JPS6156288A - 銅腐蝕抑制剤およびその水処理系における使用 - Google Patents
銅腐蝕抑制剤およびその水処理系における使用Info
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- JPS6156288A JPS6156288A JP60141459A JP14145985A JPS6156288A JP S6156288 A JPS6156288 A JP S6156288A JP 60141459 A JP60141459 A JP 60141459A JP 14145985 A JP14145985 A JP 14145985A JP S6156288 A JPS6156288 A JP S6156288A
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/14—Nitrogen-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は銅腐蝕抑制剤およびその冷水装置における使用
、更に詳しくは、銅表面材や銅含有表面材などの非鉄表
面拐の保護（腐蝕抑制）に用いる特定のアルキル置換ベ
ンゾトリアゾール類およびその用途に関する。かかるベ
ンゾトリアゾール化合物は１例えば冷水装置において、
銅および銅合金から二次加工されるシステム（設備）の
構造部品の腐蝕を抑制するための処理に使用することが
できる。
、更に詳しくは、銅表面材や銅含有表面材などの非鉄表
面拐の保護（腐蝕抑制）に用いる特定のアルキル置換ベ
ンゾトリアゾール類およびその用途に関する。かかるベ
ンゾトリアゾール化合物は１例えば冷水装置において、
銅および銅合金から二次加工されるシステム（設備）の
構造部品の腐蝕を抑制するための処理に使用することが
できる。
従来技術と解決すべき問題点
従来より、ベンゾ） ＩＪアゾールが銅および銅合金の
腐蝕抑制剤、酸化抑制剤または汚染抑制剤として用いら
れることは周仰である。またかかる審美的用途に加え、
ベンゾトリアゾールをトリルトリアゾールと組合せて、
水処理工業、特に冷水工業で広く使用されていることが
知られている。
腐蝕抑制剤、酸化抑制剤または汚染抑制剤として用いら
れることは周仰である。またかかる審美的用途に加え、
ベンゾトリアゾールをトリルトリアゾールと組合せて、
水処理工業、特に冷水工業で広く使用されていることが
知られている。
ペンシルバニア州トレボースのベンツ・ラボラトリーズ
・インコーホレイテッドの［ＢＥＴＺＨＡＮＤＢＯＯＫ
ＯＦ ＩＮＤＵＳＴＲＩＡＬＷＡＴＥＲＣ０ＮＤ
ＩＴＩＯＮＩＮＧＪ（２０２〜２３１頁、１９８０年）
に記載の如く、冷水装置の経済的および連続的に使用操
作を確実にするには、該冷水装置が開放、再循環または
閉鎖のいずれの場合にも腐蝕および沈積の制御処理が常
に必要である。上記ハンドブックの２０７〜２０９頁に
は、個々の腐蝕抑制剤、およびこれらの組合せが多数開
示されており１例えば周知のクロメート、ホスフェート
、亜鉛系抑制剤、市販処理剤の「Ｄｉａｎｏｄｉｃ Ｊ
および「ｎ； ａｎｏｄ ｉ ｃ ロ」が包含される。
・インコーホレイテッドの［ＢＥＴＺＨＡＮＤＢＯＯＫ
ＯＦ ＩＮＤＵＳＴＲＩＡＬＷＡＴＥＲＣ０ＮＤ
ＩＴＩＯＮＩＮＧＪ（２０２〜２３１頁、１９８０年）
に記載の如く、冷水装置の経済的および連続的に使用操
作を確実にするには、該冷水装置が開放、再循環または
閉鎖のいずれの場合にも腐蝕および沈積の制御処理が常
に必要である。上記ハンドブックの２０７〜２０９頁に
は、個々の腐蝕抑制剤、およびこれらの組合せが多数開
