JPS6156595B2 - - Google Patents

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JPS6156595B2
JPS6156595B2 JP53071927A JP7192778A JPS6156595B2 JP S6156595 B2 JPS6156595 B2 JP S6156595B2 JP 53071927 A JP53071927 A JP 53071927A JP 7192778 A JP7192778 A JP 7192778A JP S6156595 B2 JPS6156595 B2 JP S6156595B2
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JP
Japan
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transistor
coupled
sense
contact
transistors
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JP53071927A
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Japanese (ja)
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JPS54162425A (en
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Toshio Wada
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NEC Corp
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Nippon Electric Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • G11C11/40Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
    • G11C11/401Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
    • G11C11/4063Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
    • G11C11/407Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
    • G11C11/409Read-write [R-W] circuits 
    • G11C11/4091Sense or sense/refresh amplifiers, or associated sense circuitry, e.g. for coupled bit-line precharging, equalising or isolating

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は、高速・高感度のセンスアンプ回路
として用いられる半導体記憶装置用トランジスタ
回路に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a transistor circuit for a semiconductor memory device used as a high-speed, high-sensitivity sense amplifier circuit.

半導体記憶装置、とくにMOSメモリと呼称さ
れる絶縁ゲート型トランジスタ(以下、トランジ
スタと略称する)を用いたトランジスタ回路は、
低消費電力動作と大規模集積回路の実現が容易で
あるため、汎用メモリとしての需要が大である。
この種のメモリは蓄積情報の検出を行うため、一
対のデイジツト線間の電位差をゲーテイツド・フ
リツプ・フロツプ回路により増巾するセンスアン
プ回路を有する。このセンスアンプ回路の動作特
性はメモリの大規模化と高密度集積に対して影響
が大きいが、従来回路においては高速動作と高感
度特性とを低消費電力で実現することは不可能で
あつた。
Semiconductor memory devices, especially transistor circuits using insulated gate transistors (hereinafter abbreviated as transistors) called MOS memory,
It is in great demand as a general-purpose memory because of its low power consumption operation and ease of realizing large-scale integrated circuits.
In order to detect stored information, this type of memory has a sense amplifier circuit that amplifies the potential difference between a pair of digit lines using a gated flip-flop circuit. The operating characteristics of this sense amplifier circuit have a large impact on the large-scale and high-density integration of memories, but with conventional circuits, it has been impossible to achieve high-speed operation and high sensitivity characteristics with low power consumption. .

この発明の目的は、低消費電力で高速・高感度
のセンスアンプ回路を有する半導体記憶装置用ト
ランジスタ回路を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a transistor circuit for a semiconductor memory device having a low power consumption, high speed, and high sensitivity sense amplifier circuit.

この発明によるトランジスタ回路は、一対のセ
ンス接点に結合するダイナミツク型のゲーテイツ
ド・フリツプ・フロツプと、一対のセンス接点と
一対のデイジツト線との間のそれぞれの信号伝達
を行う一対の伝達トランジスタと、一対のデイジ
ツト線にそれぞれの出力領域の一方が結合し制御
電極が互いに他のセンス接点に結合するトランジ
スタ対とを有し、センスアンプ内のゲーテツド・
フリツプ・フロツプと伝達トランジスタで分離さ
れたセンスアンプ外のゲーテツド・フリツプ・フ
ロツプとを含む。
A transistor circuit according to the present invention includes: a dynamic type gated flip-flop coupled to a pair of sense contacts; a pair of transfer transistors for respectively transmitting signals between the pair of sense contacts and a pair of digit lines; a pair of transistors having one of their respective output regions coupled to the digit line of the sense amplifier and a pair of transistors having control electrodes coupled to each other's sense contact;
It includes a flip-flop and a gated flip-flop outside the sense amplifier separated by a transfer transistor.

