JPS6158111B2 - - Google Patents
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- JPS6158111B2 JPS6158111B2 JP54067348A JP6734879A JPS6158111B2 JP S6158111 B2 JPS6158111 B2 JP S6158111B2 JP 54067348 A JP54067348 A JP 54067348A JP 6734879 A JP6734879 A JP 6734879A JP S6158111 B2 JPS6158111 B2 JP S6158111B2
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10G—CRACKING HYDROCARBON OILS; PRODUCTION OF LIQUID HYDROCARBON MIXTURES, e.g. BY DESTRUCTIVE HYDROGENATION, OLIGOMERISATION, POLYMERISATION; RECOVERY OF HYDROCARBON OILS FROM OIL-SHALE, OIL-SAND, OR GASES; REFINING MIXTURES MAINLY CONSISTING OF HYDROCARBONS; REFORMING OF NAPHTHA; MINERAL WAXES
- C10G35/00—Reforming naphtha
- C10G35/04—Catalytic reforming
- C10G35/10—Catalytic reforming with moving catalysts
- C10G35/12—Catalytic reforming with moving catalysts according to the "moving-bed" method
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/003—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor in a downward flow
-
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- B01J8/02—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds
- B01J8/0207—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid flow within the bed being predominantly horizontal
- B01J8/0214—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with stationary particles, e.g. in fixed beds the fluid flow within the bed being predominantly horizontal in a cylindrical annular shaped bed
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- Production Of Liquid Hydrocarbon Mixture For Refining Petroleum (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は炭化水素転換装置に関する。
石油工業において、特に炭化水素の接触転換を
行うのに用いられる例えば固定床あるいは移動床
型の反応器の多くは軸(アクシヤル)流型か半径
(ラジアル)流型のいずれかである。
行うのに用いられる例えば固定床あるいは移動床
型の反応器の多くは軸(アクシヤル)流型か半径
(ラジアル)流型のいずれかである。
触媒は一般に少なくとも1種の金属、例えば第
族、第A族、第A族あるいは他の族の金属
より成つており、該金属は適宜の担体(アルミ
ナ、シリカ、シリカ−アルミナ等)に担持されて
いる。球面あるいは楕円形の底部を有する実質的
に垂直の軸流型反応器の中へ、仕込物即ち処理す
べき反応体は分配装置を通つて反応器の上部から
入り、次いで、一般に、主として用いられている
触媒担体より成る固体層を通過する。この層は例
えば球形になつている。この層は触媒物質を通過
する反応体の配分を確実により良くするのに用い
られる。触媒を通過した後、反応体は2つの層、
例えば主として触媒担体で出来ていてかつ粒度の
異なる球状物の2つの層を通過する。その1つは
触媒を保持するのに役立ち、粒度の粗いもう1つ
はその上に存在する触媒及びアルミナを支持し
て、反応器の底部に設けた捕集装置を通る生成物
の回収を容易にするものである。
族、第A族、第A族あるいは他の族の金属
より成つており、該金属は適宜の担体(アルミ
ナ、シリカ、シリカ−アルミナ等)に担持されて
いる。球面あるいは楕円形の底部を有する実質的
に垂直の軸流型反応器の中へ、仕込物即ち処理す
べき反応体は分配装置を通つて反応器の上部から
入り、次いで、一般に、主として用いられている
