JPS6156427A - ストロボ電子ビ−ム装置 - Google Patents

ストロボ電子ビ−ム装置

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Publication number
JPS6156427A
JPS6156427A JP59156641A JP15664184A JPS6156427A JP S6156427 A JPS6156427 A JP S6156427A JP 59156641 A JP59156641 A JP 59156641A JP 15664184 A JP15664184 A JP 15664184A JP S6156427 A JPS6156427 A JP S6156427A
Authority
JP
Japan
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signal
clock
electron beam
strobe
pulse
Prior art date
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Pending
Application number
JP59156641A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuyuki Ozaki
一幸 尾崎
Yoshiaki Goto
後藤 善朗
Akio Ito
昭夫 伊藤
Toshihiro Ishizuka
俊弘 石塚
Kazuo Okubo
大窪 和生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP59156641A priority Critical patent/JPS6156427A/ja
Publication of JPS6156427A publication Critical patent/JPS6156427A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/266Measurement of magnetic or electric fields in the object; Lorentzmicroscopy
    • H01J37/268Measurement of magnetic or electric fields in the object; Lorentzmicroscopy with scanning beams

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の技術分野 本発明はICの繰り返し動作に同期してストロボ電子ビ
ームをIC表面に照射することにより。
得られた2次電子信号から該表面部分の電圧を測定する
ストロボ電子ビーム装置に係り、特に■cの動作クロッ
クにストロボ電子ビームを同期させることによって、高
速に電圧変化を測定するストロボ電子ビーム照射方式に
関する。
(2)技術の背景 高速動作するIC内部の電圧を測定する手段として、I
Cの繰り返し動作に同期してパルス化した電子ビーム(
以下、EBパルスと呼ぶ)をIC表面に照射して2次電
子信号を取得するストロボ電子ビーム測定技術が注目を
集めている。これによれば、ICの繰り返し動作周期中
における任意の位相での電圧分布像や、IC配線上の特
定点の電圧の時間的な変化波形を得ることが可能である
(3)従来技術と問題点 上記のような方式に基づ〈従来のストロボ電子ビーム装
置の動作概念を以下に説明する。まず。
ある電圧状態にあるIC配線上の特定部分にEBパルス
を照射すると、その表面部分から2次電子が放射される
。そして、それによって得られる2次電子信号量は該特
定部分が低電圧状態であれば多く、高電圧状態であれば
少ない、従って2次電1     子信号量を11定す
ることによって、EBパルスを照射した瞬間におけるI
C表面の特定部分の電圧状態を測定することができる。
もう1つ重要なことは、ICを特定のクロック(例えば
IMIlzのクロック)によって動作させ′た場合、該
ICが例えば100クロツクで一連の動作を行うとする
と、クロックが進むにつれて■cの各部分は100クロ
フク毎に同じ電圧状態を繰り返す。そこでIC配線上の
特定部分の電圧状態のクロックによる時間変化をEBパ
ルスによって測定するためには1例えば、繰り返し動作
第1周期日の1クロツク目に同期させてまずEBパルス
を該特定部分に1発照射し、ぞの2次電子信号量から電
圧を測定する。次に繰り返し動作第2周期日の2クロツ
ク目に同期させてEBパルスを同部分に照射し、同様の
測定をおこなう。続いて、繰り返し動作第3周期日は3