本発明によれば第1のセンス接点A1に出力領
域の一方が結合し第2のセンス接点A2に制御電
極が結合する第1のトランジスタQA1と、第2の
センス接点A2に出力領域の一方が結合し第1の
センス接点A1に制御電極が結合する第2のトラ
ンジスタQA2と、第1のセンス接点A1と第1の
デイジツト線B1に出力領域がそれぞれ結合し制
御電極が遮断パルスφTを受ける第3のトランジ
スタQT1と、第2のセンス接点A2と第2のデイ
ジツト線B2に出力領域がそれぞれ結合し制御電
極が遮断パルスφTを受ける第4のトランジスタ
T2と、上記第1および第2のトランジスタQA1
とQA2の出力領域の他方の接点S1の共通電位を
制御するトランジスタ回路を有し、更に、上記第
1のデイジツト線B1に出力領域の一方が結合し
上記第2のセンス接点A2に制御電極が接続する
第5のトランジスタQD1と、上記第2のデイジツ
ト線B2に出力領域の一方が結合し上記第1のセ
ンス接点A1に制御電極が接続する第6のトラン
ジスタQD2と、上記第5および第6のトランジス
タの共通の出力領域の他方の接点S2の電位を制
御するトランジスタ回路とを含む半導体記憶装置
用トランジスタ回路が得られる。またかかるトラ
ンジスタ回路において、上記第5および第6のト
ランジスタの利得定数が前記第1および第2のト
ランジスタに比して大である、半導体記憶装置用
トランジスタ回路も得られ、さらにこれらのトラ
ンジスタ回路において、上記センス接点A1およ
びA2にそれぞれの1端子が結合し、他が共通に
パルス信号φS1に結合する容量素子CB1,CB2
付加せしめた半導体記憶装置用トランジスタ回路
も得られる。
According to the present invention, a first transistor Q A1 has one of its output regions coupled to the first sense contact A1 and a control electrode coupled to the second sense contact A2; and a second transistor Q A2 having a control electrode coupled to the first sense contact A1, and a second transistor Q A2 having an output region coupled to the first sense contact A1 and the first digit line B1 and having a control electrode coupled to the cutoff pulse φ T a fourth transistor Q T2 whose output regions are respectively coupled to the second sense contact A2 and the second digit line B2 and whose control electrode receives the cutoff pulse φ T ; and the second transistor Q A1
and Q A2 have a transistor circuit for controlling the common potential of the other contact S1 of the output region, and one of the output regions is coupled to the first digit line B1, and a control electrode is connected to the second sense contact A2. a fifth transistor Q D1 connected to the second digit line B2; a sixth transistor Q D2 having one of its output regions coupled to the second digit line B2 and a control electrode connected to the first sense contact A1; and a transistor circuit for controlling the potential of the other contact S2 of the common output region of the sixth transistor. Further, in such a transistor circuit, a transistor circuit for a semiconductor memory device is obtained, in which the gain constant of the fifth and sixth transistors is larger than that of the first and second transistors, and further, in these transistor circuits, A transistor circuit for a semiconductor memory device is also obtained in which capacitive elements C B1 and C B2 are added, one terminal of each of which is coupled to the sense contacts A1 and A2, and the other terminals of which are commonly coupled to the pulse signal φ S1 .

この発明のトランジスタ回路は、寄生容量の軽
いセンスアンプ内のゲーテツド・フリツプ・フロ
ツプ回路で高速・高感度の増巾動作を行い、この
信号出力で寄生容量の重いセンスアンプ外のゲー
テイツド・フリツプ・フロツプ回路を駆動する。
外部のトランジスタ対の利得定数は内部のトラン
ジスタ対よりも大であり、これによりデイジツト
線対の電位差を急速に拡大することができる。
The transistor circuit of the present invention performs a high-speed, high-sensitivity amplification operation using the gated flip-flop circuit inside the sense amplifier, which has a light parasitic capacitance, and uses this signal output to operate the gated flip-flop circuit outside the sense amplifier, which has a heavy parasitic capacitance. Drive the circuit.
The gain constant of the external transistor pair is larger than that of the internal transistor pair, which allows the potential difference between the digit line pairs to be expanded rapidly.

次にこの発明の特徴をより良く理解するため
に、この発明の実施例につき図を用いて説明す
る。
Next, in order to better understand the characteristics of the present invention, embodiments of the present invention will be described using figures.