触媒担体より成る固体層を通過する。この層は例
えば球形になつている。この層は触媒物質を通過
する反応体の配分を確実により良くするのに用い
られる。触媒を通過した後、反応体は2つの層、
例えば主として触媒担体で出来ていてかつ粒度の
異なる球状物の2つの層を通過する。その1つは
触媒を保持するのに役立ち、粒度の粗いもう1つ
はその上に存在する触媒及びアルミナを支持し
て、反応器の底部に設けた捕集装置を通る生成物
の回収を容易にするものである。
反応体の流通が上から下へ垂直に、反応器の軸
に平行して行われる(「軸流型反応器」なる語は
これに由来する)軸流型反応器の大きな欠点は、
仕込物の損失を大きくしないようにするには、触
媒層の断面が大きくなければならないのに、その
高さを比較的小さくしなければならないことであ
る。また、このような反応器の底部が球面乃至縦
断面楕円形であるために、反応器内に利用できな
い体質を生じるので、その使用はほとんど経済的
には利点のないものになつている。
に平行して行われる(「軸流型反応器」なる語は
これに由来する)軸流型反応器の大きな欠点は、
仕込物の損失を大きくしないようにするには、触
媒層の断面が大きくなければならないのに、その
高さを比較的小さくしなければならないことであ
る。また、このような反応器の底部が球面乃至縦
断面楕円形であるために、反応器内に利用できな
い体質を生じるので、その使用はほとんど経済的
には利点のないものになつている。
半径流型反応器においては、触媒床は垂直の円
環の形態をしており、内側では触媒を保持する格
子壁に、外側では反応器の側壁及び「スカロツ
プ」か、あるいは内側の格子壁と同じ型のもう1
つの格子壁のいずれかに画されている。反応体は
反応器の頂部のプレートより入り、「スカロツ
プ」を通過するか、触媒を保持する外側の格子壁
と反応器の側壁との間に存在する空間のいずれか
を通つて、触媒物質の中に配分される。触媒物質
内における流通は外側から内側に向つて、実質的
に反応器の半径に沿つて行われる(「半径流型反
応器」なる語はこれに由来する)。反応体は、触
媒床を通過した後、反応器の内側の触媒サポート
用格子壁及び小数の穴を穿つたプレートを通つ
て、垂直の円筒形捕集装置内に捕集される。この
プレートは、反応体が触媒床を通過して選択的な
流路を形成するのを避けて、反応体が触媒床を通
じて一層確実に配分されるようにするためのもの
である。
環の形態をしており、内側では触媒を保持する格
子壁に、外側では反応器の側壁及び「スカロツ
プ」か、あるいは内側の格子壁と同じ型のもう1
つの格子壁のいずれかに画されている。反応体は
反応器の頂部のプレートより入り、「スカロツ
プ」を通過するか、触媒を保持する外側の格子壁
と反応器の側壁との間に存在する空間のいずれか
を通つて、触媒物質の中に配分される。触媒物質
内における流通は外側から内側に向つて、実質的
に反応器の半径に沿つて行われる(「半径流型反
応器」なる語はこれに由来する)。反応体は、触
媒床を通過した後、反応器の内側の触媒サポート
用格子壁及び小数の穴を穿つたプレートを通つ
て、垂直の円筒形捕集装置内に捕集される。この
プレートは、反応体が触媒床を通過して選択的な
流路を形成するのを避けて、反応体が触媒床を通
じて一層確実に配分されるようにするためのもの
である。
本発明は半径流型反応器の改良に関する。
半径流型反応器の主な欠点は、触媒が時間の経
過とともに、就中半径方向内向きのガス流の影響
を受けて沈積するということ、及び、半径流型反
応器において、特に、反応器の底部より取出す使
用済触媒を反応器の上部より追加する新鮮な触媒
と取替えて、触媒の活性水準を維持したいと希望
する場合には、この沈積が触媒の取出しに関して
問題を生ぜしめるということに由来する。従つ
て、取出しが周期的に行われるにせよ、継続的に
行われるにせよ、触媒のこの取出しを可能にする
ことができなければならない。本発明の方法によ
れば、主として触媒が反応器から連続して取出さ
れる場合に、こうした問題を除去することができ
る。
過とともに、就中半径方向内向きのガス流の影響
を受けて沈積するということ、及び、半径流型反
応器において、特に、反応器の底部より取出す使
用済触媒を反応器の上部より追加する新鮮な触媒
と取替えて、触媒の活性水準を維持したいと希望
する場合には、この沈積が触媒の取出しに関して
問題を生ぜしめるということに由来する。従つ
て、取出しが周期的に行われるにせよ、継続的に
行われるにせよ、触媒のこの取出しを可能にする
ことができなければならない。本発明の方法によ
れば、主として触媒が反応器から連続して取出さ
れる場合に、こうした問題を除去することができ
る。
この取出しは、反応体に起因し、触媒粒に働い
ている力の水平分力が、重力に加つたこの力の垂
直分力に対して制御される時に、始めて可能にな
るはずである。
ている力の水平分力が、重力に加つたこの力の垂
直分力に対して制御される時に、始めて可能にな
るはずである。
本発明は、添附の第2図に示すように、
水平面による断面が円形をなす実質的に垂直な
長室を少なくとも1個備え、該長室は移動触媒床
を受入れるのに用いられかつ該長室内において実
質的に垂直に配置された環状囲域2を少なくとも
1個備え、各環状囲域2は、長室の側壁14に近
い方が「環状囲域の外壁3」と呼ばれかつ他方が
