとを、ホルムアルデヒド過剰の条件下で
反応させてビスフェノールの4メチロール化物をつくり
、残存するホルムアルデヒドを除いた後、ビスフェノー
ルの4メチロール化物とフェノールまたはクレゾールと
を、酸性触媒の存在下で反応させ、残存する未反応成分
を除くことにより、CI)式で示される化合物を主成分
とし、かつ、ベンゼン核が2個以下の低分子化合物の含
有量の少ない多価フェノール類を得ることができた。こ
のようにして得られた多価フェノール類は、特開昭59
−8719号公報や特開昭57−83521号公報にお
いて、エポキシ樹脂の硬化剤として開示されているビス
フェノールAを骨格中に持つノボラックとは全く組成の
異なる多価フェノール類であった発明者らが、CI)式
で示される化合物を主成分とする多価フェノール類をエ
ポキシ樹脂の硬化剤として用いたところ、得られたエポ
キシ樹脂組成物は極めて優れた耐熱性、接着性および速
硬化性を有することがわかった。
を少なくしたフェノールホルムアルデヒド樹脂を得るこ
とができ、それを硬化剤として用いることとすれば、エ
ポキシ樹脂組成物は優れた性能を有するものとなるであ
ろうと考え、発明者らは、まず、そのようなフェノール
ホルムアルデヒド樹脂を得ようとして研究を重ねた。そ
の結果、ビスフェノールAまたはビスフェノールFとホ
ルムアルデヒドとを、ホルムアルデヒド過剰の条件下で
反応させてビスフェノールの4メチロール化物をつくり
、残存するホルムアルデヒドを除いた後、ビスフェノー
ルの4メチロール化物とフェノールまたはクレゾールと
を、酸性触媒の存在下で反応させ、残存する未反応成分
を除くことにより、CI)式で示される化合物を主成分
とし、かつ、ベンゼン核が2個以下の低分子化合物の含
有量の少ない多価フェノール類を得ることができた。こ
のようにして得られた多価フェノール類は、特開昭59
−8719号公報や特開昭57−83521号公報にお
いて、エポキシ樹脂の硬化剤として開示されているビス
フェノールAを骨格中に持つノボラックとは全く組成の
異なる多価フェノール類であった発明者らが、CI)式
で示される化合物を主成分とする多価フェノール類をエ
ポキシ樹脂の硬化剤として用いたところ、得られたエポ
キシ樹脂組成物は極めて優れた耐熱性、接着性および速
硬化性を有することがわかった。
多価フェノール類は、ベンゼン核が2個以下の低分子成
分を7重量%以下しか含まないのが好ましい。このよう
になっていると効果がいっそう高くなるからである。
分を7重量%以下しか含まないのが好ましい。このよう
になっていると効果がいっそう高くなるからである。
発明者らは、さらに、この多価フェノール類と他の硬化
剤との併用を種々検討したところ、電子吸引基を分子内
に有する特定のアミン系硬化剤を併用すると特性を劣化
させることなく、いっそう優れた速硬化性を付与できる
ということを見出した。そのようなアミン系硬化剤とし
ては、ジハロゲン化ジアミノジフェニルメタン、下記の
式であらわされるビス(4−アミノ安息香酸)−1,3
−プロパンジオール−ジエステル〔1,3−プロパンジ
オールージーパラアミノベンゾートあるいはトリメチレ
ン−ビス(4−アミノベンゾエート)ともいえる〕、ジ
シアンジアミド等があげられ、これらのうちの2種以上
を併用するようであってもよい。
剤との併用を種々検討したところ、電子吸引基を分子内
に有する特定のアミン系硬化剤を併用すると特性を劣化
させることなく、いっそう優れた速硬化性を付与できる
ということを見出した。そのようなアミン系硬化剤とし
ては、ジハロゲン化ジアミノジフェニルメタン、下記の
式であらわされるビス(4−アミノ安息香酸)−1,3
−プロパンジオール−ジエステル〔1,3−プロパンジ
オールージーパラアミノベンゾートあるいはトリメチレ
ン−ビス(4−アミノベンゾエート)ともいえる〕、ジ
シアンジアミド等があげられ、これらのうちの2種以上
を併用するようであってもよい。
硬化剤の合計量は、エポキシ樹脂1当量に対して0.5
〜1.5当量の範囲とするのが好ましい。この範囲をは
ずれると、硬化物の諸性質が低下する傾向にある。多価
フェノール類とアミン系硬化剤の使用割合は、エポキシ
樹脂の使用目的等に応じて自由にt周整することができ
る。
〜1.5当量の範囲とするのが好ましい。この範囲をは
ずれると、硬化物の諸性質が低下する傾向にある。多価
フェノール類とアミン系硬化剤の使用割合は、エポキシ
樹脂の使用目的等に応じて自由にt周整することができ
る。
