JPS6160622B2 - - Google Patents

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JPS6160622B2
JPS6160622B2 JP56210185A JP21018581A JPS6160622B2 JP S6160622 B2 JPS6160622 B2 JP S6160622B2 JP 56210185 A JP56210185 A JP 56210185A JP 21018581 A JP21018581 A JP 21018581A JP S6160622 B2 JPS6160622 B2 JP S6160622B2
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JP
Japan
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semiconductor laser
optical
signal
injected
injection
Prior art date
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JP56210185A
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English (en)
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JPS58115947A (ja
Inventor
Koichi Minemura
Hiroyoshi Rangu
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Nippon Electric Co Ltd filed Critical Nippon Electric Co Ltd
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Publication of JPS58115947A publication Critical patent/JPS58115947A/ja
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Granted legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04BTRANSMISSION
    • H04B10/00Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/50Transmitters

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Semiconductor Lasers (AREA)
  • Optical Communication System (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は光注入送信装置、特に送信光源とし
て働く半導体レーザの他に、この半導体レーザに
光注入する光を出力する半導体レーザを備えた光
送信装置に関する。
光フアイバ通信装置等に用いる光送信装置で
は、光源に半導体レーザを用い、この半導体レー
ザを変調信号電流で直接駆動することにより発振
と変調とを同時に行なうことが一般的である。こ
の場合、高レベルの出力光を得るために、半導体
レーザを大振幅の変調信号で駆動することが多い
が、そうすると半導体レーザの発振光スペクトル
幅は広がり、マルチ縦モードになるのが通例であ
つた。送信光の光スペクトル幅が広いと、伝送路
に使用される光フアイバの材料分散により、伝送
路出力端ではモード分配雑音が生じたり、信号光
の周波数特性が劣化するという欠点があつた。ま
た、受信側でヘテロダイン検波を行なおうとする
場合には、送信光が単一スペクトルでないと受信
感度の劣化等が生じるという欠点があつた。
半導体レーザはその構造にもよるが、通常は直
流励起の場合には単一スペクトルで発振するとい
う特性を有する。そのために、従来は直流励起に
より単一スペクトルで発振している半導体レーザ
の出力光を、変調信号電流で励起されてマルチ縦
モードで発振している半導体レーザに注入するこ
とにより、光注入された半導体レーザの出力光の
光スペクトルを注入光の単一スペクトルに一致さ
せた単一スペクトル発振にするという技術が開発
されている。
しかし、従来のこの技術では、光注入を受ける
半導体レーザがパルス信号で変調されている場
合、この半導体レーザにはレーザ発振が生じない
符号“0”の時にも光が注入されるために、特に
符号“0”の時の雑音の増加が起こるという欠点
があつた。
この発明の目的は、注入光による被注入半導体
レーザの雑音の増加を抑制した光注入送信装置を
提供することにある。
この発明によれば、第1の半導体レーザと、該
第1の半導体レーザの出力光が注入される第2の
半導体レーザと、前記第1、第2の半導体レーザ
に励起信号を与えるための電気信号入力端子を有
し、前記第2の半導体レーザに注入される注入光
信号と前記第2の半導体レーザの励起信号とを同
期させることを特徴とする光注入送信装置が得ら
れる。
この発明の光注入送信装置では、注入光を出力
する第1の半導体レーザは、光が注入される第2
の半導体レーザを励起する信号と同じ情報の信号
で変調されており、しかも第1の半導体レーザの
出力光信号である注入光信号が第2の半導体レー