「環状囲域の内壁4」と呼ばれる2枚の円筒形側
壁を以て画され、前記環状囲域2は内外壁4,3
の間に配置されている、触媒の存在下における炭
化水素の転換に用いる装置であつて、 該長室の内側の空間によつて形成されかつ各環
状囲域2の内壁4で画されかつ各環状囲域2に隣
接した内側捕集装置9と、 該長室の側壁14と各環状囲域2の外壁3とで
画される空間によつて形成されかつ各環状囲域2
に隣接する外側の分配装置8と、 該分配装置8に連絡した反応体導入用の入口1
1と、 該内側捕集装置9に連絡した反応体取出し用の
出口6と、 各環状囲域2の上部に触媒を導入する手段と、 各環状囲域2の下部において触媒を連続して取
出すための少なくとも1個の外側捕集装置7とを
備えており、 各環状囲域2の内壁4には、その上部に、各環
状囲域2に隣接する内側捕集装置9の上部におい
て反応体が各環状囲域2から出るのを防ぐことを
目的とするスクリーン12が設けられ、該スクリ
ーン12は各環状囲域2の全幅の80乃至300%の
高さならびに下から上へ広くなる断面を有する倒
置円錐台の形態を有し、該倒置円錐台は各環状囲
域2の円筒形の内壁4と同一の軸を有し、該円錐
台の両底面の小さい方の面積は各環状囲域2の円
筒形内壁4の断面席に実質的に等しく、該倒置円
錐台の中心軸とその母線とのなす角αは10乃至40
゜の間に含まれており、各環状囲域2の外壁3
は、各環状囲域2の高さの10乃至40%を占めるそ
の上部において円錐台形を有し、該円錐台の断面
は上から下へ広くなつており、該円錐台の両底面
の大きい方は各環状囲域2の円筒形の外壁3の断
面に実質的に等しく、しかして、該円錐台の中心
軸がその母線となす角βは10乃至40゜の間に含ま
れ、 各環状囲域2の下部にて触媒を連続して取出す
ための外側捕集装置7は実質的に円筒形であり、
外側捕集装置7は、各環状囲域2の底部において
切り取る円の中心Cが各環状囲域2の内壁4から
(R−r)/3以下の距離にある如くに配置さ
れ、Rが環状囲域2の外壁3の半径、rが環状囲
域2の内壁4の半径であることを特徴とする。
長室を少なくとも1個備え、該長室は移動触媒床
を受入れるのに用いられかつ該長室内において実
質的に垂直に配置された環状囲域2を少なくとも
1個備え、各環状囲域2は、長室の側壁14に近
い方が「環状囲域の外壁3」と呼ばれかつ他方が
「環状囲域の内壁4」と呼ばれる2枚の円筒形側
壁を以て画され、前記環状囲域2は内外壁4,3
の間に配置されている、触媒の存在下における炭
化水素の転換に用いる装置であつて、 該長室の内側の空間によつて形成されかつ各環
状囲域2の内壁4で画されかつ各環状囲域2に隣
接した内側捕集装置9と、 該長室の側壁14と各環状囲域2の外壁3とで
画される空間によつて形成されかつ各環状囲域2
に隣接する外側の分配装置8と、 該分配装置8に連絡した反応体導入用の入口1
1と、 該内側捕集装置9に連絡した反応体取出し用の
出口6と、 各環状囲域2の上部に触媒を導入する手段と、 各環状囲域2の下部において触媒を連続して取
出すための少なくとも1個の外側捕集装置7とを
備えており、 各環状囲域2の内壁4には、その上部に、各環
状囲域2に隣接する内側捕集装置9の上部におい
て反応体が各環状囲域2から出るのを防ぐことを
目的とするスクリーン12が設けられ、該スクリ
ーン12は各環状囲域2の全幅の80乃至300%の
高さならびに下から上へ広くなる断面を有する倒
置円錐台の形態を有し、該倒置円錐台は各環状囲
域2の円筒形の内壁4と同一の軸を有し、該円錐
台の両底面の小さい方の面積は各環状囲域2の円
筒形内壁4の断面席に実質的に等しく、該倒置円
錐台の中心軸とその母線とのなす角αは10乃至40
゜の間に含まれており、各環状囲域2の外壁3
は、各環状囲域2の高さの10乃至40%を占めるそ
の上部において円錐台形を有し、該円錐台の断面
は上から下へ広くなつており、該円錐台の両底面
の大きい方は各環状囲域2の円筒形の外壁3の断
面に実質的に等しく、しかして、該円錐台の中心
軸がその母線となす角βは10乃至40゜の間に含ま
れ、 各環状囲域2の下部にて触媒を連続して取出す
ための外側捕集装置7は実質的に円筒形であり、
外側捕集装置7は、各環状囲域2の底部において
切り取る円の中心Cが各環状囲域2の内壁4から
(R−r)/3以下の距離にある如くに配置さ
れ、Rが環状囲域2の外壁3の半径、rが環状囲
域2の内壁4の半径であることを特徴とする。
本発明の好ましい実施態様においては、前記円
の中心Cは環状囲域2の内壁4から(R−r)/
4以下の距離の位置にある。
の中心Cは環状囲域2の内壁4から(R−r)/
4以下の距離の位置にある。
前記環状囲域2の底部において外側捕集装置7
の切り取る円は環状囲域2の内壁4に実質的に接
している。
の切り取る円は環状囲域2の内壁4に実質的に接
している。
前記円の直径は(R−r)/3以下か、または
それに等しく、さらには(R−r)/5以下か、
またはそれに等しい。
それに等しく、さらには(R−r)/5以下か、
またはそれに等しい。
長室は重なり合つた数個の環状囲域を有してい
る。また本発明の装置は直列あるいは並列に配置
した数個の長室を備えている。
る。また本発明の装置は直列あるいは並列に配置
した数個の長室を備えている。
第1図は半径流型反応器を示すものである。反
