JPS6168847A - 粒子ゾンデの自動位置決め方法と装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、現在位置が局部場のためにその規定位菫廓
ら外れて認められる特定の区域に向って粒子ゾンデ全自
動的に位置決めする方法とそれを実施する装置に関する
ものである。

〔従来の技術〕

集ｔｋ＠路内部の電位値と電位値分布の測定に対しては
電子ゾンデが使用されている。この場合測定個所は原則
として余情導電路又は最上導電路面に置かれた試験面で
ある。電子ゾンデを精確に各導電路には試験面の中央に
回って位置決めするためには電子ゾンデの自動位置決め
が望寸れる。

試験面の寸法又は導電路の福は現在数／ｌ　ｍに過ぎず
、将米は更に減少すると思わ九る。使用される測定１夷
置の不安定性又１′ｌまその他の理由例えば電場の作用
により電子ゾンデが導電路の中央又は試験面の中心から
外れる場合には、それを記載し補償する必要がある。

電子ゾンデの位置決めは電子ビーム測定器で行われるが
、これは一般に画像／点動作と呼ばれている走査型電子
顕微鏡検イ１による。この場合電子ビームは交互に試料
上を走査して画像を形成した後又特定の測定個所に向け
られろ。この画像灯成と電子ビームの案内との交互動作
は迅速に行われるから特定の測定個所は画像内に目で見
ることができ、走査電子顕微鏡の偏向コイル電圧をｉｌ
ｌ卸する電位差計を使用して特定の測定個所が試料内の
特定の測定点に一致するように電子ビームゾンデの位置
決めを変更することができる。電子ビーム測定器の一例
は米国特許第４２７７６７９号明７則書に記載され公知
である。

通１Ｗの電子ビームリソグラフィの場合のように電子ゾ
ンデが対象の所望個所に精確に当れば理想的である。こ
の種の電子ビーム位置決め法の−列）ｉ米ＩＩ特ｎ−ｇ
３６４．ｔ７ａａ号明ＩＪ　８　”’）記載により公知
である。しかしこの方法は電子ビーム測定技術に対して
は無効である。この場合プ１えは局所的の＠圧変動や開
所電場のような局所場がそれぞれの測定個所の位置上そ
れが移動しているように見せかけるため、各ｆｆ１ｌｌ
定ｆ固所の精確な位ｌを予め確定しておくことはできな
い。測定個所の現在位１が設定位置から外式ているよう
に見せかけるこの種の局所場は初めから精確に定めてお
くことは不可能であり、その上試料の測定中、更に一般
化して云えば試料の処理中時間的に変動するものである
。

〔発明が解決しようとする間萌点〕

この発明の目的（ｉ、冒頭に挙げた種類の方法と装置を
改良して局所場のために位置が予め精確に定めておくこ
とができないｍ１１ｊ定截１／ｃ対しても粒子ゾンデの
位置決めを可能にすることである。

Ｃ問題点の解決手段〕 この目的は特許請求の範囲第１項に特徴として挙げた操
作とすることによって達成される。この発明の方法を実
施する装置の鷹Ｆｉ！２、特許請求の範囲第１５項およ
び第１６項に示さ、１ている。

この発明は電子ゾンデの使用に限定されるものではなく
、その他のゾンデ例えば光ビームゾンデ。

イオンビームゾンデの使用も可能である。

更にこの発明は電子ビーム測定技術に限定されるもので
もなく、所望測定区域の現在位１がその設定位置に対し
て局所場の影響により移動していると見られることから
所望区域に対する粒子ゾンデの位＋ｉｔ決めが困難とな
るいずれの対象処理においても利用可能である。この種
の局所場としては磁場、電場、温度場等が考えられる。

例えば＠圧変動は電気導体に電流が流れて加熱される場
合に発生し、局所磁場は例えば電流によって発生する。

又電場は電位を異にする区域が隣接しているとき重要と
なる。

粒子ゾンデが当るように位置決めする区域がその隣接区
域に対して異った′！！を位に置かれていると、電位コ
ントラストの助けによって粒子ゾンデを所望区域に向け
てｆｉｒｔ決めすることができる。この葎の方法は後で
縁端幼果を利用する位置決めの実施例において説明する
。縁端効果を電位フントラストに移すことは専問家にと
っては容易に実行されることである。