この発明にかかるエポキシ樹脂組成物においては、必要
に応じ、溶媒、硬化促進剤、充填剤、離型剤9表面処理
剤、および難燃剤等を使用することが可能である。溶媒
としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロ
ソルブ、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミ
ドなどが用いられ、硬化促進剤としては第3級アミン類
、イミダゾール類、第3級フォスフイン類などが用いら
れる。
に応じ、溶媒、硬化促進剤、充填剤、離型剤9表面処理
剤、および難燃剤等を使用することが可能である。溶媒
としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロ
ソルブ、メチルイソブチルケトン、ジメチルホルムアミ
ドなどが用いられ、硬化促進剤としては第3級アミン類
、イミダゾール類、第3級フォスフイン類などが用いら
れる。
この発明においては、前記のようなアミン系硬化剤とと
もに、前記一般式(1)で示される化合物を主成分とし
て含有し、かつ、ベンゼン核が2個以下の低分子化合物
の含有量の少ない多価フェノール類を硬化剤として用い
ることにより、良好な耐熱性と接着性さらには非密に優
れた速硬化性をも兼ねそろえたエポキシ樹脂を得ること
ができた。
もに、前記一般式(1)で示される化合物を主成分とし
て含有し、かつ、ベンゼン核が2個以下の低分子化合物
の含有量の少ない多価フェノール類を硬化剤として用い
ることにより、良好な耐熱性と接着性さらには非密に優
れた速硬化性をも兼ねそろえたエポキシ樹脂を得ること
ができた。
つぎに、実施例を示してより詳細に説明する。
(実施例1)
ビスフェノールA27重量部、37%ホルマリン58重
量部、水酸化ナトリウム4.8重量部および水20重量
部を三つロフラスコに仕込み、攪拌し、還流させながら
60℃で3時間反応を行った。希塩酸を用いて中和した
後、純水を用いて生成物の水洗を繰り返すことにより未
反応のホルムアルデヒドおよび中和によって生成したN
aC1を除去した。そして、減圧により水を除いた。こ
うして得られた生成物をゲル透過クロマトグラフィー(
GPC)分析および核磁気共鳴(NMR)分析により確
認したところ、未反応のビスフェノールAはほとんど認
められず、生成物の主成分はビスフェノールAの4メチ
ロール化物であることが判明した。この生成物20重量
部、フェノール43.2重量部、蓚酸0.72重量部お
よび水20重量部を三つロフラスコに仕込み、攪拌し、
還流させながら80℃で10時間反応させた後、165
℃まで昇温し、165℃で1時間保持することにより蓚
酸を分解させた。その後125℃に温度を保ちつつ減圧
下で濃縮し、さらに未反応のフェノールを除去するため
に水蒸気蒸溜した後減圧脱水して生成物(A)を得た。
量部、水酸化ナトリウム4.8重量部および水20重量
部を三つロフラスコに仕込み、攪拌し、還流させながら
60℃で3時間反応を行った。希塩酸を用いて中和した
後、純水を用いて生成物の水洗を繰り返すことにより未
反応のホルムアルデヒドおよび中和によって生成したN
aC1を除去した。そして、減圧により水を除いた。こ
うして得られた生成物をゲル透過クロマトグラフィー(
GPC)分析および核磁気共鳴(NMR)分析により確
認したところ、未反応のビスフェノールAはほとんど認
められず、生成物の主成分はビスフェノールAの4メチ
ロール化物であることが判明した。この生成物20重量
部、フェノール43.2重量部、蓚酸0.72重量部お
よび水20重量部を三つロフラスコに仕込み、攪拌し、
還流させながら80℃で10時間反応させた後、165
℃まで昇温し、165℃で1時間保持することにより蓚
酸を分解させた。その後125℃に温度を保ちつつ減圧
下で濃縮し、さらに未反応のフェノールを除去するため
に水蒸気蒸溜した後減圧脱水して生成物(A)を得た。
生成物(A)の水酸基(○H)当量は1)5であった。
溶媒としてテトラヒドロフラン(THF)を用いるよう
にして、この生成物(A)をGPC装置(島津製作所株
式会社)により分析したところ第1図に示される分子量
分布曲線を得た。この分析条件でのビスフェノールAの
現れるリテンションタイムは26分であるので、第1図
の分子量分布曲線を示す生成物(A)は、ベンゼン核が
2個以下の分子量の成分は非常に少な(、明らかに7重
量%以下であることがわかった。また、メインピーク部