ザに注入されるときには、この第2の半導体レー
ザの励起信号と同期されている。そのために例え
ば電気信号入力端子に入力する信号がパルス符号
変調された信号の場合には、第2の半導体レーザ
の励起信号の符号と注入光信号の符号とは一致し
ている。
ところで、第1の半導体レーザの励起信号電流
には、スレシホルド電流よりもわずかに大きい直
流バイアス電流と小振幅のパルス信号電流とを用
いればこの第1の半導体レーザからは出力光の符
号が“1”のときには単一スペクトル発振のパル
ス変調された光信号が出力出来る。一方、第2の
半導体レーザの励起信号電流には、スレシホルド
電流よりもわずかに小さい直流バイアス電流と大
振幅のパルス信号電流を用いれば、注入光が無い
場合には、発振スペクトルは単一ではないが高出
力のパルス変調された光信号を第2の半導体レー
ザより出力させることが出来る。
ここで、第1の半導体レーザの出力光信号であ
る注入光信号を第2の半導体レーザに注入すれ
ば、第2の半導体レーザの励起信号の符号が
“1”のときには注入光信号の符号も“1”で注
入光信号のレベルは比較的高く、しかも注入光信
号の光スペクトルも単一なので、第2の半導体レ
ーザの発振光スペクトルは注入光の単一スペクト
ルと一致した単一スペクトルになるとともに、ピ
ーク値の大きい、符号が“1”の光パルスが第2
の半導体レーザより出力出来る。
一方、第2の半導体レーザの励起信号の符号が
“0”のときには、注入光信号の符号も“0”で
レベルが低いために、第2の半導体レーザの動作
に与える影響は小さく、注入光により雑音が発生
するということはほとんど無いし、また第2の半
導体レーザから出力される光レベルも符号が
“1”の場場合に比べると非常に小さい。
次にこの発明を実施例により図面を参照して説
明する。
第1図はこの発明の一実施例の構成を示すブロ
ツク図、第2図はこの実施例を説明するための各
部の信号波形の一部を示した図である。
電気信号入力端子1に入力した変調信号は分岐
回路2に導びかれ、等価な2つの信号に分けられ
る。この分岐回路2の出力の一方の信号は第1の
駆動回路3に導びかれて増幅されたのち、直流バ
イアス電流に重畳されて第1の半導体レーザ4に
印加されている。この第1の半導体レーザ4は、
スレシホルド電流が温度25℃で30mA、、発振波
長が約1.56μmのInGaAsP半導体レーザで、埋め
込みヘテロ構造を有している。電気信号入力端子
1に入力している変調信号は、ビツトレイトが
400Mb/s、デユーテイフアクタが約50%のパル
ス符号変調された信号で、この信号の波形を第2
図bに、符号を第2図aに示す。
この信号は第1の駆動回路3でパルスピーク値
が10mAの信号に変換されると共に、第1の半導
体レーザ4のスレシホルド電流よりもわずかに高
い値(35mA)の直流バイアス電流に重畳されて
第1の半導体レーザ4に印加されている。この第
1の半導体レーザ4からは、パルスの符号が
“1”のときの光パワーが1.5mW、光スペクトル
が単一スペクトル、パルスの符号が“0”のとき
の光パワーが0.5mWの光パルス信号が出力され
ている。この光パルス信号の波形を第2図bに対
応させて第2図cに示す。
第1の半導体レーザ4の出力の光パルス信号
は、結合回路5に入り、ここのレンズ系で集光さ
れて第2の半導体レーザ6に注入される注入光信
号になつている。なお結合回路5には光アイソレ
ータが備えられており、第1の半導体レーザ4の
出力光はこの光アイソレータを1dB以下の低損失
で通過するが、第2の半導体レーザ6等での反射
光は25dB以上の損失を受けるために、反射光は
第1の半導体レーザ4には戻りにくくなつてい
る。第2の半導体レーザ6には、第1の半導体レ
ーザ4と同じ構造で、ほぼ同じ特性のものが使用
されており、スレシホルド電流は温度25℃で
30mA、発振波長は約1.56μmである。
分岐回路2の出力の2つの信号のうちの他方
は、第2の駆動回路7に導びかれ、パルスピーク
値が60mAの信号に変換されると共に、第2の半
導体レーザ6のスレシホルド電流よりもわずかに
低い値(29.5mA)の直流バイアス電流に重畳さ
れて第2の半導体レーザ6に印加されている。
第2の半導体レーザ6は、第1の半導体レーザ
4からの注入光信号が注入されないときは、出力
光パルスピーク値が5mW、パルスオン−オフ比
が15dB、光スペクトルがマルチ縦モード(縦モ
ード間隔が4Å、スペクトル包絡線の半値全幅が
30Å)で発振する。
第2の半導体レーザ6の励起信号は注入光信号
と同期するように、第2の駆動回路7の出力の信
号の位相が定められている。この励起信号の波形
を第2図dに示す。また、注入光信号の符号
“1”の場合の単一スペクトルは、第2の半導体
レーザ6のスペクトルであるマルチ縦モードのう
ちの一つに合致するように、第1の半導体レーザ
4の温度が制御されている。
このような状態で注入光信号が第2の半導体レ
ーザ6に注入されると、第2の半導体レーザ6の
発振光スペクトルは注入光信号の発振光スペクト
ルである単一スペクトルに一致した単一スペクト
ルになる。また、第2の半導体レーザ6の出力光
パルスの符号が“0”の場合には、注入光信号の
符号も“0”で注入光レベルが低いために、雑音
の発生は小さく抑えることが出来る。なお、以上
のような光注入により、第2の半導体レーザ6の
出力光パルスのピーク値は約5.3mWになつた。
このときの第2の半導体レーザ6の出力光パルス
信号の波形を第2図eに示す。
なお、以上の実施例では、第1、第2の半導体
レーザ4,6は波長が約1.56μmで、埋め込みヘ