示されており１例えば周知のクロメート、ホスフェート
、亜鉛系抑制剤、市販処理剤の「Ｄｉａｎｏｄｉｃ Ｊ
および「ｎ； ａｎｏｄ ｉ ｃ ロ」が包含される。
しかしながら、該ハンドブックの２０８頁の最後のパラ
グラフに記載の如く、冷水装置の構造部品に銅または銅
合金が存在し、且つこれらの部品を冷却水と接触させる
場合、必然的に銅腐蝕抑制剤を使用しなければならない
とされている。またＵ。
グラフに記載の如く、冷水装置の構造部品に銅または銅
合金が存在し、且つこれらの部品を冷却水と接触させる
場合、必然的に銅腐蝕抑制剤を使用しなければならない
とされている。またＵ。
Ｓ特許第４３０３５６８号、第３８３７８０３号および
第３９６０５７６号によれば、この種の腐蝕抑制剤は一
般に、塩基性鉄金属抑制剤および／または組成物と共に
使用される旨記載されている。
第３９６０５７６号によれば、この種の腐蝕抑制剤は一
般に、塩基性鉄金属抑制剤および／または組成物と共に
使用される旨記載されている。
上記の各文献から認められるように、メルカプトベンゾ
チアゾールおよび他の特定チアゾール類や、ベンゾトリ
アゾールおよびその誘導体（主にトリルトリアゾール）
が広く使用されている。また明らかな如く、水処理工業
界は、より有効で経済性の高い、しかも適用容易な処理
剤を見出すべく、各種添加化り物について検討されてお
り、主として銅損制剤の開発が研究されている。これら
の抑制剤は事実、水処理工業において有意義であるが、
一般に、銅または銅含有合金から二次加工されるランプ
等の装飾品、ポット、構造部品などの製品の汚染および
／または酸化の抑制にも重要である。装飾品などの製品
は１周知のｖ■く、はんのわずかに湿った雰囲気でもこ
れにさらすと、酸化あるいは汚染する。従って、水処叩
工朶Ｗではかかる問題を解決する方法も望まれている。
チアゾールおよび他の特定チアゾール類や、ベンゾトリ
アゾールおよびその誘導体（主にトリルトリアゾール）
が広く使用されている。また明らかな如く、水処理工業
界は、より有効で経済性の高い、しかも適用容易な処理
剤を見出すべく、各種添加化り物について検討されてお
り、主として銅損制剤の開発が研究されている。これら
の抑制剤は事実、水処理工業において有意義であるが、
一般に、銅または銅含有合金から二次加工されるランプ
等の装飾品、ポット、構造部品などの製品の汚染および
／または酸化の抑制にも重要である。装飾品などの製品
は１周知のｖ■く、はんのわずかに湿った雰囲気でもこ
れにさらすと、酸化あるいは汚染する。従って、水処叩
工朶Ｗではかかる問題を解決する方法も望まれている。
本発明によって、式。
〔式中、Ｒは炭素数３〜８、好ましくは４〜６の直鎖も
しくは分枝鎖置換もしくは非置換炭化水素基である〕 テ示すれる置換ベンゾトリアゾール化合物を非鉄金属表
向、特に銅表面または銅含有物表面に塗布すれば、腐蝕
保護並びに酸化および汚染の抵抗が促進されることがわ
かった。この点に関し、特にブチルベンゾトリアゾール
が好ましい。
しくは分枝鎖置換もしくは非置換炭化水素基である〕 テ示すれる置換ベンゾトリアゾール化合物を非鉄金属表
向、特に銅表面または銅含有物表面に塗布すれば、腐蝕
保護並びに酸化および汚染の抵抗が促進されることがわ
かった。この点に関し、特にブチルベンゾトリアゾール
が好ましい。
当該化合物は上述の川＜、水処理工業（特に冷水工業）
において、構造部品が銅および／または銅合金から二次
加工され、その系に含まれる水によって浸蝕されるとい
った冷水装置の構造部品の保護を目的としてその広範囲
の使用が企画されている。