粒子シップを位置決めする区域がその周囲とほぼ等しい
１位であるとき；ｄ１粒子ゾンデの位置決め；て対して
縁１＠果全利用するのが有利である。

位置決もする月５＞：つ；集漬回洛の４電路（配【凄）
であるとその周囲は一般に絶１鍬面であり導′【を路か
らそＤ周囲に移るとき顕著な縁端効果を示すからこの方
法は特に効果的である。この発明の方法を実施する対象
が特に顕著ｌ縁端効果を期待できるものであると同時に
粒子ゾンデを向ける所望区域の電位がその周囲の電位と
異っている場合には、縁、島効果をＦｌｌ用して位置決
りを行うと同時に電位コントラストを抑干す己のが有利
である６縁端幼里：てよって発生ず／ｂ箇号を最４受信
でさるため７こは。

電子ビーム測定器において電位コントラストを抑圧する
ため電子スペクトロメータの対向電場に１産当な電子例
えばＯボルトを印加する。

例えば多数の導電路から１つの導電路を選び出す等の特
殊な場合には、電位フントラストに基ぐ信号を評イ面す
ることが有利であり場合によっては必要である。

縁端効果が生ずる原因は走査型電子顕敬凛のいずれの教
科書にも記載されている。縁端効果はちる区域列えば菜
漬回路内Ｄ４電路表面区域り縁端７ζおける二次電子放
出ンこよって生ずるものである。

突出した縁端えは直立した対象講造では拡散雲が強く切
り取られ、後方に散乱又は伝送される多数の粒子が試料
から離れるため粒子の後方散乱、ダ強まり二次電子発生
量が増大する。これらの後方散乱粒子が試料に自己と、
試料にエネルギーを与え又表面に対して斜めに進入する
ため二次電子を放出させる。

この発明の方法には列え／ｆ表面の頌掛に基ぐコノドラ
スト、投影に基ぐコントラスト、物質コントラストある
いは隣接周囲区域の異った特性に基でコントラスト、隣
接２区域間の境界におけるコントラスト等から発生する
測定信号も利用される。

集清回路内区域に向っての位置決めに際しては、走森速
変をできるだけ凋ぐして絶縁性区域の充電が起らないよ
うにするのが重要である。表面に当る電荷量と表面から
放出される電荷量とがバランスする一次粒子エネルギー
値は絶縁性区域の充電の防止πも適している。

特許請求の範囲ｉ／ｃおいて１種々の異った個４所１と
いう表現は、これらの個所又はこれらの１固所の境界が
測定官記の発生に関してはっきりと異った特性を示しあ
るいは示し得るものであることを表わしている。

自動位１決めのためには粒子ゾンデを種々の異った区域
を通り抜ける直線に沿って偏向する。その代りに種々の
異った区域内に規定された相互間！ｔＴｈと渫って配：
イされた点に粒子が当るように偏向すにとも可能である
。この点間の規定さｈｆｃ柑互間隔の決定は例えばディ
ジタル走査電圧発生器によって実施することができる。

〔実施例〕

図面に示した実施例について更ｖｃ詳細に説明す、る。

第１図に−この発明の方法を実施する装置の偶成を示す
。この装置の主要部品は電子ビーム剣定器ＳＥＭであり
、これは米ＩＩ特許第４２４１２５９号および同第４２
７７６７９号明細書に記載さｎているものである。ＳＥ
Ｍの一次電子ＰＫは偏向コイルＳＣによってＩＩｉ向さ
れ、集積回路ＩＣ内の所望点に向けて位置決めされる。