第1図はこの発明の一実施例のトランジスタ回
路である。この実施例は、いわゆる1トランジス
タ型MOSメモリのセンス回路であり、一方のデ
イジツト線B1にスイツチングトランジスタQW1
を介して結合する情報蓄積用容量素子CMと、他
方のデイジツト線B2にトランジスタQW2を介し
て結合するリフアレンス用容量素子CDMとを有す
る。この実施例のトランジスタは全てMOSトラ
ンジスタであり、ドレインおよびソースと呼ぶ出
力領域間の電流をゲート電極である制御電極の電
位で制御する。センスアンプは、第1のセンス接
点A1に出力領域の一方が結合し第2のセンス接
点A2に制御電極が結合する第1のトランジスタ
A1と、第2のセンス接点A2に出力領域の一方
が結合し第1のセンス接点A1に制御電極が結合
する第2のトランジスタQA2と、第1のセンス接
点A1と第1のデイジツト線B1に出力領域がそ
れぞれ結合し制御電極が遮断パルスφTを受ける
第3トランジスタQT1と、第2のセンス接点A2
と第2のデイジツト線B2に出力領域がそれぞれ
結合し制御電極が遮断パルスφTを受ける第4の
トランジスタQT2と、前記第1および第2のトラ
ンジスタQA1,QA2の出力領域の他方の接点S1
の共通電位を制御するトランジスタQP1,QS1
り成る回路と、第1のデイジツト線B1に出力領
域の一方が結合し第2のセンス接点A2に制御電
極が接続する第5のトランジスタQD1と、第2の
デイジツト線B2に出力領域の一方が結合し第1
のセンス接点A1に制御電極が接続する第6のト
ランジスタQD2と、第5および第6のトランジス
タの共通の出力領域の他方の接点S2の電位を制
御するトランジスタQP2,QS2から成る回路を含
む。このような1トランジスタ型MOSメモリ回
路は、通常センス接点A1,A2の寄生量が
0.1PF程度であり、デイジツト線B1,B2の寄
生容量は1〜2PFに及ぶ。高速・高感度の動作を
得る一例のトランジスタの利得は、トランジスタ
A1,QA2のチヤンネル巾(W)に対するチヤン
ネル長(L)の比を2〜4とし、トランジスタQ
D1,QD2をそれぞれより大きな4〜20とすること
である。
FIG. 1 shows a transistor circuit according to an embodiment of the present invention. This embodiment is a sense circuit of a so-called one-transistor type MOS memory, and a switching transistor Q W1 is connected to one digit line B1.
The information storage capacitive element C M is coupled to the other digit line B2 via a transistor Q W2 . All transistors in this embodiment are MOS transistors, and the current between output regions called drain and source is controlled by the potential of a control electrode, which is a gate electrode. The sense amplifier includes a first transistor Q A1 having one output region coupled to a first sense contact A1 and a control electrode coupled to a second sense contact A2, and a first transistor Q A1 having one output region coupled to a second sense contact A2. A second transistor Q A2 is coupled and has a control electrode coupled to the first sense contact A1, and a second transistor Q A2 has an output region coupled to the first sense contact A1 and the first digit line B1, respectively, and has a control electrode coupled to the cutoff pulse φ T . a third transistor Q T1 receiving and a second sense contact A2
and a fourth transistor Q T2 whose output regions are coupled to the second digit line B2 and whose control electrode receives the cutoff pulse φ T , and the other of the output regions of the first and second transistors Q A1 and Q A2 . Contact S1
a circuit consisting of transistors Q P1 and Q S1 controlling the common potential of the transistors Q P1 and Q S1 , and a fifth transistor Q D1 having one of its output regions coupled to the first digit line B1 and a control electrode connected to the second sense contact A2; , one of the output areas is coupled to the second digit line B2, and the first
A circuit consisting of a sixth transistor Q D2 whose control electrode is connected to the sense contact A1 of the transistor Q D2 and transistors Q P2 and Q S2 that control the potential of the other contact S2 in the common output area of the fifth and sixth transistors. include. In such a one-transistor type MOS memory circuit, the parasitic amount of the sense contacts A1 and A2 is usually
The parasitic capacitance of the digit lines B1 and B2 ranges from 1 to 2 PF. The gain of an example transistor that achieves high-speed and high-sensitivity operation is as follows: The ratio of the channel length (L) to the channel width (W) of transistors Q A1 and Q A2 is 2 to 4, and the transistor Q
The goal is to set D1 and Q D2 to larger values of 4 to 20, respectively.