クロック目、繰り返し動作量4周期日は4クロツク目と
いうようにEBパルスの照射タイミングを少しずつずら
してゆくことによって、該特定部分の電圧状態のクロッ
クにようエエ。イ、。j6□。よヵ、7o。。0よ  
 (うに、ICが1繰り返し動作周期毎に同じ動作を繰
り返すことを利用し、各繰り返し動作周期毎のEBパル
スの照射タイミングを少しずつずらしてゆくことによっ
て、電圧状態の時間的な変化を測定することが可能であ
る(波形モード)。また。
繰り返し動作周期中の特定のタイミングにおけるIC表
面の電圧分布像(これを像モードと呼ぶ)を測定するた
めには2例えばまず、繰り返し動作第1周期日の特定位
相でEBパルスを特定部分に照射し、その部分の電圧を
測定する。次に繰り返し動作第2周期日の同じ位相で他
の部分にEBパルスを照射し、その部分の電圧を測定す
る。以上のように、EBパルス照射タイミングを特定位
相に固定してEBパルスをIC表面上で走査することに
より、繰り返し動作周期中の該特定位相におけるIC表
面の電圧分布像を得ることができる。
以上の原理を簡単にまとめたのが第1図である。
同図(11はICの動作クロックであり、IMIlzの
周波数であるとすると1クロック周期t c−1μse
cとなる。そして同図の場合、簡単のため1繰り返し動
作周期T−5クロック(同図(f))とし、各繰り返し
動作周期の1クロフク目に同期して同図(C1に示すよ
うに繰り返し動作同期(g号が得られるとする。このよ
うな場合において、ICの特定配線の電圧状態のクロッ
クによる時間変化の例を示したのが同図(b)である。
これを見てわかるように1繰り返し動作周期毎に同じ電
圧状態を繰り返す。
そこでいま、このような電圧変化(波形モード)の測定
を1クロック周期tcの4倍の時間精度。
すなわちΔL=%μsecの時間精度で行うためのEB
パルスの照射タイミングの例を示したのが同図(d)で
ある。すなわち、まず繰り返し動作第1周期日において
は、繰り返し動作同期信号(同図(C))のパルスと同
じタイミングでEBパルスをICの特定配線上に照射し
電圧を測定する。次に繰り返し動作第2周期日において
は、繰り返し動作同期信号のパルスに対してΔt  (
”!4μsec )だけ位相をずらしてEBパルスを同
部分に照射する。以下、繰り返し動作第3周期日は2Δ
t、繰り返し動作量4周期日は3Δtというように、 
IE、Bパルスの照射タイミングを繰り返し動作同期信
号の各パルスに対してΔtずつずらしてゆく。従って以
上の動作を、EBパルスの照射タイミングが繰り返し動
作同期信号のパルスに対して1繰り返し動作周期分だけ
ずれるまで繰り返せば、IC上の特定部分の1繰り返し
動作周期分の電圧状態の変化をΔtの時間14度で測定
することができる。
上記例の場合、1繰り返し動作周期−5クロ・ツクで、
1クロック周期tC−4Δtであるから。
1繰り返し動作周期−5×4Δt−20Δtとなり。
これより20繰り返し動作周期にわたって上記測定を繰
り返せば、同図(blに示したような特定配線の1繰り
返し動作周期分の電圧波形を測定することができる。ま
た、像モードの測定を行うためには。
同図(e)に示すように各繰り返し動作周期におけるB
’Bパルスの照射タイミングを繰り返し動作同期信号の
パルスに対して例えばΔtだけ位相がずれた時間と決め
ておき、EBパルスを各照射毎にIC上の照射部分をず
らしてゆくことにより、繰り1     返し動作周期
中の開始時刻からΔtだけ経過した瞬間におけるIC表
面の電圧分布像を測定することができる。いま1画像が
例えば100 X 100個の画素から成る場合、 1
00X 100 = 10000繰り返し動作周期にわ
たって上記測定を繰り返せばよい。なお1以上では説明
のため、加算平均処理を施さない場合について述べた。
2H回の加算を行う場合、電圧波形あるいは電圧分布像
の取得に必要な繰り返し周期数は上記の2 倍となる。
以上が従来のストロボ電子ビーム装置の動作概念である
が、上記のような方式によると第1図に示したように、
多くともrcの1繰り返し動作周期に1個のEBパルス
しか照射しなかった。従って1例えばICの1繰り返し
動作周期が1000クロツター1 r*sというように
長周期デバイスで、測定の時間精度Δtを1クロック周
期の100倍(Ions)とすれば、特定部分の1繰り
返し動作周期分の電圧変化波形を得るためには、少なく
とも100×1000−100000繰り返し動作周期
=100sという長い時間を必要としてしまうという問
題点かあ・た。      1)またこの場合、EBパ
ルスの位相は繰り返し動作同期信号(第1図(C))の
パルスを基準に設定しているため、上記例のような場合
EBパルスの位相を長い時間範囲にわたって高精度に制