−次電子ｐＦ２が集積回路内の一点て当ると、そこから
二次電子ＳＥが放出される。この二次電子ＳＫの一部分
は逆電場電極ＨＰが作る逆電場に打ち勝ち、電子スペク
トロメータｇｓ内で検出器ＤＴに向って偏向され、そこ
で検出されろ。その際二次電子ｆ４１１５ｔ　信号が発
生する。この官記は視いて信号処理系ｓｐ内で処理され
る。二次電子君号処理系は通常光電子増倍管とそれに続
く種々の増幅器、例えば米国特許第４４１３１８１号明
細書に記載されているボックスカー積分器と呼ばれてい
るものを含んでいる、二次電子測定信号処理系ｓｐの出
力信号の一部は電子ビーム測定器ＳＫＭの映像スフＵ−
／ｃＲＴに導かれ、他の一部はダラーフイツク映像スク
リーンＳＩＣ結ばれる。映１砿スクリーンＣＲＴの出力
信号を通してディンタル偏向電圧発生器ＤＳＣ）が１ム
１１・ＩＩＩ］さ１、−次電子ＰＫＤ所望の偏向に必要
な電圧を偏向コイルＳＣに与える。架台ｘｙに固定され
ている集積回路ＩＣは、架台制御装置ＴＯを通してその
位ｆｆｉ？？粗調繋することができる。

第２図はこの発明の詳細な説明する図面である。

架台ｘｙ表面上の点θ位置を決める座標系と！５ｆｉｔ
回Ｈ５ｘｃ表面の点の位ｊｉｆ、決める座標系と偏向コ
イルＳＣから成る偏向位置の二次元偏向作用を決める座
標系とが１に整列されている場合には、原理的１ては集
積回路ＩＣ内の各点が自動的に架台ｘｙのステップモー
タの助けにより電子ゾンデがこの点に当るような位置に
移される。しかしこの架台ｘｙのステップモータによる
位置決めのＷＩ度は、長さと、＠がそれぞれ＋４１ｍの
面漬内において±１５μｍに過き゛ない。この粗大な瑚
整精度は架台の調整精度自体が低いことだけによるもの
ではなく、集積回路内の電子ビームが当る点の周回に局
所場が発生することにも関係する。集積回路表面の導′
４４の幅が現在約１ｔｒｍであり将来は更Ｏで小さくな
ることを考えると、±１５ａｍという位１決め誤差は過
大である。位置決め精度で高めろためには分光測定法に
従って集積回路の表面の一部？映像スクリーンＣＲＴに
投影する。この種の分光測定技術は列えば米国特許第３
６２８０１２号明細書に記載されている。集積回路ＩＣ
の表面のストロボ撮影された画像は画像メモリに入れる
ことができる。これによって集積回路の表面が荷電粒子
ビーム照射を受ける時間は著しく＠縮される。集積回路
表面の記憶面１′虫は映１象スクリーンＣＲＴ上１／（
表示され乙、電子）°ンデを向ける所望の」り定個所は
、位置と大きさが可変のＮ　ｙを使用して選定された４
電ｆ＆Ｌを窓Ｗの１ｉｌｌｌ縁が横切るようにして標識
される。、窓゛、ｑのこの側縁は第２図に分いて点Ｂと
Ｃを結ぶ直線である。この場合点ＡとＢを結ぶ直・涙は
点ＢとＣを拮ぶ直線に垂直である。電子ゾンデは点Ａと
Ｂ又はＢ、！：Ｃを結ぶ直線に沿って操り返し走査する
。点ＡとＢを拮ぶ直線に沿った走査ば」１１定ｔｓ号の
雑副パックグラウンドを決定するだめのものでちる。選
定された導電路りまｆＣはその縁端は酸化、漢よりも大
きな二次電子信号を与える。従って選出された導電ｄＬ
は点ＢとＣの間のオ吉舎線で切断されることＫなる。点
ＢとＣの１間の結合線の走査によって得られた測定信号
と点ＡとＢの間のｒ浩合被の走査によって得られた測定
官記との比が形成され、この比から充分良好な位置稔識
又は充分良好なＳＩＮ比とするのに必要な点ＡとＢ又は
点ＢとＣの間の結合線に沿う走査回数が求められる。

この発明の方法により縁端効果を利用して得られだ１ｔ
ｌｌ定言号ＳＩを第６図に示す。このａｌｌｌ定信号３
工は第１図の測定装置においてグラフインク映像スクリ
ーンＳ上に表示される。選ばれた導電路りの縁端ｌ−ｉ
測定召号曲線のピークｐ１．ｐ２によって表わされてい
る。導電路の中央Ｌ（Ｓは４３図に矢印で示されている
。この導電路中央の探索結果は例えｉｉ映像スクリーン
ＣＲＴあるいは計算機制御装置ＣＯＮを通してディジタ
ル走査電圧発生器ＤＩＧに与えられ、電子ゾンデは偏向
コイルＳａによって導電路乙の中央て向って位置決めさ
れる。