更に、この実施例には、デイジツト線B1,B
2をそれぞれプリチヤージするトランジスタQP
,QP4と、プリチヤージ時に対を成すデイジツ
ト線B1,B2の電位平衡を得るトランジスタQ
Cを設けてある。プリチヤージ用トランジスタQP
,QP2,QP3,QP4の制御電極は共にプリチヤー
ジ信号φPで駆動され、出力領域の一方は所定の
電位線VDに結合し、出力領域の他方はそれぞれ
接点S1,S2およびデイジツト線B1,B2に
結合する。センス用のトランジスタQS1S2の出
力領域の一方はそれぞれ接点S1,S2に結合
し、他方は共通電位(GND)に結合し、制御電
極はそれぞれセンス信号φS1,φS2でそれぞれ駆
動される。又、リフアレンス容量素子CDMはプリ
チヤージ時にトランジスタQRにより共通電位
(GND)に充電される。
Further, in this embodiment, digit lines B1, B
Transistor Q P which precharges 2 respectively.
3 , Q P4 and a transistor Q that balances the potential of the paired digit lines B1 and B2 during precharging.
C is provided. Pre-charge transistor Q P
The control electrodes of 1 , Q P2 , Q P3 , and Q P4 are all driven by a precharge signal φ P , one of the output regions is coupled to a predetermined potential line V D , and the other output region is connected to contacts S1, S2, and digits, respectively. Connect to lines B1 and B2. One of the output regions of sense transistors Q S1 and S2 is coupled to contacts S1 and S2, respectively, the other is coupled to a common potential (GND), and the control electrodes are driven by sense signals φ S1 and φ S2 , respectively. . Further, the reference capacitance element CDM is charged to the common potential (GND) by the transistor QR during precharging.

第2図は第1図の動作波形を示す。即ち、プリ
チヤージ完了と共にプリチヤージパルスφPが下
降し、接点S1,S2の電位VS1,VS2、デイジ
ツト線B1,B2の電位VB1,VB2およびセンス
接点A1,A2の電位VA1,VA2は約4Vに充電さ
れる。このパルスφPに遅れてトランジスタQC
制御電極に結合する平衡用パルスφCが下降し、
次にワードパルスφW、ダミーワードパルスφDW
が立上り、スイツテングトランジスタQW1,QW2
を導通してデイジツト線に情報電位を与える。デ
イジツト線間の電位差はセンス接点に伝達し、パ
ルスφTの下降によりデイジツト線とセンス接点
とが電気的に遮断される。パルスφTの下降に前
後してパルスφS1が上昇し、トランジスタQS1
導電して接点電位VS1が緩やかに下降し、トラン
ジスタQA1,QA2による増巾動作が開始し、セン
ス接点電位VA1,VA2の電位差が拡大される。し
かるのち、パルスφS2が上昇して接点電位VS2
急速に下降し、デイジツト線B1,B2の電位差
が増巾され、1トランジスタ型MOSメモリのセ
ンス・リフレツシユ動作を完了する。
FIG. 2 shows the operating waveforms of FIG. 1. That is, upon completion of precharge, the precharge pulse φ P falls, and the potentials V S1 and V S2 of contacts S1 and S2, the potentials V B1 and V B2 of digit lines B1 and B2, and the potentials V A1 and V A1 of sense contacts A1 and A2 , respectively. V A2 is charged to approximately 4V. After this pulse φ P , the balancing pulse φ C coupled to the control electrode of the transistor Q C falls,
Next, word pulse φ W and dummy word pulse φ DW
rises, and the switch length transistors Q W1 , Q W2
conducts to give an information potential to the digit line. The potential difference between the digit lines is transmitted to the sense contact, and the fall of the pulse φ T electrically disconnects the digit line and the sense contact. Pulse φ S1 rises around the fall of pulse φ T , transistor Q S1 conducts, contact potential V S1 gradually falls, amplification operation by transistors Q A1 and Q A2 starts, and the sense contact potential increases. The potential difference between V A1 and V A2 is expanded. Thereafter, the pulse φ S2 rises, the contact potential V S2 rapidly falls, the potential difference between the digit lines B1 and B2 is amplified, and the sense refresh operation of the one-transistor type MOS memory is completed.