分(図中、矢印aで示されているピーク)を分取用GP
C装置により分離し、NMR装置を用いてその分子構造
を解析したところ、つぎの化学構造を有する成分が主成
分であることがわかった。
にして、この生成物(A)をGPC装置(島津製作所株
式会社)により分析したところ第1図に示される分子量
分布曲線を得た。この分析条件でのビスフェノールAの
現れるリテンションタイムは26分であるので、第1図
の分子量分布曲線を示す生成物(A)は、ベンゼン核が
2個以下の分子量の成分は非常に少な(、明らかに7重
量%以下であることがわかった。また、メインピーク部
分(図中、矢印aで示されているピーク)を分取用GP
C装置により分離し、NMR装置を用いてその分子構造
を解析したところ、つぎの化学構造を有する成分が主成
分であることがわかった。
前記のようにして得られた多価フェノール〔A〕および
3,3′−ジクロル−4,4′−ジアミノジフェニルメ
タンとを硬化剤として用い、次のように配合してエポキ
シ樹脂ワニスを調合した。
3,3′−ジクロル−4,4′−ジアミノジフェニルメ
タンとを硬化剤として用い、次のように配合してエポキ
シ樹脂ワニスを調合した。
多(i1)i7エ/−ル(A) (OH当itl 1
5)・・・13.5重量部 3.3′−ジクロル−4,4′−ジアミノジフェニルメ
タン ・・・ 7.8重量部ブロム化ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量518) ・
・・85重量部タレゾールノボラック型エポキシ樹脂 (エポキシ当量214) ・・・15重量部2−エ
チル−4−メチルイミダゾール ・・・0.10重量部 メチルエチルケトン ・・・100重量部この樹
脂ワニスの160℃でのゲルタイムは4分00秒であっ
た。このワニスを単重が103 g/dのガラス布に含
浸させ、150℃の乾燥機中で4分間乾燥させることに
より、レジコンテントが45%のプリプレグを得た。
5)・・・13.5重量部 3.3′−ジクロル−4,4′−ジアミノジフェニルメ
タン ・・・ 7.8重量部ブロム化ビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量518) ・
・・85重量部タレゾールノボラック型エポキシ樹脂 (エポキシ当量214) ・・・15重量部2−エ
チル−4−メチルイミダゾール ・・・0.10重量部 メチルエチルケトン ・・・100重量部この樹
脂ワニスの160℃でのゲルタイムは4分00秒であっ
た。このワニスを単重が103 g/dのガラス布に含
浸させ、150℃の乾燥機中で4分間乾燥させることに
より、レジコンテントが45%のプリプレグを得た。
このプリプレグと銅箔を組合わせたものを180℃の熱
板間に入れ、40kg/cdで90分間加熱加圧して多
層銅張積層板の素材である内層板と外層板を作成した。
板間に入れ、40kg/cdで90分間加熱加圧して多
層銅張積層板の素材である内層板と外層板を作成した。
内層板は、第2図にみるようにプリプレグ1を4枚重ね
あわせたものの両面に厚み約0.07mmの銅箔2を重
ねたものであり、外層板(2枚貼り)は、第3図にみる
ように離型フィルム3の両面にプリプレグlを1枚ずつ
重ね、さらにその上に厚み約0.035mmの銅箔2を
重ねたものである。つぎに、外層板を作成するために使
用した離型フィルム(商品名テトラ−)をあらかじめ剥
離したのち、第4図に示す構成、すなわち内層板10の
両面にプリプレグ1を2枚介して外層板20を、その銅
箔面が外になるようにして重ね合わせる構成に組合わせ
たものを180℃の熱板間に入れ40kg/−で90分
間加熱加圧して、多層銅張積層板を作成した。
あわせたものの両面に厚み約0.07mmの銅箔2を重
ねたものであり、外層板(2枚貼り)は、第3図にみる
ように離型フィルム3の両面にプリプレグlを1枚ずつ
重ね、さらにその上に厚み約0.035mmの銅箔2を
重ねたものである。つぎに、外層板を作成するために使
用した離型フィルム(商品名テトラ−)をあらかじめ剥
離したのち、第4図に示す構成、すなわち内層板10の
両面にプリプレグ1を2枚介して外層板20を、その銅
箔面が外になるようにして重ね合わせる構成に組合わせ
たものを180℃の熱板間に入れ40kg/−で90分
間加熱加圧して、多層銅張積層板を作成した。
(実施例2)
実施例1で作成した多価フェノール(A)およびビス(
4−アミノ安息香酸)−1,3−プロパンジオール−ジ