台ｘｙによる予備位置決めが精確であって４Ｗを選ばれ
た導電路を取巻いてマークする２、要がン小−が無い場
合には、簡単に選ばれた導電路りの内部の点の設定座標
を与えることにより上記の過程は１つの窓Ｗによる付加
的の標識無しに遂行される。

第３図の測定信号Ｓ工はパルス幅５ｎｓ、ゾンデ電流２
ｎＡ（衝繋係数工１：１０００）の亀子ノ゛ノデを使用
して求めたものである。

集積回路ＩＣの表面は予備位置決めのために映１家スク
リーンＣＲＴ上に１０００倍以上の拡大率をもって投像
さｎｆｃ。

導電区域に隣接する治産性区域（酸ｒヒ膜）の光′シを
避けるためには、導電路中央を探索する走査を丁字形に
実施することができる。その際導電路上の雑音信号を求
める走査は、第２図に示すよう）てこの導電路の方向に
行われ、酸化膜上には延びないようにする。

この発明の方法１で対して重要なのは、２つの刈々の信
号が得られ、その一方は雑音と導電路１８号中の一方だ
けを含み、他方は雑音と４電路信号の双方を含むことで
ある。更に一般化して云えば、雑音信号と実効ｉｎ号と
？互に分離することができるように両方の１３号を構成
することである。その際の境界条件は、−り定点が２つ
の興った区域の間７つ境界に充分近く、特定の」１１定
点の位置を所望区域内部に定めることができることであ
る。

導電路中央の探索結果がグラフィックディスプレイのス
フＵ−７９に導かれると、導電路中央λ（Ｓを指示する
矢印を動かすことによって手動補正が可能となる。

測定中又はその後で電子ゾンデのドリフトは、導電路中
央探索の操９返しおよび異つ虎中央１ｉｉｉｊ０差をと
ることＫよって決定し、必要に応じて電子ゾンデの再調
整により補償することができる。

測定中４　電、Ｉ＋＆中央を周期的に決定し、位置の現
在値をゾンデの位置決めだ帰還することにより、自動的
の導電路中央調整を行うことができる。そのためには図
形表示スクリーンＳの出力信号全直接ディジタル走査層
圧発生器ＤＳＧに導く。この自動？Ｊ！４整に際して設
定値としては例えば測定開始に当って決定した導′ＦＬ
路中央座標が使用される。

次に導電路中央探索のだめの具体的のサブプログラムを
説明する。粒子ゾンデを導電路中央ではなくその他の特
定の区域（これは必ずしも導電路内になくてもよい］に
向けて位置決めず、６鳩会に、こＯプログラムを適当１
（修正することは専間′ゾＶ′ことって容易である。た
だこの特定区域の空間位］Ｗが、３Ｉ＋１定信号の特徴
的な構造から決定され、又この空間立直が局所場の影響
で見かけ上移動した畝１（・ζあるとされることが重要
である。

コンピュータ制御”Ｊ＝ｉｃｏｒＪにおいて実行可顛Ｄ
サブプログラムＬＥＩＴＳＵに従って導１λ路りの中央
の座標と決定することができる。その際導電路りと横切
る走査（Ｃよって作られた電圧信号が使用される。この
４電路りを横切る走査の実例は、走査曲線の半分は４電
路に平行し、他の半分は導１路１て垂直になるようにし
て行われる。走査曲線が別の経過全とる場合にはサブプ
ログラムもそれシて応じて変更しなければならない。