上述のようにこの実施例は、大なぬ寄生容量の
デイジツト線B1,B2の電位差の増巾を大なる
利得のトランジスタQD1,QD2で行い、このトラ
ンジスタのゲート電位を内側に高感度のゲーテツ
ド・フリツプ・フロツプにて制御する。従つてデ
イジツト線の電位差の増巾が急峻に行なわれても
誤動作の危険がなく、高感度・高速のセンス・リ
フレツシユ動作が得られる。又、この実施例はセ
ンスアンプ回路を集積回路として構成するときに
最少のマスクパターンピツチで得られ、大規模・
高密度のMOSメモリを実現する。
As described above, in this embodiment, the potential difference between the digit lines B1 and B2, which have a large parasitic capacitance, is amplified by the transistors Q D1 and Q D2 which have a large gain, and the gate potential of these transistors is connected to a high-sensitivity wire inside. Controlled by gated flip-flop. Therefore, even if the potential difference of the digit line is rapidly increased, there is no risk of malfunction, and a highly sensitive and high-speed sense/refresh operation can be obtained. Moreover, this embodiment can be obtained with the minimum mask pattern pitch when configuring the sense amplifier circuit as an integrated circuit, and can be used on a large scale.
Achieve high-density MOS memory.

第3図はこの発明の他の実施例の回路図を示
す。この実施例に第1図の実施例と共通部分には
同一の参照記号を用い、共通説明の詳細を省略す
る。この実施例は、前実施例と同様に、センス接
点A1,A2にドレインがそれぞれ結合するトラン
ジスタQA1,QA2を有するダイナミツク型ゲーテ
ツド・フリツプ・フロツプと、一対のデイジツト
線B1,B2に結合するトランジスタQD1,QD2を含
む外側のゲーテツド・フリツプ・フロツプを備え
ている。センス接点A1,A2とデイジツト線B1
B2とはそれぞれトランジスタQT1,QT2で導電状
態が制御され、センス接点A1,A2およびデイジ
ツト線B1,B2はそれぞれ制御電極が平衡用パル
スφCで駆動されるトランジスタQC,QC′でリセ
ツト時に同電位となる。前実施例と異るこの実施
例の回路要素は、センス接点A1,A2にそれぞれ
一端子が結合し、他端子にパルスφS1が導入され
る容量素子CB1,CB2である。この容量素子CB
,CB2は、パルスφTの下降でデイジツト線と
遮断されたセンス接点の寄生容量に比して1/8以
上で10倍程度の絶縁ゲート容量を有し、センス開
始時の高電位側センス接点の電位下降を抑えてセ
ンス感度を向上し、且つこの接点を積極的に電位
上昇して外側フリツプ・フロツプの駆動能力を増
大する。容量の下限はセンス感度を発揮するため
の最少容量であり、上限は電位上昇の廻剰で電力
消費の浪費とアクセス時間の遅れを考慮して決定
される。この実施例では0.02PF〜1PFが好ましい
範囲になる。
FIG. 3 shows a circuit diagram of another embodiment of the invention. In this embodiment, the same reference symbols are used for parts common to the embodiment of FIG. 1, and the details of the common explanation will be omitted. This embodiment, like the previous embodiment, includes a dynamic gated flip-flop having transistors Q A1 and Q A2 whose drains are coupled to sense contacts A 1 and A 2 , respectively, and a pair of digit lines B 1 and B It has an outer gated flip-flop including transistors Q D1 and Q D2 coupled to the transistors Q D1 and Q D2 . Sense contacts A 1 , A 2 and digit wire B 1 ,
B 2 is a transistor Q C whose conductive state is controlled by transistors Q T1 and Q T2 , respectively, and the control electrodes of sense contacts A 1 and A 2 and digit lines B 1 and B 2 are each driven by a balancing pulse φ C , Q C ' have the same potential upon reset. The circuit elements of this embodiment, which are different from the previous embodiment, are capacitive elements C B1 and C B2 , one terminal of which is coupled to each of the sense contacts A 1 and A 2 , and a pulse φ S1 introduced into the other terminal. This capacitive element C B
1 , C B2 has an insulated gate capacitance that is more than 1/8 and about 10 times the parasitic capacitance of the sense contact that is cut off from the digit line by the fall of the pulse φ T , and is The sense sensitivity is improved by suppressing the drop in the potential of the sense contact, and the potential of this contact is actively raised to increase the driving ability of the outer flip-flop. The lower limit of the capacitance is the minimum capacitance for exhibiting sense sensitivity, and the upper limit is determined in consideration of wasted power consumption and delay in access time due to excess potential rise. In this example, the preferred range is 0.02PF to 1PF.