エステルを硬化剤として用い、次のように配合してエポ
キシ樹脂ワニスを調合した多価フェノール(A)(OH
当量1)5)・・・13.5重量部 ビス(4−アミノ安息香酸)−1,3プロパンジオール
−ジエステル ・・・ 9.2重量部ブロム化ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量518)
・・・85重量部クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂 (エポキシ当量214) ・・・15重量部2−エ
チル−4−メチルイミダゾール ・・・0.10重量部 メチルエチルケトン ・・・100重量部この樹
脂ワニスの160℃でのゲルタイムは4分OO秒であっ
た。このあと、実施例と同様にして、プリプレグ、内層
板、外層板、多層銅張積層板を作成した。
4−アミノ安息香酸)−1,3−プロパンジオール−ジ
エステルを硬化剤として用い、次のように配合してエポ
キシ樹脂ワニスを調合した多価フェノール(A)(OH
当量1)5)・・・13.5重量部 ビス(4−アミノ安息香酸)−1,3プロパンジオール
−ジエステル ・・・ 9.2重量部ブロム化ビスフ
ェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量518)
・・・85重量部クレゾールノボラック型エポキシ樹
脂 (エポキシ当量214) ・・・15重量部2−エ
チル−4−メチルイミダゾール ・・・0.10重量部 メチルエチルケトン ・・・100重量部この樹
脂ワニスの160℃でのゲルタイムは4分OO秒であっ
た。このあと、実施例と同様にして、プリプレグ、内層
板、外層板、多層銅張積層板を作成した。
(実施例3)
実施例1で作成した多価フェノール(A)およびジシア
ンジアミドとを硬化剤として用い、次のように配合して
エポキシ樹脂ワニスを調合した。
ンジアミドとを硬化剤として用い、次のように配合して
エポキシ樹脂ワニスを調合した。
多価フェノール(A)(OH当量1)5)・・・20.
2重量部 ジシアンジアミド ・・・ 0.6重量部ブロ
ム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量5
18) ・・・85重量部タレゾールノボラック型
エポキシ樹脂 (エポキシ当量214) ・・・15重量部2−エ
チル−4−メチルイミダゾール ・・・0.10重量部 メチルセロソルブ ・・・ 20重量部メチル
エチルケトン ・・・ 80重量部この樹脂ワニ
スの160℃でのゲルタイムは2分45秒であった。こ
のワニスを単重が103g/lのガラス布に含浸させ1
50℃の乾燥機中で2分30秒乾燥させることにより、
レジンコンテントが45%のプリプレグを得た。このあ
と、実施例1と同様にして、内層板、外層板および多層
銅張積層板を作成した。 − (比較例1) 実施例1で得られた多価フェノール(A)を硬パ化剤と
して用い、次のように配合してエポキシ樹脂ワニスを調
合した。
2重量部 ジシアンジアミド ・・・ 0.6重量部ブロ
ム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量5
18) ・・・85重量部タレゾールノボラック型
エポキシ樹脂 (エポキシ当量214) ・・・15重量部2−エ
チル−4−メチルイミダゾール ・・・0.10重量部 メチルセロソルブ ・・・ 20重量部メチル
エチルケトン ・・・ 80重量部この樹脂ワニ
スの160℃でのゲルタイムは2分45秒であった。こ
のワニスを単重が103g/lのガラス布に含浸させ1
50℃の乾燥機中で2分30秒乾燥させることにより、
レジンコンテントが45%のプリプレグを得た。このあ
と、実施例1と同様にして、内層板、外層板および多層
銅張積層板を作成した。 − (比較例1) 実施例1で得られた多価フェノール(A)を硬パ化剤と
して用い、次のように配合してエポキシ樹脂ワニスを調
合した。
多価フェノール(A) (OH当量1)5)・・・2
7重量部 ブロム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当
量518) ・・・85重量部クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂 (エポキシ当量214) ・・・15重量部2−エ
チル−4−メチルイミダゾール ・・・0.10重量部 メチルエチルケトン ・・・100m1部この樹