この実例において実ｊｔｌｌされた電圧濱号は、走置、
９一方の半分では純粋な雑音イ言号から構成され、他の
半分で（ｉ准Ｊ信号と実効１１号を重ねたものとなる。

測定ざ几た電圧官記は走査全体に亘って亘流電を五分全
示す。

導′屈路りがその周囲より′／ｉ４つた′混酸Ｖである
ときＬする重重コノトラストに基ぐかあるいは禄端効里
に基いて測定ｚ号曲線は導電Ｌ′δ摩端（（分いて上昇
あるいは降下するから、それによって導電路りの位置と
その中央点が決定される。導電路を横切る１回の走査に
よって得られる実効信号、・ま微弱でちるから、このよ
うな走査を繰り返し実施してそのＪＩ１１定結果全結果
全体的評価により満足できる最終結果が得られる。従っ
てサブプログラムＬ　Ｅ工ＴＳＵは最初充分な導４路中
央の探索結果の達成（て必要な導電路を横切る走査の回
数５ＣＡＮＷＩを求め、その後で導Ｃ【路中央の座標を
求めるもつでなければならない。そのためにサブプログ
ラムＬｚ工ＴＳＵば、画１重メモリ中座標軸毎に設けら
れるラスタ点の数と導電路を横切る走査曲、１泉の長さ
ＬＳＣＡＭを入力として受取る。ここで走査曲線長ＬＳ
ＣｋＮはを査血線に沿ったラスタ点の特定政として表わ
され、導電路の幅ＬＫ工ＴＢは１−１えず／ｊ　ｍを単
位として表わさ九る。

直流分を除かれた測定信号のＳＮ比は充分な結果を得る
のに必要な導電路を横切る走査の実施回数を決定する。

導電路を横切る１つの走査曲線に沿って行われた複数回
の走査による測定結果が加え合わされるときは、その和
に分いては実効信号う：改善されているばかりでなく雑
音信号も低減されている。雑音信号は統計的に変動する
量であり、ｍｌり定を操り返すことによりいくらでも小
さくすることができる。例えｉｄ′複数回の走査を通し
て加え守わされた測定値から実験的に求められた′３Ｎ
比の設定値ＱｓｏｂＬから出発すると、充分満足される
結果の達成に必要な走査回教ＳＣＡＭＷＩは次の式から
求められる。

ここで５ＣＡＮＷＩ　　：走査の操り返し回数。

ＳＲ：１回の走査に分いての９Ｎ比。

Ｌ　Ｓ　ＣＡ　Ｎ　Ｈ：ラスタ点で表わした走査曲線の
長さの半分 ＬＢＲｌｅＩＴ　　：ラスタ点で表わした４電路Ｔ、対
するＳＮ比ＳＲの望ましく ない関係会補償する補正項 各回の走査に際してのＳＮ比の定義は後で与える。

式（１）の変換により次式が得られるっ１１！々の走査
；（おいてのＳ！Ｊ比ＳＲを求めるためには、各走査で
得られた測定信号から直流電工分を引いておかなければ
ならない。走査１ｉｌＩ線はその半分が導電路乙に平行
であり、残りの半分は４電路ンζ垂直であるから、続い
て走査曲線のいずｎの半分に実効信号が含まれているか
を調べなけれ？ｆならな°ハ。実効信号は正負いずれで
もよいから。

両半分のいずれに実効信号が含まれているかが不明であ
ることとこの実効信号う：正でちるが・負でも乙かが不
明であること、て胡き４つの互に異ったケースを考えな
ければならない。

いずれの半分から実効信号が求められるかの判定基準は
走査曲線の両半分において・Ｄ測定結果の標準１差の比
咬でちる。標準偏差う：小さいのは純准音１号だけが求
められろ走査ｉｌ］線の半分である。

標準偏差の計算にはライブラリーエムエーテイーエノチ
ＣＬｉｂｒａｒｙ　ＭＡＴＨ（ｍａｔｈｅｍａｔｉｃ　
ＦＯＲＴＲＡＮ−３ＵＢＦＩＯＵＴＩＮ、Ｐ７＋　＋ｏ
ｏ−ｏｏｏｏ＋−Ｘ−４−３５ンのすブルーティンＳ工
（）ＭＡＩが（吏用され、両半分に属する」１１定値の
平均値も同時に９出される。これによって走査曲線の両
半分に対してそれぞれの標＄偏差Ｓ＋、　　Ｓ２と平均
値１ｆｆｊ　。