第4図は第3図の実施例の動作波形を示す。こ
の実施例は、パルスφPの下降でデイジツト線
B1,B2、センス接点A1,A2、接点S1,S2のプリ
チヤージ動作を完了し、センス接点A1,A2およ
びデイジツト線B1,B2の電位平衡を得るパルス
φCの下降でリセツト動作を完了する。パルスφ
W,φDWの上昇は前実施例と同様に記憶情報をデ
イジツト線B1,B2とセンス接点A1,A2に与え、
しかるのちパルスφTの下降でデイジツト線とセ
ンス接点とが電気的に遮断される。次にパルスφ
S1の上昇で接点電位VS1が下降し内側のフリツ
プ・フロツプが動作し、センス接点電位VA1,V
A1の電位差が増巾される。この時この実施例で
は、高電位側のセンス接点電位の“引込みK”が
容量素子によるブートストラツプ効果で抑えら
れ、むしろプリチヤージレベルより高い電位にな
る。従つて次にパルスφS2の上昇で接点電位VS2
が下降し、外側のトランジスタQD1,QD1が動作
するとき、制御電極への駆動電圧が高いため相互
コンダクタンスが増大し、低電位側のデイジツト
線電位を急峻に下降する。
FIG. 4 shows operating waveforms of the embodiment of FIG. In this embodiment, the digit line is
A pulse φ C that completes the precharge operation of B 1 , B 2 , sense contacts A 1 , A 2 , and contacts S 1 , S 2 and balances the potential of sense contacts A 1 , A 2 and digit lines B 1 , B 2 . The reset operation is completed when the voltage falls. Pulse φ
The rise in W and φ DW gives stored information to the digit lines B 1 and B 2 and the sense contacts A 1 and A 2 as in the previous embodiment,
Thereafter, the digit line and the sense contact are electrically interrupted by the fall of the pulse φT . Then pulse φ
As S1 rises, the contact potential V S1 falls, the inner flip-flop operates, and the sense contact potentials V A1 , V
The potential difference of A1 is amplified. At this time, in this embodiment, the "pull-in K" of the sense contact potential on the high potential side is suppressed by the bootstrap effect of the capacitive element, and the potential becomes higher than the precharge level. Therefore, as the pulse φ S2 rises, the contact potential V S2
When the voltage decreases and the outer transistors Q D1 and Q D1 operate, the drive voltage to the control electrode is high, so the mutual conductance increases, causing the digit line potential on the low potential side to drop sharply.