脂ワニスの160℃でのゲルタイムは5分15秒であっ
た。このワニスを単重が103g/dのガラス布に含浸
させ、150℃の乾燥機中で5分30秒乾燥させること
により、レジンコンテントが45%のプリプレグを得た
。
7重量部 ブロム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当
量518) ・・・85重量部クレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂 (エポキシ当量214) ・・・15重量部2−エ
チル−4−メチルイミダゾール ・・・0.10重量部 メチルエチルケトン ・・・100m1部この樹
脂ワニスの160℃でのゲルタイムは5分15秒であっ
た。このワニスを単重が103g/dのガラス布に含浸
させ、150℃の乾燥機中で5分30秒乾燥させること
により、レジンコンテントが45%のプリプレグを得た
。
このあと実施例1と同様にして、内層板、外層板、多層
銅張積層板を作成した。
銅張積層板を作成した。
(比較例2)
ビスフェノールA27重量部の代わりにビスフェノール
F23重量部を用いた外は実施例1と同様の操作で水酸
基当量が1)0である多価フェノールCB)を作成し、
この多価フェノールCB)を多価フェノール(A)の代
わりに用いるようにした以外は比較例1と同様にして、
内層板、外層板、さらに多層銅張積層板を作成した。
F23重量部を用いた外は実施例1と同様の操作で水酸
基当量が1)0である多価フェノールCB)を作成し、
この多価フェノールCB)を多価フェノール(A)の代
わりに用いるようにした以外は比較例1と同様にして、
内層板、外層板、さらに多層銅張積層板を作成した。
(比較例3)
実J%例1と同様にしてビスフェノールAの4メチロー
ル化物を主成分とする生成物を得た。その後、この生成
物20重量部、オルトクレゾール50重量部を用いた外
は実施例1と同様にして多価フェノール(C)を得た。
ル化物を主成分とする生成物を得た。その後、この生成
物20重量部、オルトクレゾール50重量部を用いた外
は実施例1と同様にして多価フェノール(C)を得た。
この多価フェノール〔C〕の水酸基当量は126であっ
た。また、GPC分析により調べた結果、この多価フェ
ノール〔C〕は、ベンゼン環が2個以下の分子量の成分
の含有量が約4重量%であった。この多価フェノール(
C)30重量部を多価フェノール(A)27重量部の代
わりに用い、比較例1と同様にしてエポキシ樹脂ワニス
を調合した。このエポキシ樹脂ワニスの160℃でのゲ
ルタイムは5分OO秒であった。′この樹脂ワニスを単
重が103 g/n?のガラス布に含浸させ150℃の
乾燥機中で5分10秒間乾燥させることによりプリプレ
グを作成した。 以下、実施例1と同様にして内層板、
外層板、多層銅張積層板を作成した。
た。また、GPC分析により調べた結果、この多価フェ
ノール〔C〕は、ベンゼン環が2個以下の分子量の成分
の含有量が約4重量%であった。この多価フェノール(
C)30重量部を多価フェノール(A)27重量部の代
わりに用い、比較例1と同様にしてエポキシ樹脂ワニス
を調合した。このエポキシ樹脂ワニスの160℃でのゲ
ルタイムは5分OO秒であった。′この樹脂ワニスを単
重が103 g/n?のガラス布に含浸させ150℃の
乾燥機中で5分10秒間乾燥させることによりプリプレ
グを作成した。 以下、実施例1と同様にして内層板、
外層板、多層銅張積層板を作成した。
(比較例4)
フェノール94重量部、パラホルムアルデヒド24重量
部、蓚酸1重量部を4時間120℃で加熱した後、16
5℃まで昇温しで165℃で1時間保持した。つぎに、
125℃に温度を保ちつつ減圧下で濃縮した。未反応の
フェノールを除去するために水蒸気蒸溜した後、減圧脱
水し、フェノールノボラック樹脂(D)を得た。この樹
脂の水酸基当量は108であり、ベンゼン核が2個以下
の低分子化合物は全体の12〜14重量%であった。
部、蓚酸1重量部を4時間120℃で加熱した後、16
5℃まで昇温しで165℃で1時間保持した。つぎに、
125℃に温度を保ちつつ減圧下で濃縮した。未反応の
フェノールを除去するために水蒸気蒸溜した後、減圧脱
水し、フェノールノボラック樹脂(D)を得た。この樹
脂の水酸基当量は108であり、ベンゼン核が2個以下
の低分子化合物は全体の12〜14重量%であった。
このフェノールノボラック樹脂CD)25.3重量部を