御する必要があった。しかし、実際には制御装置の制限
などから測定不可能な位相範囲が生じたり、ジッタによ
る影響のために時間分解能が低下してしまうというよう
な問題点があった。これらの問題点は像モードの測定の
場合にも同様であり1例えば上記例において画像数を1
00X 100個とすれば、1枚の電圧分布像取得に少
なくとも100X 100 X 1 m5−10s要す
るのですべてのクロック状態に対する電圧分布像(10
00枚)を取得するためには、長大な時間を必要とする
ことになる。
(4)発明の目的 本発明は上記問題点を除くために、ICの各動作クロッ
クをEBパルスの照射タイミング設定のための信号とし
、ICの各繰り返し動作周期中に複数個のEBパルスを
照射することによって、測定時間を短縮でき、かつEB
パルスの照射タイミングの精度を大幅に向上させること
のできるストロボ電子ビーム装置を提供することを目的
とする。
(5)発明の構成 上記目的は、ICドライバから出力されるICクロンツ
ク同期して動作するIC表面上にパルス状の電子ビーム
を照射し、それにより得られる2次電子信号を用いて該
ICの各測定点の電圧を測定する測定手段を有するスト
ロボ電子ビーム装置において、前記ICCクロック基準
として前記電子ビームの照射タイミングを制御する照射
タイミング制御手段と、該照射タイミング制御手段の出
力をもとに前記電子ビームを前記ICの各繰り返し動作
周期毎に複数個照射する照射手段と、該照射手段によっ
て前記電子ビームを前記IC表面上に照射することによ
って得られる2次電子信号データを、前記クロックに対
応したタイミングで記憶する記憶手段と、該記憶手段に
記憶された2次電子信号データをもとに前記ICの各測
定点の電圧波形、または、該各側定点の電圧分布像を取
得する取得手段を有することを特徴とするスト・ロボ電
子ビーム装置を提供することにある。
(6)発明の実施例 以下1本発明の実施例について詳細に説明を行う。
第2図は本発明によるストロボ電子ビーム装置の全体的
な構成図である。電子ビーム鏡筒lには試料室2が接続
され、試料室2の内部には被検IC3が配置される。被
検IC3には電子ビーム鏡筒1からEBパルス4が照射
され、2次電子5が得られる。2次電子5は試料室2に
接続された検出器6によって検出され、その出力は2次
電子信号61として2次電子信号処理回路8に入力する
。また、被検IC3はICドライバ7によって動作され
、2次電子信号処理回路8にはICドライバ7からの繰
り返し動作周期信号71が入力する。また、2次電子信
号処理回路8には制御用計算機13からの複数の2次電
子信号処理回路制御信号131.及び遅延回路10から
のストローブ101が入力する。また、その出力である
加算処1      理終了信号871及び取得データ
841は制御用計算機13に入力する。一方1分周器9
にはICドライバ7からのICクロック72.及び制御
用計算機13からの分周率指定信号132が入力し。
出力である分周ICクロック91は遅延回路■0に入力
する。また、遅延回路10には制御用計算機13から位
相指定信号133が入力する。遅延回路10の出力であ
るストローブ101は前記したように2次電子信号処理
回路8に入力すると共に、EBパルスゲートドライバ1
1に入力する。
また、EBパルスゲートドライバ11には制御用計算機
13からのEBパルスゲートドライバ制御信号134が
入力し、その出力は鏡筒1の内部に配置されたEBパル
スゲート12に接続される。
また、制御用計算機13には表示装置14が接続される
次に、第3図は第2図における2次電子信号処理回路8
の部分のより具体的な回路構成図である。
第3図において、検出器6からの2次電子信号61(i
2″″″)c″1″1112”9o−g−y7”   
 。
ルタイミング信号821によって号ンプリングされるA
D変換器81に入力する。サンプルタイミング信号82
1を出力する遅延回路82には制御入力として制御用計
算[13からの遅延時間指定131−1  (第2図の
131の一部)が入力し。
また遅延回路10からのストローブ101 (第2図参
照)が入力する。AD変換器81の出力である2次電子
信号データ811は加算回路83の一方の入力に入力す
る。加算回路83の他方の入力には、メモリ84の出力
データ841がスイッチSW3によって選択的に入力さ
れ、加算回路83の出力である加算データ831はメモ
リ84に入力する。メモリ84の出力データ841はス
イッチSW3を介して制御用計算機13または前記加算
回路の一方の入力に選択的に入力する。
一方、加算・READ/崎RITE制御回路85には遅
延回路10からのストローブ信号101 (第2図参照
)が入力し、その一方の出力である加算制御信号852