この実施例では、センス接点に対するブートス
トラツプ作用を設けているため、デイジツト線電
位VB1,VB2のリフレツシユ時の電位差を前実施
例より大きくすることができる。したがつてこの
実施例は、リフレツシユ動作が良好であり、セン
ス感度が高く、且つデイジツト線を通して得られ
る情報のMUSメモリのアクセス時間が早い利点
を有する。更に、回路動作は完全にダイナミツク
型であり低消費電力性能を有する。
In this embodiment, since a bootstrap effect is provided for the sense contact, the potential difference between the digit line potentials V B1 and V B2 during refreshing can be made larger than in the previous embodiment. Therefore, this embodiment has the advantages of good refresh operation, high sense sensitivity, and fast access time to the MUS memory of information obtained through the digit line. Furthermore, the circuit operation is completely dynamic and has low power consumption performance.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はこの発明の一実施例を示す回路図、第
2図は第1図の動作波形図、第3図はこの発明の
他の実施例を示す回路図、第4図は第3図の実施
例の動作波形図である。 図中、A1,A2……対を成すセンス接点、B
1,B2……対を成すデイジツト線、QA1……第
1のトランジスタ、QA2……第2のトランジス
タ、QT1……第3トランジスタ、QT2……第4の
トランジスタ、QD1……第5のトランジスタ、Q
D2……第6のトランジスタ、CB1,CB2……容量
素子。
FIG. 1 is a circuit diagram showing one embodiment of this invention, FIG. 2 is an operation waveform diagram of FIG. 1, FIG. 3 is a circuit diagram showing another embodiment of this invention, and FIG. FIG. 3 is an operational waveform diagram of the embodiment. In the figure, A1, A2... pair of sense contacts, B
1, B2... Paired digit lines, Q A1 ... First transistor, Q A2 ... Second transistor, Q T1 ... Third transistor, Q T2 ... Fourth transistor, Q D1 ... Fifth transistor, Q
D2 ...Sixth transistor, C B1 , C B2 ... Capacitive element.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 第1のセンス接点に出力領域の一方が結合し
第2のセンス接点に制御電極が結合する第1のト
ランジスタと、第2のセンス接点に出力領域の一
方が結合し第1のセンス接点に制御電極が結合す
る第2のトランジスタと、第1のセンス接点と第
1のデイジツト線に出力領域がそれぞれ結合し制
御電極が遮断パルスを受ける第3のトランジスタ
と、第2のセンス接点と第2のデイジツト線に出
力領域がそれぞれ結合し制御電極が遮断パルスを
受ける第4のトランジスタと、前記第1および第
2のトランジスタの出力領域の他方の接点の共通
電位を制御する第1の制御手段と、前記第1のデ
イジツト線に出力領域の一方が結合し前記第2の
センス接点に制御電極が接続する第5のトランジ
スタと、前記第2のデイジツト線に出力領域の一
方が結合し前記第1のセンス接点に制御電極が接
続する第6のトランジスタと、前記第5および第
6のトランジスタの共通の出力領域の他方の接点
の電位を制御する第2の制御手段とを含む半導体
記憶装置用トランジスタ回路。 2 前記第5および第6のトランジスタの利得定
数が前記第1および第2のトランジスタの利得定
数に比して大であることを特徴とする特許請求の
範囲第1項に記載の半導体記憶装置用トランジス
タ回路。 3 前記第1および第2のセンス接点それぞれに
は一端子が共通にパルス信号に結合する容量素子
B1,CB2の他端が結合されたものであることを
特徴する特許請求の範囲第1項に記載の半導体記
憶装置用トランジスタ回路。
[Claims] 1. A first transistor having one of its output regions coupled to a first sense contact and a control electrode coupled to a second sense contact; and a first transistor having one of its output regions coupled to a second sense contact. a second transistor having a control electrode coupled to the first sense contact, a third transistor having an output region coupled to the first sense contact and the first digit line, respectively, and a control electrode receiving a cutoff pulse; a fourth transistor whose output region is coupled to the sense contact and the second digit line, respectively, and whose control electrode receives a cutoff pulse; and a common potential of the other contact of the output region of the first and second transistors. a fifth transistor having one of its output regions coupled to the first digit line and a control electrode connected to the second sense contact; a fifth transistor having one of its output regions coupled to the second digit line; a sixth transistor having a control electrode connected to the first sense contact; and a second control means for controlling the potential of the other contact of the common output region of the fifth and sixth transistors. Transistor circuits for semiconductor storage devices, including: 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein gain constants of the fifth and sixth transistors are larger than gain constants of the first and second transistors. transistor circuit. 3. Claim 1, characterized in that each of the first and second sense contacts has one terminal coupled to the other end of capacitive elements C B1 and C B2 which are commonly coupled to a pulse signal. 2. The transistor circuit for a semiconductor memory device according to item 1.
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JPS52119132A (en) * 1976-03-31 1977-10-06 Toshiba Corp Mos dynamic memory

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