多価フェノール(、A)27重量部の代わりに用いるよ
うにしたほかは比較例1と同様にしてエポキシ樹脂ワニ
スを調合し、プリプレグ、内層板、外層板および多層銅
張積層板を作成した。
多価フェノール(、A)27重量部の代わりに用いるよ
うにしたほかは比較例1と同様にしてエポキシ樹脂ワニ
スを調合し、プリプレグ、内層板、外層板および多層銅
張積層板を作成した。
(比較例5)
3.3′−ジクロル−4,4′−ジアミノジフェニルメ
タン15.6重量部を多価フェノール〔A〕−27重量
部の代わりに用い、比較例1と同様にしてエポキシ樹脂
ワニスを調合し、プリプレグ。
タン15.6重量部を多価フェノール〔A〕−27重量
部の代わりに用い、比較例1と同様にしてエポキシ樹脂
ワニスを調合し、プリプレグ。
内層板、外層板および多層銅張積層板を作成した。ただ
し、樹脂ワニスの160°Cにおけるワニスゲルタイム
は23分であったので、150℃の乾燥機中で27分間
乾燥することによりプリプレグを作成した。
し、樹脂ワニスの160°Cにおけるワニスゲルタイム
は23分であったので、150℃の乾燥機中で27分間
乾燥することによりプリプレグを作成した。
(比較例6)
ジシアンジアミド2.5重量部を多価フェノール(A)
27重量部の代わりに用い、比較例1と同様にしてエポ
キシ樹脂ワニスを調合し、プリプレグ、内層板、外層板
および多層銅張積層板を作成した。ただし、樹脂ワニス
作成に用いた溶剤は、メチルセロソルブ38重量部およ
びメチルエチルケトン62重量部の混合液とした。この
時の樹脂ワニスの160℃におけるワニスゲルタイムは
9分00秒であったので、150℃の乾燥機中で1)分
間乾燥することによりプリプレグを作成した(比較例7
) 比較例1の多価フェノール(A)27重量部の代わりに
多価フェノール(A)23重量部およびビスフェノール
A4重量部用いてこれらを硬化剤とした。この他は比較
例1と同様にして樹脂ワニス、プリプレグ、内層板、外
層板、多層銅張積層板を作成した。
27重量部の代わりに用い、比較例1と同様にしてエポ
キシ樹脂ワニスを調合し、プリプレグ、内層板、外層板
および多層銅張積層板を作成した。ただし、樹脂ワニス
作成に用いた溶剤は、メチルセロソルブ38重量部およ
びメチルエチルケトン62重量部の混合液とした。この
時の樹脂ワニスの160℃におけるワニスゲルタイムは
9分00秒であったので、150℃の乾燥機中で1)分
間乾燥することによりプリプレグを作成した(比較例7
) 比較例1の多価フェノール(A)27重量部の代わりに
多価フェノール(A)23重量部およびビスフェノール
A4重量部用いてこれらを硬化剤とした。この他は比較
例1と同様にして樹脂ワニス、プリプレグ、内層板、外
層板、多層銅張積層板を作成した。
実施例1〜3および比較例1〜7のエポキシ樹脂ワニス
の速硬化性およびこれらを用いて得られた多層銅張積層
板の特性の評価結果を第1表に示す。評価方法はつぎの
とおりである。
の速硬化性およびこれらを用いて得られた多層銅張積層
板の特性の評価結果を第1表に示す。評価方法はつぎの
とおりである。
(1)熱分解開始温度
多層板にする前の内層板の銅箔をエツチングにより除去
した板を試験片として、理学電機製の熱天秤装置を用い
て窒素雰囲気中での熱分解開始温度を測定した。
した板を試験片として、理学電機製の熱天秤装置を用い
て窒素雰囲気中での熱分解開始温度を測定した。
(2)多層板の吸湿後半田耐熱性
多層板の外層に用いている銅箔を全面エツチングにより
除去した板を試験片として、この試験片 ・を1
00℃の水中に8時間浸漬したのち、’260℃の半田
バス中に浸漬し、ガラス目浮きや眉間剥離が発生しない
場合を合格とした。
除去した板を試験片として、この試験片 ・を1
00℃の水中に8時間浸漬したのち、’260℃の半田
バス中に浸漬し、ガラス目浮きや眉間剥離が発生しない
場合を合格とした。
(3)ガラス転移温度(Tg)
多層板にする前の内層板の銅箔をエツチングにより除去
した板を試験片とし、岩本製作所製の固体粘弾性測定装
置を用いて測定した。
した板を試験片とし、岩本製作所製の固体粘弾性測定装
置を用いて測定した。
(4) 銅箔剥離強度
多層板の外層に用いている0、035mmの厚の銅箔の
剥離強度をJIS−C−6481に準拠して測定した。
剥離強度をJIS−C−6481に準拠して測定した。
(5)多層板剥離強度
外層板とプリプレグの間の密着力を銅箔剥離強度と同様
にして測定した。