応器の模式図を簡単にするために、この反応器は
ただ1つの触媒囲域しか備えていないが、相互に
積み重ねた数個の触媒囲域を有する反応器を用い
ることもできる。また、1個乃至数個の触媒囲域
を有する数基の反応器を直列または並列に用いる
こともできる。第1図は本発明と比較するために
示したものであつて、本発明を構成するものでは
ない。反応器1は円筒形の垂直な長室であり、そ
の底部は縦断面楕円形である。この室は触媒床を
収容している2個の環状の触媒囲域2を備えてい
る。触媒囲域の側壁3(触媒囲域2の「外壁3」
と呼ぶ)及び触媒囲域の側壁(触媒囲域の「内壁
4」と呼ぶ)は円筒形であり、一般に、触媒囲域
2の内部に触媒を保持し、反応体を触媒囲域に出
入せしめ得る格子壁の形態になつている(また、
格子壁の代りに穴を穿つたプレートあるいは不活
性の焼結材料製の側壁も用いることができる)。
応器の模式図を簡単にするために、この反応器は
ただ1つの触媒囲域しか備えていないが、相互に
積み重ねた数個の触媒囲域を有する反応器を用い
ることもできる。また、1個乃至数個の触媒囲域
を有する数基の反応器を直列または並列に用いる
こともできる。第1図は本発明と比較するために
示したものであつて、本発明を構成するものでは
ない。反応器1は円筒形の垂直な長室であり、そ
の底部は縦断面楕円形である。この室は触媒床を
収容している2個の環状の触媒囲域2を備えてい
る。触媒囲域の側壁3(触媒囲域2の「外壁3」
と呼ぶ)及び触媒囲域の側壁(触媒囲域の「内壁
4」と呼ぶ)は円筒形であり、一般に、触媒囲域
2の内部に触媒を保持し、反応体を触媒囲域に出
入せしめ得る格子壁の形態になつている(また、
格子壁の代りに穴を穿つたプレートあるいは不活
性の焼結材料製の側壁も用いることができる)。
反応体は入口11を通つて反応器内へ入り、次
いで分配装置8(外側分配装置と呼ぶ)の中を流
れる。分配装置8は反応器の側壁14と格子状の
外壁3の区画する空間である(従つて、この分配
装置は環状の触媒囲域2に隣接している)。
いで分配装置8(外側分配装置と呼ぶ)の中を流
れる。分配装置8は反応器の側壁14と格子状の
外壁3の区画する空間である(従つて、この分配
装置は環状の触媒囲域2に隣接している)。
反応体は分配装置8から格子状の外壁3を通過
し、環状囲域2の触媒床を横断し、格子状の内壁
4を通つて同囲域2から出る(しばしば望ましい
ことであるが、一般に、反応体が触媒床を通過し
て、選択的な流路を形成するのを避けて、触媒床
を通じて一層確実に配分されるようにするため
に、穴を穿つたプレートを用いた、小数の穴を穿
つた側壁5を通つてもやはりこの囲域2より出て
行く。)。次に反応体は、環状囲域2の内壁を有す
る、反応器1の内側の空間である内側捕集装置9
内に集まり、それから、出口6を通つて反応器よ
り出て行く。触媒は少なくとも外側捕集装置7を
通つて連続して取出す。
し、環状囲域2の触媒床を横断し、格子状の内壁
4を通つて同囲域2から出る(しばしば望ましい
ことであるが、一般に、反応体が触媒床を通過し
て、選択的な流路を形成するのを避けて、触媒床
を通じて一層確実に配分されるようにするため
に、穴を穿つたプレートを用いた、小数の穴を穿
つた側壁5を通つてもやはりこの囲域2より出て
行く。)。次に反応体は、環状囲域2の内壁を有す
る、反応器1の内側の空間である内側捕集装置9
内に集まり、それから、出口6を通つて反応器よ
り出て行く。触媒は少なくとも外側捕集装置7を
通つて連続して取出す。
一般に、反応器の上部における反応体及び触媒
の流路を一層有効なものにするために、環状囲域
の上部において、反応体の進路を下方に向けて屈
折せしめることを目的とするスクリーン12を設
ける。このスクリーン12は詰まつた(即ち穴の
あいていない)囲域で出来ている。
の流路を一層有効なものにするために、環状囲域
の上部において、反応体の進路を下方に向けて屈
折せしめることを目的とするスクリーン12を設
ける。このスクリーン12は詰まつた(即ち穴の
あいていない)囲域で出来ている。
このスクリーン12は各環状囲域の全幅の80%
乃至300%の高さを有し、倒置円錐台形をしてお
り、その断面は下から上へ広くなつている。倒置
円錐台は各環状囲域2の円筒状の内壁4と同一の
軸を有し、その両底面の小さい方の面積は各環状
囲域2の円筒状の内壁4の断面積に実質的に等し
く、倒置円錐台の軸とその母線の1つとなす角は
10乃至40゜の間に含まれるものである。
乃至300%の高さを有し、倒置円錐台形をしてお
り、その断面は下から上へ広くなつている。倒置
円錐台は各環状囲域2の円筒状の内壁4と同一の
軸を有し、その両底面の小さい方の面積は各環状
囲域2の円筒状の内壁4の断面積に実質的に等し
く、倒置円錐台の軸とその母線の1つとなす角は
10乃至40゜の間に含まれるものである。
従つて、あたかも環状の触媒囲域2の上部にお
いて、格子状の内壁4の穴がふさがれているが如
くに、一切が進行するのである。
いて、格子状の内壁4の穴がふさがれているが如
くに、一切が進行するのである。
望ましくは、触媒床を通過する反応体の流れを
撹乱しないように、半径流型反応器を以下の如く
にも製作する。
撹乱しないように、半径流型反応器を以下の如く
にも製作する。
各環状囲域2の外壁3は、その上部において各