は加算回路83に入力する。また、他方の出力であるR
EAD/ WrllTE制御信号851はスイッチSW
Iを介して選択的にメモリ84に入力する。また、メモ
リアドレス制御回路86にはやはり遅延口l1810か
らのストローブ信号101が入力し、その出力であるア
ドレスデータ861はスイッチSW2を介して選択的に
メモリ84に入力する。読み出し制御回路88には制御
用計算機13からの読み出し回路起動信号131−3(
第2図の131の一部)が入力し、その出力であるアド
レスデータ881及びREAD制御信号882は。
それぞれスイッチSW2及びスイッチSWIを介して1
選択的にメモリ84に入力する。また。
ICドライバ7からの繰り返し動作同期信号71(第2
図参照)は、メモリアドレス制御回路86に入力すると
共に、カウンタ87に入力する。カウンタ87には制御
用計算tm13からの加算回数指定信号131−2(第
2図の131の一部)が入力し、その出力である加算終
了信号871はメモリアドレス制御回路86に入力する
と共に、制御用計算tl13に入力する。なお、制御用
計算機13からの切り換え信号131−4(第2図の1
31の一部)は、スイッチSW1.SW2゜SW3を制
御する。
以上、第2図及び第3図のような構成のストロボ電子ビ
ーム装置の動作について1次に第4図の説明図を用いな
がら説明を行う。
まず、第4図(1)はICクロック72(第2図参照)
であり、C4はi番目の繰り返し動作周期口のj番目の
クロックパルスであることを示す。この場合、被検IC
3(第2図参照)はこのクロックに従って動作し、1繰
り返し動作周期Tを第4図(f)に示すように5クロツ
クとし、クロック周期t o= 1 μsec  (I
MIIzクロック) (第4図(a))とする。次に第
4図(b)は被検IC3の特定部分の電圧状態のクロッ
クC24による時間変化の例を示したものであり、1繰
り返し動作周期毎に同じ電圧状態を示す。第4図(C1
は繰り返し動作同期信号71 (第2図、第3図参照)
であり、Stはi番目の繰り返し動作周期口のパルスで
あることを示す。第4図fd)は波形モードの場合のE
Bパルス(またはストローブ)第4図(01は像モード
の場合のi       EBパルス(またはストロー
ブ)(共に第2図のEBパルス4またはストローブ10
1に等しい)であり、共にE talkはICクロック
パルスCqからにΔtだけタイミングが遅れたEBパル
ス(またはストローブ)であることを示す。なお、第4
図の場合測定の時間精度Δtをクロック周期tcの4倍
、すなわちΔt = t c/4−%μsecとする。
第4図を用いてまず波形モード電圧測定の場合について
説明を行う。波形モードの場合は第4図(d)に示すよ
うに、1動作周期毎に、各rCクロック72に対してΔ
t〜3Δtずつ位相が遅れたEBパルス4が被検IC3
の特定部分に照射される。
それについて以下に説明する。
まず第2図において制御用計算機13から出力される分
周率指定信号132を用いて分周器9における分周率を
1にセットする。また、制御用計算機13から第3図の
カウンタ87に与えられる加算回数指定信号131−2
によって加算回数を1回(加算平均処理無し)に指定す
る。これにより、まず第2図のICドライバ7から出力
される      jIICICクロック72器9をそ
のまま通過し。
分周ICクロック91として、遅延回路10に入力する
。その分周ICクロック91は第4図(alに示したも
のに等しい。そしてまず繰り返し動作第1周期日は位相
指定信号133が0にセットされる。それにより遅延回
路10に第4図(a)のC++〜C1!lが入力すると
、その出力であるストローブ101は第4図(d)に示
すE++a〜E+aoとなる。これは第4図+alのC
++〜C+sと全く同じである。このストローブ101
によってEBパルスゲートドライバ制御信号134で制
御されるEBパルスゲートドライバ11が動作しEBパ
ルスゲート12を制御することによって、電子ビーム鏡
筒1内の電子銃(特には図示せず)から発射された電子
ビームがパルス化され、被検IC3上の特定部分へEB
パルス4として!!召射される。このEBパルス4も第
4図+diに示すE++o〜E150と同じパルスとな
る。これによって2次電子5が検出器6によって検出さ
れ2次電子信号6・1として2次電子信号処理回路8に
入力する。
次に、繰り返し動作第2周期日に入ると、まずICドラ
イバ7から繰り返し動作周期信号71として第4図(C
)に示すStが出力される。これによってカウンタ87
(第3図)から加算処理終了信号871が出力される。
なお、カウンタ87は加算回数を1にセットしであるの
で第4図(C)のSiが入力する毎に加算処理終了信号
871を出力する。これを認識することにより制御用計