！Ｊ　Ｗ　２が決定される。これらの値から次の諸式に
より測定信号の直流電圧分ＭＷ、　　この直流電圧分？
差引いた純雑音Ｍ号の実効値ＥＦＦＷ？および実効信号
を含む走査曲線半分の同じく直流電圧分全差引いた測定
信号り実効値１（ＦＦｆ２が計算さ几る。

ＥＦＦＷ１＝Ｓ　１．　　Ｓｌ＜Ｓ２　　　　　　’、
３１Ｆ２ＦＦＮ２＝五ＭＷ２−ＭＷｉ　）２＋　（Ｓｔ
　２　）２（４）Ｍ　Ｗ　　　　＝　Ｍ　Ｗ　１（５） 従って純雑音信号の平均値ｙｗ＋は測定信号の直流電圧
ｆ＋ｙＷ！て等しい。純雑音信号の襟進偏差−３１は実
効１３号を含む測定信号の標題偏差Ｓ２より小さい。

光分有効な測定結果を得るため（Ｃ必要な走査操り返し
回数８（：！ＡＮＷＩは式（２）を使用して式ｆ３）。

（４１，（５）から求められる。

４電路中央の計算に対してはまず測定場５ＣＡＵＯ値か
ら直流電子分ＭＷを引き去って副定信号曲標を決定する
。このようＫして求めて測定信号は実際の計算例では最
大５１２個の数値から成る数値列であるが、これには常
に強い１１＃斤が重ねられている。ＳＮ比ＥＩＲは場合
によって相当小さい値であるから、次のような２＋ｇ類
の０Ｊ１１定信号予備処理が効果的である。１．　　雑
音レベルの抑圧、２゜実効信号の改善。

この処理の、ためＫは測定信号を平滑にすると有テリで
ある。これには例えば上記のライブラリーエムｘ−ティ
ーエッチ（Ｌｉｂｒａｒｙ　ＭＡＴＴ（）に含まれてい
るサブルーティ／ＧＬＩ１ｍＫを利用する。このサブル
ーティノでは１１４列の指数関数的平滑化が行われ、そ
の良好変は定数Ｇによって変化させる。測定２号の別の
平滑化方式としては、例えば特定数こ０点について平均
値をとる単純な線形平置ｒヒ方式が考えられる。この平
均値計１７はできるだす繰り返して行うことが必要であ
る。

す１１１定信号のすぐれ、を平置１ヒ方式としては、４
電路の・唱をも考フｚに入れる１４つ相１，４分析′つ
；推奨される。この分析法では測定場５ＣＡＨの第１値
から始めて特定置敷のＳ　ＣＡ　Ｎ　ｒｉを加え合せ、
この和音Ｓ　ＣＡ　Ｈの第１値に対むさせる。加え合せ
る５ＣＡＮ値′侍定１（２）数としては例えば導７を路
幅をラスタ点に換算して得られるＩ固数と採用すること
がで入る。相関の、２幅としては従ってラスタ点で表わ
された４電路Ｉ唱う：選ばれる。このようにして５測定
場５ＣｋＨの各数値は特定個数の５ＣＡＮ数値を加え合
せた和に対応し、この和はそれが最終的に対応する５Ｃ
ＡＮ数値に対して一定の関数を保っていなければならな
い。−例として１つの数値列の各数値においてその前の
数値に対応する和から最初に得られた数値を引き去り、
数値列の新らたな数値を加えたものを該当するｅＩ値に
対応させる。理想的な場合、即ち矩形測定信号と測定さ
れた矩形信号の幅に等しい窓幅の場合測定された矩形信
号がｊｌｌｌ定信号の始めと終りにおいて充分、を間隔
を保っていれば、この方法により二等辺三角形信号７）
Ｘ得られる。実験によりこの相関分析は強い雑叶が重ね
今わさ九ている粗形関数に対して満足すべき、結果を与
え、雑肝が低減されるだけではなく実効信号が数値に増
強されることが明らかにされた。実際によく生ずること
であるが窓Ｉ唱が正確に寿効イざ号のＩｆ、　：ｒζ−
故しないときは、上記の相関分析によりいくらか偏平に
さｎた三角形の１ｇ号が得られる。この信号形状は変数
の楊ｓｕＭｌて記憶され得るものであり、それから作ら
れた信号面の重心座標を決定することにより簡単に１４
電路■、■中央点を定めることができる。ＳＵＭの総て
の負１σの符号を変えた後、特定のしきい値以下の低て
の値を打消してゼロにす４．ＳＵＭＬｆ）流動インデッ
クスの関数として表わされた重心、座標１８は。