環状囲域2の高さの10乃至40%を占めているが、
(この外壁の他の部分の如く円筒形ではなく)円
錐台の形態を有し、その断面は上から下へ広くな
り、この円錐台の両底面の大きい方は環状囲域2
の円筒形の外壁3の断面積に実質的に等しく、こ
の円錐台の軸がその母線となす角は10乃至40゜の
間に含まれる如くにする。
環状囲域2の高さの10乃至40%を占めているが、
(この外壁の他の部分の如く円筒形ではなく)円
錐台の形態を有し、その断面は上から下へ広くな
り、この円錐台の両底面の大きい方は環状囲域2
の円筒形の外壁3の断面積に実質的に等しく、こ
の円錐台の軸がその母線となす角は10乃至40゜の
間に含まれる如くにする。
換言すれば、反応体の入る格子状の外壁3の上
部を円錐台形のスクリーン13を以て代えたこと
になる。
部を円錐台形のスクリーン13を以て代えたこと
になる。
多くの場合、外壁3の円錐台形の部分の高さは
倒置円錐台形のスクリーン12の高さに実質的に
等しい。
倒置円錐台形のスクリーン12の高さに実質的に
等しい。
第2図は本発明を示すものである。第1図との
相違は触媒の連続取出し用の外側捕集装置7の位
置である。
相違は触媒の連続取出し用の外側捕集装置7の位
置である。
経験によれば、第1図、第2図に示す如き半径
流型反応器においては、触媒物質のスクリーン1
2,13の下側にある部分の中での反応体の進路
(第1図における進路10a)は、a)反応体の
入つて来る入口のスクリーン13に垂直の方向に
実質的に水平の進路、b)斜めの進路及びc)内
側捕集装置9の付近における水平の進路に分けら
れる。触媒物質の下部においては、反応体の進路
(第1図における進路10b及び10c)はそれ
ほど傾斜しておらず、反応器の基部では水平の線
に近くなつている。
流型反応器においては、触媒物質のスクリーン1
2,13の下側にある部分の中での反応体の進路
(第1図における進路10a)は、a)反応体の
入つて来る入口のスクリーン13に垂直の方向に
実質的に水平の進路、b)斜めの進路及びc)内
側捕集装置9の付近における水平の進路に分けら
れる。触媒物質の下部においては、反応体の進路
(第1図における進路10b及び10c)はそれ
ほど傾斜しておらず、反応器の基部では水平の線
に近くなつている。
この3本の進路10a,10b,10cはその
形及び長さ、ならびにこれらの進路に従つて流れ
る反応体の量によつて差ができる。
形及び長さ、ならびにこれらの進路に従つて流れ
る反応体の量によつて差ができる。
ところが、結局は、また主として、触媒の反応
器内への継続的導入と反応器外への継続的取出し
を伴う継続方式においては、触媒粒子は第1図の
屈折した進路10a,10b,10cに従う傾向
を示すことが確められている。このことは、第1
図における屈折した進路10cに近い、反応器の
下部における触媒の進路についても同様である。
第1図の外側捕集装置7は常に環状囲域に画され
る環帯の幅の中心部に配置されている。かくし
て、第1図、第2図の反応器の底部の断面を示す
第3図においては、反応器の外壁14、環状囲域
の外壁3及び環状囲域の内壁4、それに穴を穿つ
た側壁5が認められる。環状囲域は幅がR−rな
る環帯の境界をなしている。従つて、第1図にお
いては、触媒取出し用の外側捕集装置7は、その
中心C′が環状囲域2の幅の半ば(換言すれば、
環状囲域2の外壁3と内壁4の距離の中央)より
外側に位置するように製作されている。
器内への継続的導入と反応器外への継続的取出し
を伴う継続方式においては、触媒粒子は第1図の
屈折した進路10a,10b,10cに従う傾向
を示すことが確められている。このことは、第1
図における屈折した進路10cに近い、反応器の
下部における触媒の進路についても同様である。
第1図の外側捕集装置7は常に環状囲域に画され
る環帯の幅の中心部に配置されている。かくし
て、第1図、第2図の反応器の底部の断面を示す
第3図においては、反応器の外壁14、環状囲域
の外壁3及び環状囲域の内壁4、それに穴を穿つ
た側壁5が認められる。環状囲域は幅がR−rな
る環帯の境界をなしている。従つて、第1図にお
いては、触媒取出し用の外側捕集装置7は、その
中心C′が環状囲域2の幅の半ば(換言すれば、
環状囲域2の外壁3と内壁4の距離の中央)より
外側に位置するように製作されている。
その結果、捕集装置9の方向に内壁4に向つて
同伴される触媒粒子は、外側捕集装置7を通つて
排出され得るためには、次いで、多少とも反応体
に逆流して、また(これも反応体に同伴された)
その他の触媒粒子に逆流して進んで行かねばなら
ない。その結果、反応器の下部における触媒物質
全体の避けられない沈積と撹乱が極めて急速に生
じる。次に、この撹乱が外側捕集装置7による触
媒の排出を乱し、これが、反応器内で行われる反
応の成績の低下として現われて来る。
同伴される触媒粒子は、外側捕集装置7を通つて
排出され得るためには、次いで、多少とも反応体
に逆流して、また(これも反応体に同伴された)
その他の触媒粒子に逆流して進んで行かねばなら
ない。その結果、反応器の下部における触媒物質
全体の避けられない沈積と撹乱が極めて急速に生
じる。次に、この撹乱が外側捕集装置7による触
媒の排出を乱し、これが、反応器内で行われる反
応の成績の低下として現われて来る。
本発明による外側捕集装置7の配置にすれば、