において、構造部品が銅および／または銅合金から二次
加工され、その系に含まれる水によって浸蝕されるとい
った冷水装置の構造部品の保護を目的としてその広範囲
の使用が企画されている。
本発明に係る置換ベンゾトリアゾール化合物は、それ単
独または他の処理剤と組合せて、その系に添加するか、
または銅表面に塗布することができる。
独または他の処理剤と組合せて、その系に添加するか、
または銅表面に塗布することができる。
置換ベンゾトリアゾール化合物を冷水装置の処理に用い
る場合、これを単独で、その水溶液の形で添加するか、
または冷水装置の鉄構油部の保護を意図した周知の腐蝕
抑制剤と併用（〜でもよい。
る場合、これを単独で、その水溶液の形で添加するか、
または冷水装置の鉄構油部の保護を意図した周知の腐蝕
抑制剤と併用（〜でもよい。
例えば、置換ベンゾトリアゾール化合物を周知の処理剤
と共に適当量で配合されてよい。なお、適当量とは全配
合物を冷却水に添加した場合に、当該化合物が十分に機
能して、所望の保護を達成できる量を意味する。」−記
周仰の処理剤としては。
と共に適当量で配合されてよい。なお、適当量とは全配
合物を冷却水に添加した場合に、当該化合物が十分に機
能して、所望の保護を達成できる量を意味する。」−記
周仰の処理剤としては。
アクリル酸ノヒドロキシアルキルアクリレート／オルト
ホスフェートを用いて腐蝕保護を伺！テする［Ｄｉａｎ
ｏｄｉｃ １７ Ｊ処理剤（ＴＪ、Ｓ、特許第４３０３
５６８号参照）、ジンク−クロメートおよび／またはホ
スフェートをベースとする処理剤、ホスホネート含有処
理剤、ポリおよびオルトホスフェート−ポリマー処理剤
（例えばポリアクリル酸ポリマースルホン１ヒスチレン
ー無水マレイン酸ポリマー、アクリル酸／アクリルアミ
ドコポリマー、アクリルアミドメチルプロパンスルホネ
ートヲベースとするポリマーを有する処理剤）〔ベンツ
のＵ、別特許第３８９８０３７号を参照〕等が包含され
る。
ホスフェートを用いて腐蝕保護を伺！テする［Ｄｉａｎ
ｏｄｉｃ １７ Ｊ処理剤（ＴＪ、Ｓ、特許第４３０３
５６８号参照）、ジンク−クロメートおよび／またはホ
スフェートをベースとする処理剤、ホスホネート含有処
理剤、ポリおよびオルトホスフェート−ポリマー処理剤
（例えばポリアクリル酸ポリマースルホン１ヒスチレン
ー無水マレイン酸ポリマー、アクリル酸／アクリルアミ
ドコポリマー、アクリルアミドメチルプロパンスルホネ
ートヲベースとするポリマーを有する処理剤）〔ベンツ
のＵ、別特許第３８９８０３７号を参照〕等が包含され
る。
なお、より詳しい内容については上述のＢＥＴＺハンド
ブックを参照。
ブックを参照。
本発明における当該化合物は、それが不動態技術（ｐａ
ｓｓｉｖａｔｉｏｎ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ ） ま
たはバリヤー保護技術のいずれによるものであっても、
その鉄金属保護系と共に利用できることが明らかである
。
ｓｓｉｖａｔｉｏｎ ｔｅｃｈｎｉｑｕｅ ） ま
たはバリヤー保護技術のいずれによるものであっても、
その鉄金属保護系と共に利用できることが明らかである
。
当該化合物は上述の如く、下式で示される。
上記構造式を構成する各原子に番号を付し、効果上予期
できない程度に優れることが認められる特定化会物、即
ち４−または５−ブチルベンゾトリアゾールを明示する
。
できない程度に優れることが認められる特定化会物、即
ち４−または５−ブチルベンゾトリアゾールを明示する
。
」−記Ｒ基は０３〜Ｃ８の基であるが、当該化合物の具
体例としては、以下のものが挙げられる。