算11113はその出力である位相指定信号133 (
第2図)をΔtにセットする。従って繰り返し動作第2
周期日に入ると、遅延回路10に第4図(a)のC21
〜C25が入力する毎に、各02jに対してΔt(×μ
sec )だけ位相が遅れたストローブ101として、
第4図(dlに示したE211〜E251を出力する。
これにより同様のタイミングでEBパルス4が被検IC
3の特定部分に照射され、それによって得られた2次電
子信号61が2次電子信号処理回路8に入力する。続い
て繰り返し動作第3周期日に入ると、繰り返し動作周期
信号71として第4図(C)の83が出力され、これに
より同様にカウンタ87 (第3図)から加算処理終了
信号871が出力され、制御用計算機13はそれを認識
して位相指定信号133(第2図)を2Δtにセットす
る。従って3繰り返し動作周期口に入ると、遅延回路1
0に第4図(II)のCコ1〜C35が入力する毎に、
各C=jとに対して2Δtだけ位相が遅れた。ストロー
ブ101またはEBパルス4として、第4図(dlに示
してE312〜E352を出力する。そして繰り返し動
作第4周期日も同様に第4図(C1の84で示した繰り
返し動作同期信号71により2位相指定倍号133が3
Δtにセットされ、ストローブ101またはEBパルス
4として第4図(diに示したE a l 3〜E a
 a 3が出力される。以上のようにして、1動作周期
毎に各ICクロック72に対してΔt〜3Δtずつ位相
が遅れたEBパルス4が被検IC3の特定部分に照射さ
れ、それによって得られた各2次電子信号61が2次電
子信号処理回路8に入力される。
次に上記のようにして得られた各2次電子信号゛   
   61を第3図のメモリ84に取り込む動作につい
て説明する。まず、切り換え信号131−4によってS
WIは加算・READ/ WIIITE制御回路85に
接続し、スイッチSW2はメモリアドレス制御回路86
に接続し、スイッチSW3は加算回路83に接続する。
そして加算制御信号852により加算回路83における
加算は行なわないこととする。
さらに、 READ/ WRITE制御信号851はW
I?ITE状態とする。この状態で変換器81に入力す
る2次電子信号61は第4図(d)のタイミングで照射
されるEBパルス4(第2図)に対してわずかに位相が
遅れた信号となっている。これは2次電子5が検出器6
 (第2図)に検出されるまでの遅延時間である。従っ
てそのわずかな位相遅れを遅延時間指定131−1によ
って指定し、EBパルス4のタイミングと等価なストロ
ーブ101 (第2図参照)を用いて遅延@1i82に
よってサンプルタイミング信号821を発生させ、AD
変換器81でAD変換を行いディジタルの2次電子信号
データ811を得る。いまそれらの信号を便宜的に第4
41図(dlの各Eiμで表す。このようにして得られ
る各E 、、、、Aはメモリ84にそれぞれ記憶される
。このとき、メモリアドレス制御回路86においてスト
ローブ101が入力する毎にアドレスが1ずつ進められ
、それに従って各Eλjが記憶されてゆく。
さらに、メモリアドレス制御回路86に入力する繰り返
し動作同期信号71 (第4図(C)の各S+)によっ
て、1繰り返し動作周期毎にアドレスが区切られてゆく
。そしてこの場合、入力した順にアドレスは進んでゆく
従って、メモリ84には各E、5は次のように記憶され
る。
EIIO,EI20.E130.EI40.E15・・
・繰り返し動作第1周期日 E21 +、E221.E2311 E2411  E
25・・・繰り返し動作第2周期日 E312.Ez22.E332.E3421 E35・
・・繰り返し動作第3周期日 E413.E423. E433,24m31 EAS
・・・繰り返し動作第4周期日 ・ ・ ・ ・ ・(11 以上のようにしてメモリ84に各Eλiが記憶されたら
、まず切り換え信号131−4によってスイッチSWI
およびスイッチSW2は読み出し制御回路8日に接続し
、スイッチSW3は制御用計算機13に接続する。そし
てまず、読み出し回路起動131−3によって読み出し
制御回路88を起動し、そこから出力されるRHAD制
御信号882によってメモリ84をRIEAD状態とす
る。そして。
アドレスデータ881をメモリ84に与え先頭アドレス
から順に5番地おきに各Eλ)を読み出してゆく。すな
わち、上記(1)式において各列毎に左か1 ら順に読
み出してゆく。すなわち読み出し順は。
EIIOI E211.E312.E4131’   
E12Q、E221.E322、Ea2zlE130.
   E231.   E332.  243  コ 
 12  E+io、E241.E342.E4431
E15 0 、   E251.   E352.  