これらの欠点は避けることができる。本発明によ
れば、第3図における外側捕集装置7の円7aの
各々の中心Cは外壁3よりも内壁4により近い位
置で、環状囲域2の内壁よりの距離がR−r/3以 下、望ましくはR−r/4以下の位置にある。この場 合、R−rは環状囲域の幅である(Rは外壁3の
半径、rは内壁4の半径である)。
これらの欠点は避けることができる。本発明によ
れば、第3図における外側捕集装置7の円7aの
各々の中心Cは外壁3よりも内壁4により近い位
置で、環状囲域2の内壁よりの距離がR−r/3以 下、望ましくはR−r/4以下の位置にある。この場 合、R−rは環状囲域の幅である(Rは外壁3の
半径、rは内壁4の半径である)。
従つて、本発明による装置は、環状囲域から触
媒を連続して取出すための外側捕集装置7の各々
は、実質的に円筒形であり、環状囲域の底部にお
いてこの捕集装置が切り取る円7aの中心Cが環
状囲域の内壁4よりR−r/3以下、望ましくはR−r
/4 以下の距離に来る如くに配置されることを特徴と
している。この場合、Rは環状囲域2の外壁3の
半径であり、rは環状囲域2の内壁4の半径であ
る。
媒を連続して取出すための外側捕集装置7の各々
は、実質的に円筒形であり、環状囲域の底部にお
いてこの捕集装置が切り取る円7aの中心Cが環
状囲域の内壁4よりR−r/3以下、望ましくはR−r
/4 以下の距離に来る如くに配置されることを特徴と
している。この場合、Rは環状囲域2の外壁3の
半径であり、rは環状囲域2の内壁4の半径であ
る。
また、一層望ましい方式によれば、環状囲域2
の底部において外側捕集装置7の切り取る円もま
た内壁4に接している。この型の捕集装置は、第
3図においては、円7cとして図式化してある。
この図の場合、円7cの直径はR−r/3以下または これに等しいか、さらにはR−r/5以下またはこれ に等しいことが望ましい。
の底部において外側捕集装置7の切り取る円もま
た内壁4に接している。この型の捕集装置は、第
3図においては、円7cとして図式化してある。
この図の場合、円7cの直径はR−r/3以下または これに等しいか、さらにはR−r/5以下またはこれ に等しいことが望ましい。
「接する」という語は、ここでは、外側捕集装
置7が、機械的な可能性を考慮して、換言すれば
捕集装置7の内壁4への溶接の可能性を主として
考慮して、環状囲域の内壁4にできるだけ近く配
置してあるという意味である。けだし、完全に円
に接する溶接ということはここでは不可能であろ
うことは十分に明らかである。
置7が、機械的な可能性を考慮して、換言すれば
捕集装置7の内壁4への溶接の可能性を主として
考慮して、環状囲域の内壁4にできるだけ近く配
置してあるという意味である。けだし、完全に円
に接する溶接ということはここでは不可能であろ
うことは十分に明らかである。
本発明による反応器の内部においては、使用済
触媒はあらゆる既知の形態、例えば中筒、ペレツ
ト、凝縮物、押出し物、結晶等……の形で存在す
ることができるし、これを粒状、及び、例えば、
一般には1乃至3mm、望ましくは1.5乃至2mmの
間に含まれる直径の球状の形態にして用いること
もできる。但し、これらの値は限定的なものでは
ない。球状として用いる触媒の見掛け密度は一般
に0.4乃至1、望ましくは0.5乃至0.9、さらに詳細
には0.55乃至0.8の間に含まれるものである。こ
れらの値は限定的なものではない。
触媒はあらゆる既知の形態、例えば中筒、ペレツ
ト、凝縮物、押出し物、結晶等……の形で存在す
ることができるし、これを粒状、及び、例えば、
一般には1乃至3mm、望ましくは1.5乃至2mmの
間に含まれる直径の球状の形態にして用いること
もできる。但し、これらの値は限定的なものでは
ない。球状として用いる触媒の見掛け密度は一般
に0.4乃至1、望ましくは0.5乃至0.9、さらに詳細
には0.55乃至0.8の間に含まれるものである。こ
れらの値は限定的なものではない。
本発明による反応器は、就中、改質反応、水素
化反応、(例えばn−パラフイン類あるいはナフ
テン類の)脱水素反応、異性化反応、炭化水素の
芳香族化反応、脱水素環化反応及び水素化分解反
応を行うのに適している。
化反応、(例えばn−パラフイン類あるいはナフ
テン類の)脱水素反応、異性化反応、炭化水素の
芳香族化反応、脱水素環化反応及び水素化分解反
応を行うのに適している。
これらの反応は通常300乃至600℃の温度の一般
的な範囲内において行われるものである。
的な範囲内において行われるものである。
接触改質反応は一般に450乃至580℃の間に含ま
れる温度、5乃至20Kg/cm2の間に含まれる圧力下
において、触媒1容について液体仕込物(約60乃
至220℃の間で留出するナフサ)0.5乃至10容の間
に含まれる反応時速を以て行われている。
れる温度、5乃至20Kg/cm2の間に含まれる圧力下
において、触媒1容について液体仕込物(約60乃
至220℃の間で留出するナフサ)0.5乃至10容の間
に含まれる反応時速を以て行われている。
水素化反応は一般に約100乃至500℃の間に含ま
れる温度、約1乃至40Kg/cm2の間に含まれる圧力
下において行われている。
れる温度、約1乃至40Kg/cm2の間に含まれる圧力
下において行われている。
異性化反応は一般に約200乃至600℃の間に含ま