実効信号の部幅Ｕよと流動インデックス１の積を認て／
ｍえ合せ、それを啜幅和ＤＵに１余すること、でよって
求められる。

この場合相当大きな数値が現れるので、ＩＮＴＰ２　Ｇ
　Ｐ２　Ｒ４−Ｖａｒｉａｂｌｅ　ｆ使用する必要があ
る。

測定場５ＣＡＮの各数値が、この数値を第１和としてこ
れに窓幅内に存在する相関の回数えは導電路幅内のラス
ク点の個数に相当する個数の続ぐ数値を加え合すること
によって作られた和に対応するように相関フィールドＳ
［７Ｍが構成さ几ていると、重心座標１Ｂはほぼ導電路
りの一方の縁端上１である。４電路中央のｐＢ標１１７
１は重心座標１６を使用して次式で与えられる。

このようにして求めた導電路中央座標１゜とそのときの
走査面、線の中点との対応は簡単な換算によって求めら
れる。

前記のＳＮ比ＳＲは次式で定義される。

即ちＳＲは実効信号と含む測定信号の実効値ＥＦ！ｉ′
Ｗ２と純雑音信号の実効値ＰＦＦＷ＋の比から１を引い
たものである。ただしこれらの実効値からは直流電圧分
ＥＶが差引かれている。予期される結果の精確度はＳＮ
比ＳＲから推定することができる。ＳＲが１．５より大
きいと、測定結果の真値からの偏差は最大±３ラスク点
である。導体路幅が６０ラスク点即ち２μｍであるとさ
、この誤差は最大で導電路幅の±１０チとなる。導電路
幅の増減によっては結果の精度は改善も改悪もさ几ない
。又測定信号の形状も大きな非対称性を示さない限り結
果の精度に影響を及ぼさない。

導電路の幅が６０個のラスク点で与えられると走査曲線
の長さには飼えば２５６個のラスク点を使用することが
できる。

実効信号の非対称性が大きいときは重心法による導電路
中央の決定は良好な結果を与えないことがある。しかし
常に等しい非対称性のものを対象とする場合には、一定
の補正値によって測定信号全精確なものにすることがで
きる。非系統的で不規間＋１な非対称性であれば、平滑
化された信号をし１］え、ｉｌつの特定な値で切断する
ことができる。こつ場合平滑化ンζよって実効信号から
非対称性が除かれるが、それによって信号に含まれる情
報の一部が失われる。

第４図に試、倹点ＭＰの有利な実施形帳を示す。

内部の試験点ＩＪＰが自動位置決めに除してよりよく見
分けられるようにするためには、この試験点、つ：正方
形その他（菱形、矩形１円形４）の形であり、その２つ
の頂点が常に４電路りの中央にイかれ、−辺の長さが導
電路幅より大きくなければならない。正方形試験点は粒
子ゾンデの自動位置決めに際して正方形の辺：Ｃ平行に
走置される。従って走査曲線Ｒは導電路りの中央線番て
斜行する。この試験点ＭＰの特殊形状は試験点の効果的
な拡大を可能にし、測定点ＭＰのｘ＋７両浬標が迅速か
つ確実に見出されるようになる。

第５図には試験点ＭＰ３の別の有利な実施形帽を示す。

例えば集積回路に分いて１つの４五洛Ｌ３が４電路Ｌ１
．Ｌ２を含む他の２つの上下に重ねられた導電路面の下
にオかｎているとき、４電路り乙に設けられた接続節点
ｖ′Ｃ灼して接触面ＭＰ３を１つの金属化面に作り、こ
れに電子ゾンデＰＫが達し得るようにすることができる
。接触面ＭＰ３ばこの場合導電路Ｌ３上の接続節点と導
電結合される。