 Easal  の3 順になる。このようにして読み
出された2次電子信号データ811は上記20データで
被検ICa上の特定部分のちょうど1繰り返し動作周期
分の電圧波形を示している。従って上記各E jlを制
御用計算機13に取り込み1表示装置14によって波形
表示を行うことができる。このことは、上記各Bitの
出力順が第4図(blの1繰り返し動作周期毎に繰り返
される電圧波形上で、Δtずつずれたものとなっている
ことから明らかである。
上記のように第4図のように1繰り返し動作周期が5ク
ロツクで、測定時間精度Δtを1クロツク周期の4倍精
度とすれば2本発明の場合、4繰り返し動作周期の測定
時間で特定部分の1繰り返し動作周期分の電圧波形を得
ることができる。これは第1図で示した従来のものが同
じ測定を行うのに20繰り返し動作周期かかったのに比
べて115の測定時間となっている。以上のことから。
1繰り返し動作周期がNクロックで、測定時間精度Δt
を1クロツク周期のm倍精度(Δ1.=1C/ m )
とすれば本発明の場合9m繰り返し動作周期の測定時間
で特定部分の1繰り返し動作周期分の電圧波形を得られ
ることになり、これは従来のものがm X N繰り返し
動作周期必要だったのに比べて、1/Nの測定時間でよ
いことになる。なお。
この場合は、第4図の場合と同様にメモリ84からはN
番地おきに各Eλjを読み出してゆけばよいことは明ら
かである。さらに本発明の場合、遅延回路10において
EBパルス4 (またはストローブ101)(第2図)
の位相制御をすべき範囲は。
各ICクロック72(第4図(a))に対して0〜(m
−1)Δt (第4図の場合と、0〜3Δt)の狭い範
囲でよいので、従来のものに比べて高精度の位相制御が
可能である。
次に第4図を用いて像モードの電圧測定の場合について
説明する。像モードの場合は第4図(e)に示すように
すべてのEBパルス4(またはストローブ101)(第
2図)の位相を各ICクロック72(第4図(a))に
対して、Δtというように固定する。これは第2図の位
相指定信号133をΔtに固定すればよい。そして、波
形モードの場合と全く同様にして2次電子信号データ8
11を得て、メモリ84に記憶させる。ただしこの場合
、、11各繰り返し動作周期毎に電子ビーム鏡筒1内の
偏向器(特には図示せず)を制御用計算機13によって
制御し、EBパルス4を被検IO3上で走査する。従っ
て画像が100 X 100点の画素から成る場合、1
00x 100−10000回の繰り返し動作周期分測
定を行う。以上の測定によって、メモリ84上には各E
λjは次のように記憶される。
Ellll  B121.  B131.  E+a+
+  IE+a+・・・・繰り返し動作第1周期日 B21 +、E221.E231.E2411 B25
1・・・・繰り返し動作第2周期日 Eqqqqn   −Eqq9qzt  、  Eqq
qqit  、  E49ft41.  Eqqりpf
/・ ・ ・繰り返し動作第デテ2テ周期日F4ooo
att   +   Etooo6z7  +   E
lODepρj/ I  E 1eae〜ハ  EID
Ootstl・・・繰り返し動作第1oooo周期目・
・・・・(2) 以上の記憶内容を波形モードの場合と全く同様にして、
5@地おきに各Fyiを読み出してゆく。すなわち、上
記(2)式において各列毎に左から順に読み出してゆく
。すなわち1El11.B2111・・・+  E99
9qH* Joooolll E I 21. E 2
2 II・・伊* E999fxl*  Ettpao
o2.IJE+ s +、 B23 llT1′+  
EtHtqat  r  Etaaoou  lE+ 
 41t  2241゜000r  Eqqqq4t+
  Etoaatpw  l]E+s+、B2 a+ 
・・’ +  EfliflJrl 、  ElOat
to!;/  lの順になる。このようにして読み出さ
れた2次電子信号データ811において、始めの100
00データは繰り返し動作周期の1クロツク目からΔt
だけずれたタイミングにおける被検IO3上の100X
 100個の画素からなる電圧分布像を示しており1次
の10000データ、3番目24番目、5@目の10(
100データ毎にそれぞれ繰り返し動作周期の2クロツ
ク目。
3クロック目、4クロック目、5クロツクロからΔtだ
けずれたタイミングにおける被検IO3上の電圧分布像
を示している。上記の5枚の電圧分布像の取得に必要な
時間は10000繰り返し動作周期であり、従来の方法
で必要な繰り返し動作周期数の115となっている。こ
のように本発明では1回の測定で複数枚の電圧分布像が
得られることがわかる。以上のように1繰り返し周期が
Nクロックから成り、1枚の画像がLXL個の画素で構
成されている場合、従来の方法でLXL回の繰り返し動
作周期で1枚の電圧分布像しか得られなかったのに対し
2本発明によればN枚の電圧分布像(クロックからの時
間差は等しい)が同時に得られる。なお、この場合も、
波形モードの場合と同様にメモリ84からはN番地おき