れる温度、約0.05乃至70Kg/cm2の間に含まれる圧
力下において、1時間あたり触媒体積の0.1乃至
10倍の体積流量を以て行われている。
れる温度、約0.05乃至70Kg/cm2の間に含まれる圧
力下において、1時間あたり触媒体積の0.1乃至
10倍の体積流量を以て行われている。
(例えばn−パラフイン類の)水素化反応ある
いは芳香族化反応は一般に約300乃至650℃の間に
含まれる温度、約0.1乃至60Kg/cm2の間に含まれ
る圧力下において、1時間あたり触媒体積の0.1
乃至20倍の間に含まれる体積流量を以て行われて
いる。
いは芳香族化反応は一般に約300乃至650℃の間に
含まれる温度、約0.1乃至60Kg/cm2の間に含まれ
る圧力下において、1時間あたり触媒体積の0.1
乃至20倍の間に含まれる体積流量を以て行われて
いる。
水素化分解反応は一般に約260乃至530℃の間に
含まれる温度、約10乃至80Kg/cm2の間に含まれる
圧力下において行われている。
含まれる温度、約10乃至80Kg/cm2の間に含まれる
圧力下において行われている。
本装置は炭化水素の改質及び芳香族化接触反応
に特に好適である。
に特に好適である。
以上のとおりで、第2図に示す本発明の炭化水
素転換装置によれば、実質的に円筒形の外側捕集
装置7は、環状囲域2の底部において切り取る円
の中心Cが環状囲域2の内壁4から(R−r)/
3以下の距離にあるように配置されているので、
内側捕集装置9の方向に内壁4に向つて反応体ガ
ス流に同伴される触媒は、第1図の装置のように
反応体ガス流に逆流して内壁4から外壁3の方向
に進む必要がなく、したがつて触媒は同ガス流に
よつて流通阻害をうけて反応体の底部に沈積する
ことがない、そのため反応器の底部から触媒を連
続的に取出す作業を支障なく行なうことができ、
新鮮な触媒との触媒の取替えを円滑に行なうこと
ができて、触媒活性を常に一定水準に維持するこ
とができる。
素転換装置によれば、実質的に円筒形の外側捕集
装置7は、環状囲域2の底部において切り取る円
の中心Cが環状囲域2の内壁4から(R−r)/
3以下の距離にあるように配置されているので、
内側捕集装置9の方向に内壁4に向つて反応体ガ
ス流に同伴される触媒は、第1図の装置のように
反応体ガス流に逆流して内壁4から外壁3の方向
に進む必要がなく、したがつて触媒は同ガス流に
よつて流通阻害をうけて反応体の底部に沈積する
ことがない、そのため反応器の底部から触媒を連
続的に取出す作業を支障なく行なうことができ、
新鮮な触媒との触媒の取替えを円滑に行なうこと
ができて、触媒活性を常に一定水準に維持するこ
とができる。
第1図は比較例を示す装置の縦断面図、第2図
はこの発明の実施例を示す装置の縦断面図、第3
図は装置の横断面図である。 1……反応器、2……環状の触媒囲域、3……
触媒囲域の側壁(外壁)、4……触媒囲域の側壁
(内壁)、5……小数の穴を穿つた側壁、6……出
口、7……外側捕集装置、8……分配装置、9…
…内側捕集装置、11……入口、12,13……
スクリーン、14……反応器の側壁、α,β……
角、C,C′……中心。
はこの発明の実施例を示す装置の縦断面図、第3
図は装置の横断面図である。 1……反応器、2……環状の触媒囲域、3……
触媒囲域の側壁(外壁)、4……触媒囲域の側壁
(内壁)、5……小数の穴を穿つた側壁、6……出
口、7……外側捕集装置、8……分配装置、9…
…内側捕集装置、11……入口、12,13……
スクリーン、14……反応器の側壁、α,β……
角、C,C′……中心。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 水平面による断面が円形をなす実質的に垂直
な長室を少なくとも1個備え、該長室は移動触媒
床を受入れるのに用いられかつ該長室内において
実質的に垂直に配置された環状囲域2を少なくと
も1個備え、各環状囲域2は、長室の側壁14に
近い方が「環状囲域の外壁3」と呼ばれかつ他方
が「環状囲域の内壁4」と呼ばれる2枚の円筒形
側壁を以て画され、前記環状囲域2は内外壁4,
3の間に配置されている、触媒の存在下における
炭化水素の転換に用いる装置であつて、 該長室の内側の空間によつて形成されかつ各環
状囲域2の内壁4で画されかつ各環状囲域2に隣
接した内側捕集装置9と、 該長室の側壁14と各環状囲域2の外壁3とで
画される空間によつて形成されかつ各環状囲域2
に隣接する外側の分配装置8と、 該分配装置8に連絡した反応体導入用の入口1
1と、 該内側捕集装置9に連絡した反応体取出し用の
出口6と、 各環状囲域2の上部に触媒を導入する手段と、 各環状囲域2の下部において触媒を連続して取
出すための少なくとも1個の外側捕集装置7とを
備えており、 各環状囲域2の内壁4には、その上部に、各環
状囲域2に隣接する内側捕集装置9の上部におい
て反応体が各環状囲域2から出るのを防ぐことを
目的とするスリクーン12が設けられ、該スクリ
ーン12は各環状囲域2の全幅の80乃至300%の
高さならびに下から上へ広くなる断面を有する倒
置円錐台の形態を有し、該倒置円錐台は各環状囲
域2の円筒形の内壁4と同一の軸を有し、該円錐
台の両底面の小さい方の面積は各環状囲域2の円
筒形内壁4の断面席に実質的に等しく、該倒置円
錐台の中心軸とその母線とのなす角αは10乃至40