体例としては、以下のものが挙げられる。
なお、ｋ基の位置は４または５位が好ましい。
（１１〕
またベンゼン環中の炭化水素基および６および／または
７位を別の官能基で置換することも可能である。かかる
官能基としては、アルキル、ハロアルキル、ハロ、アミ
ノ、アルコキシおよびカルボキシアミド基が有用である
。
７位を別の官能基で置換することも可能である。かかる
官能基としては、アルキル、ハロアルキル、ハロ、アミ
ノ、アルコキシおよびカルボキシアミド基が有用である
。
当該化合物は、その使用目的に応じ十分な量で使用すべ
きことが明らかであるが、より具体的には、水処理系の
水に対して０．１〜２００ ｐｐｍの量で添加すること
ができる。
きことが明らかであるが、より具体的には、水処理系の
水に対して０．１〜２００ ｐｐｍの量で添加すること
ができる。
次に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。
実施例
本発明の効果が分備化合物に比し優れていることを確認
するため、以下に示す実験および研究を行う。
するため、以下に示す実験および研究を行う。
実験
■、電気化学法
腐蝕は主に電気化学現象であるので、電気化学技術を用
いて腐蝕の機構および活性を研究することができる。実
験は以下の要領で行う。即ち、本発明の対象とする金属
合金の電極（作業電極〕を適当な参照電極（ここで報告
する結果は、飽和力０メ／ｌ／電極（５ａｔｕｒａｔｅ
ｄ Ｃａｌｏｍｅｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ）［５
ＣＥ）に関係する）と共に適当な媒質（導電液）に入れ
、各種の電子装置（一般にポテンシャルスタット（ｐｏ
ｔｅｎｔｉｏｓｔａｔ ）と称す）で静電ポテンシャル
（電圧〕または電流をコントロールし、同時に生じる電
流またはポテンシャルを測定する。
いて腐蝕の機構および活性を研究することができる。実
験は以下の要領で行う。即ち、本発明の対象とする金属
合金の電極（作業電極〕を適当な参照電極（ここで報告
する結果は、飽和力０メ／ｌ／電極（５ａｔｕｒａｔｅ
ｄ Ｃａｌｏｍｅｌ Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ ）［５
ＣＥ）に関係する）と共に適当な媒質（導電液）に入れ
、各種の電子装置（一般にポテンシャルスタット（ｐｏ
ｔｅｎｔｉｏｓｔａｔ ）と称す）で静電ポテンシャル
（電圧〕または電流をコントロールし、同時に生じる電
流またはポテンシャルを測定する。
最初の主要な技術は静ポテンシャル分極またはゞタフエ
ル（Ｔａｆｅｌ） ’分極である。
ル（Ｔａｆｅｌ） ’分極である。
Ａ、タフエル分極
腐蝕プロセス中電子は腐蝕電極から周囲環境へ移行する
ので、電子流の速度、または電流は、下式のファラデー
の法則によって腐蝕速度に直接関係する。
ので、電子流の速度、または電流は、下式のファラデー
の法則によって腐蝕速度に直接関係する。
Ｎ＝ｉ／ｎＦ
〔Ｎは単位時間当りの反応を受けるモル数（即ち。
腐蝕速度）、
ｎは必要原子当りの電子の数（またはモル当量〕。
ｉは電流（単位時間当りの電荷）。
Ｆはファラデー数（当量当りのクーロン）である〕
平均浸蝕速度で示される腐蝕速度は１次式で算出される
。
。
Ｃ０Ｒ０−（ＮｘＡｔ、Ｗｔ）／（ｄＸＡ）［Ｃ０Ｒ１
は適当なユニットの腐蝕速度。
は適当なユニットの腐蝕速度。
Ｎは前記と同意義。
Ａ【・Ｗ【は合金の１分子当りの買置。
ｄは合金の密度。
Ａは試験片の表面積である〕
分極技術において、電流成分の１つを有効に抑制できる