にして測定した。
(6)速硬化性
使用したエポキシ樹脂ワニスの160℃におけるゲル化
時間とした。
時間とした。
(以 下 余 白)
第1表より、実施例1〜3の樹脂ワニスと多価フェノー
ル類を硬化剤として用いなかった比較例4〜6のものと
を比べると、比較例1のものが、接着性が劣るとともに
ガラス転移温度が低く、比較例2のものが速硬化性が劣
るとともにガラス転移温度が低く、比較例3のものが耐
熱性および速硬化性が劣るのに対し、実施例のものはい
ずれも、耐熱性、接着性および速硬化性が良好でガラス
転移温度も高くて良好であることがわかる。また、実施
例1〜3のものは、硬化剤としてアミン系硬化剤を多価
フェノール類と併用しなかった比較例1〜3′と比べる
と、耐熱性、接着性が同程度でガラス転移温度も同程度
であるが、速硬化性がいっそう優れているということが
わかり、硬化剤としてビスフェノールAと多価フェノー
ル類とを併用した比較例7と比べると、接着強度が優れ
、ガラス転移温度も高く、速硬化性もいっそう優れてい
ることがわかる。
ル類を硬化剤として用いなかった比較例4〜6のものと
を比べると、比較例1のものが、接着性が劣るとともに
ガラス転移温度が低く、比較例2のものが速硬化性が劣
るとともにガラス転移温度が低く、比較例3のものが耐
熱性および速硬化性が劣るのに対し、実施例のものはい
ずれも、耐熱性、接着性および速硬化性が良好でガラス
転移温度も高くて良好であることがわかる。また、実施
例1〜3のものは、硬化剤としてアミン系硬化剤を多価
フェノール類と併用しなかった比較例1〜3′と比べる
と、耐熱性、接着性が同程度でガラス転移温度も同程度
であるが、速硬化性がいっそう優れているということが
わかり、硬化剤としてビスフェノールAと多価フェノー
ル類とを併用した比較例7と比べると、接着強度が優れ
、ガラス転移温度も高く、速硬化性もいっそう優れてい
ることがわかる。
この発明にかかるエポキシ樹脂組成物は、電子吸引基を
有するアミン系硬化剤と、前記一般式〔I〕で示される
ような化合物を主成分として含有し、かつ、ペンセン核
が2個以下の低分子化合物の含有量の少ない多価フェノ
ール類硬化剤が併用されているので、耐熱性、接着性に
優れ、速硬化性も非常に優れている。
有するアミン系硬化剤と、前記一般式〔I〕で示される
ような化合物を主成分として含有し、かつ、ペンセン核
が2個以下の低分子化合物の含有量の少ない多価フェノ
ール類硬化剤が併用されているので、耐熱性、接着性に
優れ、速硬化性も非常に優れている。
第1図は生成物(A)の分子量分布をあられすグラフ、
第2図ないし第4図は多層銅張積層板の製造工程を示す
説明図である。 代理人 弁理士 松 本 武 彦 第1図 リテンションタイム(分) 高分子物 低分−f(2) α====シーー2 ====ヒー20 手続補正書(自発 昭和60年 4月15日 昭和59年特湘課195400号 2、発明の名称 エポキシ樹脂組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 。 住 所 大阪府門真市大字門真1048番地
名 称(583)松下電工株式会社 代表者 イ懺輔役藤井 貞 夫 4、代理人 5、補正によ惧W■する発明の数
占=な し 6、補正の対象 明細書 7、補正の内容 (1) 明細書第4頁第4行に「塩基仕度」とあるを
、「反応活性」と訂正する。 (2)明細書第1頁第12に「バラアミノベンシート」
とあるを、「バラアミノベンゾエート」と訂正する。 (3)明細書第1)頁第12行に「ゲル透過クロマトグ
ラフィー」とあるを、「ゲル浸透クロマトグラフィー」
と訂正する。 (4)明細書第25頁第3行に「比較例1」とあるを、
「比較例4」と訂正する。 (5) 明細書第25頁第4行ないし第5行に「比較
例2」とあるを、「比較例5」と訂正する。 ”(6)明細書第25頁第6行に「比較例3」とあるを
、「比較例6」と訂正する。
第2図ないし第4図は多層銅張積層板の製造工程を示す
説明図である。 代理人 弁理士 松 本 武 彦 第1図 リテンションタイム(分) 高分子物 低分−f(2) α====シーー2 ====ヒー20 手続補正書(自発 昭和60年 4月15日 昭和59年特湘課195400号 2、発明の名称 エポキシ樹脂組成物 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 。 住 所 大阪府門真市大字門真1048番地