゜の間に含まれており、各環状囲域2の外壁3
は、各環状囲域2の高さの10乃至40%を占めるそ
の上部において円錐台形を有し、該円錐台の断面
は上から下へ広くなつており、該円錐台の両底面
の大きい方は各環状囲域2の円筒形の外壁3の断
面に実質的に等しく、しかして該円錐台の中心軸
がその母線となす角βは10乃至40゜の間に含ま
れ、 各環状囲域2の下部にて触媒を連続して取出す
ための外側捕集装置7は実質的に円筒形であり、
外側捕集装置7は、各環状囲域2の底部において
切り取る円の中心Cが各環状囲域2の内壁4から
(R−r)/3以下の距離にある如く配置され、
Rが環状囲域2の外壁3の半径、rが環状囲域2
の内壁4の半径であることを特徴とする炭化水素
転換装置。 2 前記円の中心Cが環状囲域2の内壁4から
(R−r)/4以下の距離の位置にある、特許請
求の範囲第1項記載の装置。 3 該環状囲域2の底部において外側捕集装置7
の切り取る円が環状囲域2の内壁4に実質的に接
している、特許請求の範囲第1項記載の装置。 4 前記円の直径が(R−r)/3以下か、また
かそれに等しい、特許請求の範囲第3項記載の装
置。 5 前記円の直径が(R−r)/5以下か、また
はそれに等しい、特許請求の範囲第3項記載の装
置。 6 長室が重なり合つた数個の環状囲域を有して
いる、特許請求の範囲第1項より第5項までのい
ずれか1項記載の装置。 7 直列あるいは並列に配置した数個の長室を備
えている、特許請求の範囲第1項より第6項まで
のいずれか1項記載の装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR7816372A FR2427378A1 (fr) | 1978-05-29 | 1978-05-29 | Appareil pour la conversion d'hydrocarbures |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS54156014A JPS54156014A (en) | 1979-12-08 |
JPS6158111B2 true JPS6158111B2 (ja) | 1986-12-10 |
Family
ID=9208939
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6734879A Granted JPS54156014A (en) | 1978-05-29 | 1979-05-29 | Hydrocarbon converting apparatus |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4277444A (ja) |
JP (1) | JPS54156014A (ja) |
BE (1) | BE876533A (ja) |
DE (1) | DE2921428A1 (ja) |
FR (1) | FR2427378A1 (ja) |
GB (1) | GB2023446B (ja) |
IT (1) | IT1121515B (ja) |
NL (1) | NL190186C (ja) |
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---|---|---|---|---|
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IT1141102B (it) * | 1980-11-28 | 1986-10-01 | Ammonia Casale Sa | Reattore assiale-radiale per sintesi eterogenee |
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US6641625B1 (en) | 1999-05-03 | 2003-11-04 | Nuvera Fuel Cells, Inc. | Integrated hydrocarbon reforming system and controls |
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RU2672752C1 (ru) * | 2015-06-25 | 2018-11-19 | Юоп Ллк | Сужающиеся трубчатые каналы для реакторов |
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FR3067950A1 (fr) * | 2017-06-21 | 2018-12-28 | Axens | Reacteurs en lit fixe ou mobile a ecoulement radial du flux de procede a traiter comprenant des internes ameliores |
CN115364774B (zh) * | 2022-10-21 | 2023-02-03 | 江苏永大化工机械股份有限公司 | 一种径向反应器 |
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