テロ構造のInGaAsP半導体レーザであるとした
が、他の波長、他の材料、他の構造のものであつ
てもよい。例えば、注入光を出力する第1の半導
体レーザには、光出力が小さくても単色性の高い
光スペクトルが得やすいもの、注入光が注入され
る第2の半導体レーザには大出力光が得やすいも
のというような使い分けをしてもよい。
また、注入光が注入される第2の半導体レーザ
の励起信号を、注入光信号よりも数10psから数
100psの時間だけ遅らせてもよい。このようにす
れば、注入光信号は第2の半導体レーザにその発
振の直前に注入されるので、単一スペクトルの注
入光が種になつて第2の半導体レーザは単一スペ
クトルで発振し易くなるし、また注入光信号によ
つて第2の半導体レーザの緩和振動が抑圧され易
くなる。
なお、第1、第2の半導体レーザの発振波長
は、第2の半導体レーザに注入光である第1の半
導体レーザの出力光が注入された時に、第2の半
導体レーザの発振波長が注入光の波長に引き込ま
れて一致する程度に合致していればよい。すなわ
ち、第2の半導体レーザの発振波長が第1の半導
体レーザの発振波長に引き込まれて一致すること
が可能な波長の最大分離量は0.1Å〜1Å程度な
ので、第1、第2の半導体レーザの発振波長はこ
の程度の範囲内で一致していればよい。
また、第2の半導体レーザ6と第2の駆動回路
7には、第2の半導体レーザ6のスレシホルド電
流の温度変化や経年変化を補償するための自動出
力制御回路を設け、第2の半導体レーザ6の出力
光パワーが温度等によらずに常に一定値になるよ
うに直流バイアス電流を制御してもよい。同様
に、第1の半導体レーザ4の出力光パワーが一定
になるように、その直流バイアス電流を制御して
もよい。
この発明によれば、以上説明したように注入光
による被注入半導体レーザの雑音を制御した光注
入送信装置が得られる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例の構成を示すブロ
ツク図、第2図はこの実施例を説明するための各
部の信号波形図である。 1……電気信号入力端子、2……分岐回路、
3,7……駆動回路、4,6……半導体レーザ、
5……結合回路。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 第1の半導体レーザと、該第1の半導体レー
    ザの出力光が注入される第2の半導体レーザと、
    前記第1、第2の半導体レーザに励起信号を与え
    るための電気信号入力端子を有し、前記第2の半
    導体レーザに注入される注入光信号と前記第2の
    半導体レーザの励起信号とを同期させることを特
    徴とする光注入送信装置。 2 第2の半導体レーザの励起信号が前記第2の
    半導体レーザに注入される注入光信号に対して
    10ps〜数100psの時間遅延を持つことを特徴とす
    る特許請求の範囲第1項記載の光注入送信装置。 3 第1の半導体レーザの発振光スペクトルが単
    一スペクトルであることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項または第2項記載の光注入送信装置。 4 第2の半導体レーザの発振光スペクトルが前
    記注入光信号により単一スペクトルになると共
    に、注入光信号の単一スペクトルに一致すること
    を特徴とする特許請求の範囲第3項記載の光注入
    送信装置。
JP56210185A 1981-12-29 1981-12-29 光注入送信装置 Granted JPS58115947A (ja)

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JP56210185A JPS58115947A (ja) 1981-12-29 1981-12-29 光注入送信装置

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JP56210185A JPS58115947A (ja) 1981-12-29 1981-12-29 光注入送信装置

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JPS58115947A JPS58115947A (ja) 1983-07-09
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0514730Y2 (ja) * 1986-08-11 1993-04-20

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10245717A1 (de) * 2002-09-25 2004-04-22 Technische Universität Berlin Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen eines optischen Laserpulses

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JPH0514730Y2 (ja) * 1986-08-11 1993-04-20

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JPS58115947A (ja) 1983-07-09

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