に各E4′を読み出してゆけばよい。また、この場合の
位相制御も波形モードの場合と同様の狭い範囲でよいの
で。
高精度な制御が可能である。
以上が本発明によるストロボ電子ビーム装置の基本的な
動作であるが、第2図において被検IC3とドライブす
るためのICクロック72が数十M Ilzというよう
に高い周波数になった場合、そのような高い周波数では
EBパルス4を連続的に照射できないことがある。その
場合は、ICクロック72を分周器9によって分周して
用いる。例えばクロック周期tcが10MIIzで分周
率を2とする。この場合1分周率指定倍号132によっ
て分周率2を分周器9に与える。従って分周器9の出1
      力である分周ICクロック91はICクロ
ック72を1クロツクおきにとっていったものとなり。
EBパルス4の周波数は5MIIzとなる。この場合。
EBパルス4の位相はICクロック72の1クロツクず
つではなくICクロック72を1クロツクずつとばした
ものを基準として決定するので1位相の制御範囲は分周
率1のときの2倍となり、測定すべき繰り返し動作周期
数は2倍必要なるが。
それでも従来のものより短い測定時間でよい。例えば、
l繰り返し動作周期をNクロックとし、δI11定時間
精度Δtはクロック周期tcのm倍精度としくΔt=t
c/m)、分周率をd(NA(dで割り切れるようにd
を選ぶのがよい)とすると、波形モードの場合1繰り返
し動作周期分の電圧波形を得るためには、mXd繰り返
し動作周期の測定時間が必要となる。しかし、一般にク
ロック周期が高くなれば測定すべき時間精度Δtはその
クロツタ周期に従って高くする必要はそれほどないので
、全体的な測定時間はそれほど長くならずにすむ。例え
ば、クロック周期tcが2倍になったと6.オニdや。
。5.ユ、□えアオイ   (mの値はtcに従って〃
倍になるので、mXdの値はもとの場合と変わらず、測
定時間は増えずにすむ。以上のことは像モードの場合に
も全く同様である。おな、2次電子信号処理回路8にお
ける各処理(メモリ84からのデータの取り出し方など
)は分周率1の場合と全く同じである。
次に加算回路83およびカウンタ87(第3図)の動作
について説明を行う。一般に検出器6 (第2図)によ
って得られる2次電子信号61はSN比が悪い。従って
EBパルス4を全く同じ位相で数周期分照射し、その加
算平均をとることによってSN比を改善することがある
。その場合9例えば第4図Fdlの波形モードの場合、
繰り返し動作第1周期分のEBパルス4の照射タイミン
グを数周期分繰り返し、それぞれを加算回路83におい
て加算してゆく。いま、それを例えば2繰り返し動作周
期分加算するとする。その場合2加算回数指定131−
2によってカウンタ87に加算回数2をセットする。そ
してまず、第4図(dlの始めの繰り返し動作第1周期
分をメモリ84に記憶させる。
すなわち次のように記憶される。
E+  to、  E120.  E130”’、E1
4[1,E15Q・ ・ ・ ・ ・(3) 次に繰り返し動作第1周期分も全く同じタイミングでE
Bパルス4を照射する。それは、カウンタ87からの加
算処理終了信号871が制御用計算tJ3i13へ出力
されないため1位相指定倍号133(第2図)の値が変
化しないことによって実現される。これによって、まず
加算・rlEAD/ WRITE制御回路85からのR
EAD/ Wl? ItE制御信号851によってメモ
リ84にI?EAD命令を与え、上記(3)式の内容を
順に読み出す。このときのメモリアドレス制御回路86
におけるアドレス指定は上記(3)式の5発目のアドレ
ス指定の次にストローブ101によって再び1発目のア
ドレスにもどるようにする。
ことによって実現される。そしてこれら読み出しされた
各E 4と新たに入力したE++o”。
E120’、  E130’、  E+ao  ′、 
 E150’とをそれぞれ加算回路83で加算制御信号
852に従って加算し、再びREAD/WRITE制御
信号851によってメモリ84にWI?ITE命令を与
え。
同じアドレスに記憶させる。すなわち9次のようになる
。(ElIO+EllG’)、  (E120+E12
(1”)I  CE130+E130’)。
(E140+E+40′)l  (Elao+E+i。
・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・(4)こ
のようにデータが加算されたら、カウンタ87から加算
処理終了信号871が出力されるため、メモリアドレス
制御回路86によって指定されるアドレスデータ861
は次の5デ一タ分で進む。
そして、制御用計算機13は加算処理終了信号871を
認識したことによって位相指定信号133をΔtにセッ
トし、第4図(dlの繰り返し動作第3゜第4周期日に
対して全く同様に2周期分の加算を行う。以上を第4図
(dlの繰り返し動作第8周期日が終了するまで繰り返
す。従ってこの場合、全体の測定時間はくもとの繰り返
し動作周期分)×(加算回数)となる。以上の処理を終
了したら。