名 称(583)松下電工株式会社 代表者 イ懺輔役藤井 貞 夫 4、代理人 5、補正によ惧W■する発明の数
占=な し 6、補正の対象 明細書 7、補正の内容 (1) 明細書第4頁第4行に「塩基仕度」とあるを
、「反応活性」と訂正する。 (2)明細書第1頁第12に「バラアミノベンシート」
とあるを、「バラアミノベンゾエート」と訂正する。 (3)明細書第1)頁第12行に「ゲル透過クロマトグ
ラフィー」とあるを、「ゲル浸透クロマトグラフィー」
と訂正する。 (4)明細書第25頁第3行に「比較例1」とあるを、
「比較例4」と訂正する。 (5) 明細書第25頁第4行ないし第5行に「比較
例2」とあるを、「比較例5」と訂正する。 ”(6)明細書第25頁第6行に「比較例3」とあるを
、「比較例6」と訂正する。
Claims (6)
- (1)電子吸引基を有するアミン系硬化剤と、つぎの一
般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔ただし、XはCH_2またはC(CH_3)_2であ
り、YはHまたはCH_3であって、かつ、4個のYは
同じであっても異なっていてもよい〕 で示される化合物を主成分として含有し、かつ、ベンゼ
ン核が2個以下の低分子化合物の含有量の少ない多価フ
ェノール類硬化剤とが併用されていることを特徴とする
エポキシ樹脂組成物。 - (2)アミン系硬化剤がジハロゲン化ジアミノジフェニ
ルメタンである特許請求の範囲第1項記載のエポキシ樹
脂組成物。 - (3)アミン系硬化剤が、つぎの式であらわされるビス
(4−アミノ安息香酸)−1,3−プロパンジオール−
ジエステルである特許請求の範囲第1項または第2項記
載のエポキシ樹脂組成物。 ▲数式、化学式、表等があります▼ - (4)アミン系硬化剤が、ジシアンジアミドである特許
請求の範囲第1項から第3項までのいずれかに記載のエ
ポキシ樹脂組成物。 - (5)多価フェノール類が、ベンゼン核が2個以下の低
分子成分を7重量%以下しか含まないものである特許請
求の範囲第1項から第4項までのいずれかに記載のエポ
キシ樹脂組成物。 - (6)硬化剤の含有割合が、エポキシ樹脂1当量に対し
て0.5〜1.5当量である特許請求の範囲第1項から
第5項までのいずれかに記載のエポキシ樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19540084A JPS6172018A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | エポキシ樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19540084A JPS6172018A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | エポキシ樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6172018A true JPS6172018A (ja) | 1986-04-14 |
Family
ID=16340491
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19540084A Pending JPS6172018A (ja) | 1984-09-17 | 1984-09-17 | エポキシ樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6172018A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02215192A (ja) * | 1989-02-15 | 1990-08-28 | Matsushita Electric Works Ltd | 多層プリント基板の製造方法 |
-
1984
- 1984-09-17 JP JP19540084A patent/JPS6172018A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02215192A (ja) * | 1989-02-15 | 1990-08-28 | Matsushita Electric Works Ltd | 多層プリント基板の製造方法 |
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