【図面の簡単な説明】

繕■１図はこの発明の方法を実施する装置のｒｌｌ成を
示し、第２図は電子ゾンデの１４電路１（向けての位１
、央めを説明する図面であり、第３図は′１程子ゾ／デ
の位置決めに際して得られる測定１言号を示し、第４図
と、第５図はそれぞれ試験区域の有ｆｌ」な実施形態を
示す。第１図において ＰＥ　　拉子ノ゛／デ、工Ｃ・・試験対束の集積回路、
ＤＴ・・検出器、ｓｐ　・信号処理装置、ＣＲＴ・・電
子ビーム測定１５１１ＭのＦ９像スクリーン。 ＩＧ　１ ＩＧ４ ＩＧ５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）（ａ）粒子ゾンデが予め定められた区域に向つて位
   置決めされること、 （ｂ）この区域の周囲で粒子ゾンデが種々の異つた場所
   に当るように偏向されること、 （ｃ）粒子ゾンデが種々の異つた場所に当つたとき送り
   出される測定信号が検出され ること、 （ｄ）この測定信号から特定の区域（ＭＰ）の位置が決
   定されること、 （ｅ）粒子ゾンデがこの位置を決定された区域（ＭＰ）
   に向つて位置決めされること を特徴とする現在位置が局所場に基き設定位置から移動
   して認められる特定区域（ＭＰ）に向つて粒子ゾンデを
   自動的に位置決めする方法。 ２）測定信号として二次放射信号が使用されることを特
   徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３）導電路（Ｌ）の縁から発生した測定信号が使用され
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項又は第２項記
   載の方法。 ４）電位コントラスト信号が抑圧されることを特徴とす
   る特許請求の範囲第３項記載の方法。 ５）測定信号として電位コントラスト信号が使用される
   ことを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第３項の１
   つに記載の方法。 ６）粒子ゾンデがステップモータの助けによつて予め定
   められた値に位置決めされることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項乃至第５項の１つに記載の方法。 ７）粒子ゾンデがレーザー測定系の助けによつて予め定
   められた値に位置決めされることを特徴とする特許請求
   の範囲第１項乃至第６項の１つに記載の方法。 ８）粒子ゾンデのドリフトがコントロールされ補償され
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第７項の
   １つに記載の方法。 ９）粒子ゾンデの位置決めが測定中調整されることを特
   徴とする特許請求の範囲第８項記載の方法。 １０）導電路に向つての粒子ゾンデの位置決めのために
   ２方向の走査が行われ、その一方は導電路（Ｌ）の外で
   行われ、他方は導電路を横切つて行われることを特徴と
   する特許請求の範囲第１項乃至第９項の一つに記載の方
   法。 １１）導電路に向つての粒子ゾンデの位置決めのために
   ２方向の走査が行われ、その一方は導電幅の内部で行わ
   れ、他方は導電路を横切つて行われることを特徴とする
   特許請求の範囲第１項乃至第９項の１つに記載の方法。 １２）導電路に向つての粒子ゾンデの位置決めのために
   ２方向に走査が行われ、これらの方向は０°以上の角度
   で交り、いずれも充電された区域（ＭＰ）の上を通過す
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第９項の
   １つに記載の方法。 １３）雑音信号が消去された測定信号（ＳＩ）が得られ
   ることを特徴とする特許請求の範囲第１項乃至第１２項
   の１つに記載の方法。 １４）充分な実効信号を与える回数の走査が行われるこ
   とを特徴とする特許請求の範囲第１３項記載の方法。 １５）少くとも１つの金属化層の下に隠されている導電
   路（Ｌ３）が電気導線を通して試験面（ＭＰ３）に結ば
   れ、この測定面が粒子ビームによる電位測定が可能であ
   り、その寸法は導電路（Ｌ３）の幅よりも大きいことを
   特徴とする現在位置が局所場のために設定位置から外れ
   て認められる特定区域（ＭＰ３）に向つて粒子ゾンデを
   自動的に位置決めする装置。 １６）導電路（Ｌ）に試験面（ＭＰ）があり、その寸法
   は導電路の幅より大きいことを特徴とする現在位置が局
   所場のために設定位置から外れて認められる特定区域に
   向つて粒子ゾンデを自動的に位置決めする装置。