1     それらのデータを加算回数1の場合と全く
同様にして制御用計算機13に読み出し、各データを(
加算回数)で割り平均をとった後に表示装置14に表示
する。以上の動作は像モードの場合もまったく同様であ
る。以上のような処理を行うことによって、SN比の良
い電圧測定を行うことが可能となる。
(7)発明の効果 本発明によれば、ICの各動作クロックまたはそのクロ
ックを分周したものをEBパルスの照射タイミング設定
のための信号とし、それによって各繰り返し動作周期中
に複数個のEBパルスを照射するため、1繰り返し動作
周期で複数の電圧状態を測定することが可能となり、全
体の測定時間を大幅に短縮することが可能となる。
また各動作クロックをもとにEBパルスの位相を制御す
るため1位相制御範囲を狭くすることができ、それによ
って従来に比べて高精度の位相制御が可能となる。
J″’fee、 2 vo’AM1“°”coy″’1
ML’l:J’1)tJ]”゛   !長くなればなる
程顕著になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来のストロボ電子ビーム装置の説明図、第2
図は本発明によるストロボ電子ビーム装置の全体的な措
成図、第3図は本発明による2次電子信号処理回路の具
体的な回路構成図、第4図は本発明によるストロボ電子
ビーム装置の説明図である。 1・・・電子ビーム鏡筒、°   2・・・試料室、 
   3・・・被検IC,4・・・EBパルス、   
 5・・・2次電子、    6・・・検出器、   
 7・・・ICドライバ。 8・・・2次電子信号処理回路、    9・・・分周
器、    10・・・遅延回路、     11・・
・EBパルスゲートドライバ、    12・・・EB
パルスゲート、    13・・・制御用計算機、  
  14・・・表示装置。 61・・・2次電子信号、    71・・・繰り返し
動作周期信号、    72・・・ICクロック、  
  81・・・AD変換器、    811・・・2次
電子信号データ、    82・・・遅延回路、   
 821・・・サンプルタイミング信号、    83
・・・加算回路、    831・・・加算データ、 
   84・・・メモリ。 841・・・出力データ、    85・・・加算・R
EAD/ WRITE制御回路、    851・・・
READ/切RITE制御信号、    852・・・
加算制御信号、    86・・・メモリアドレス制御
回路、    861・・・アドレスデータ。 87・・・カウンタ、    871・・・加算終了信
号、    88・・・読み出し制御回路。 881・・・アドレスデータ、    882・・・R
EAD制御信号、   91・・・分周ICクロック、
    101・・・ストローブ。 131・・・2次電子信号処理回路制御信号。 131−1・・・遅延時間指定信号、   131−2
・・・加算回数指定信号、     131−3・・・
読み出し回路起動信号、     131−4・・・切
り換え信号、    132・・・分周率指定信号、 
   133・・・位相指定信号。 134・・・EBパルスゲートドライバ制御信号。 SWI、SW2.SW3 ・・ ・スイッチ。 第1図 第2図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)ICドライバから出力されるICクロックに同期
    して動作するIC表面上にパルス状の電子ビームを照射
    し、それにより得られる2次電子信号を用いて該ICの
    各測定点の電圧を測定する測定手段を有するストロボ電
    子ビーム装置において、前記ICクロックを基準として
    前記電子ビームの照射タイミングを制御する照射タイミ
    ング制御手段と、該照射タイミング制御手段の出力をも
    とに前記電子ビームを前記ICの各繰り返し動作周期毎
    に複数個照射する照射手段と、該照射手段によって前記
    電子ビームを前記IC表面上に照射することによって得
    られる2次電子信号データを、前記クロックに対応した
    タイミングで記憶する記憶手段と、該記憶手段に記憶さ
    れた2次電子信号データをもとに前記ICの各測定点の
    電圧波形、または、該各測定点の電圧分布像を取得する
    取得手段を有することを特徴とするストロボ電子ビーム
    装置。
  2. (2)前記照射タイミング制御手段は前記ICクロック
    を分周した信号を基準として前記電子ビームの照射タイ
    ミングを制御することを特徴とする特許請求の範囲第1
    項記載のストロボ電子ビーム装置。
  3. (3)前記ストロボ電子ビーム装置は、前記2次電子信
    号データを前記ICの複数の繰り返し動作周期にわたっ
    て加算平均する加算平均手段を有することを特徴とする
    特許請求の範囲第1項記載のストロボ電子ビーム装置。
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