ように系を腐蝕ポテンシャルから十分離して電気的に混
乱させることが必要で、これによって他の成分の測定が
可能となる。このように正ポテンシャルを付与すること
により、陰糊反応は抑制され、陽極電流を測定すること
ができる。負ポテンシャルを付与すれば、反対のプロセ
スが起る。データの適当な数学的処理によって、腐蝕電
流を測定することができる。更に、電流−ポテンシャル
の関係の詳細な分析によって１機構の細部が明らかとな
る。例えば、抑制剤の使用および不使用での陽極および
陰極曲線の形を比較すれば、抑制の原理形態を明らかに
することができる。かかる試験のデータにおいて、酸素
の陰極還元は抑制剤分子によって最も有意義に起り、ま
たブチルベンゾトリアゾール（ｂ−ＢＺＴ）は陰部反応
遅延を最大限に抑制することが認められる。
ように系を腐蝕ポテンシャルから十分離して電気的に混
乱させることが必要で、これによって他の成分の測定が
可能となる。このように正ポテンシャルを付与すること
により、陰糊反応は抑制され、陽極電流を測定すること
ができる。負ポテンシャルを付与すれば、反対のプロセ
スが起る。データの適当な数学的処理によって、腐蝕電
流を測定することができる。更に、電流−ポテンシャル
の関係の詳細な分析によって１機構の細部が明らかとな
る。例えば、抑制剤の使用および不使用での陽極および
陰極曲線の形を比較すれば、抑制の原理形態を明らかに
することができる。かかる試験のデータにおいて、酸素
の陰極還元は抑制剤分子によって最も有意義に起り、ま
たブチルベンゾトリアゾール（ｂ−ＢＺＴ）は陰部反応
遅延を最大限に抑制することが認められる。
Ｂ、直線（−次）分極
タフエル分極の欠点の１つは、有意な電流を試料および
溶液に通して系に永久変化を起すことである。その結果
は既伽状態の系とは相関しないの（１５〕 で、繰返し測定することができない。典型的な変化が生
じるのは、溶液ｐＨ，溶液組成および試験片の表面構造
である。直線分極はこの問題を解決するが、それは非常
に小さな混乱電流を用いて系の状態変化を無視できる程
度にすることによる。
溶液に通して系に永久変化を起すことである。その結果
は既伽状態の系とは相関しないの（１５〕 で、繰返し測定することができない。典型的な変化が生
じるのは、溶液ｐＨ，溶液組成および試験片の表面構造
である。直線分極はこの問題を解決するが、それは非常
に小さな混乱電流を用いて系の状態変化を無視できる程
度にすることによる。
しかしながら、非直線の系レスポンスは、データ処理に
関してこれを煩雑化する。かかる処理に対して各種の演
算法を利用でき、これらをこの目的に用いるコンピュー
タープログラムにおいて採用する。
関してこれを煩雑化する。かかる処理に対して各種の演
算法を利用でき、これらをこの目的に用いるコンピュー
タープログラムにおいて採用する。
電流−ポテンシャル曲線の腐蝕ポテンシャルにおける瞬
間勾配の測定（ｊ、オーム眼位または電気抵抗単位を有
する。組成および表面積が同一の試料の場合、この分極
抵抗値は腐蝕速度に反比例する。このように抵抗か大き
くなると、腐蝕ｉ中度は’Ｊ八さくｆよる。
間勾配の測定（ｊ、オーム眼位または電気抵抗単位を有
する。組成および表面積が同一の試料の場合、この分極
抵抗値は腐蝕速度に反比例する。このように抵抗か大き
くなると、腐蝕ｉ中度は’Ｊ八さくｆよる。
この技術は同一の系に対し測定を繰返して行うことがで
きるという利点を有するが、タフエル分極によって得る
ことができる機構細部を犠牲にする。
きるという利点を有するが、タフエル分極によって得る
ことができる機構細部を犠牲にする。
（１６〕
添付図面の直線分極データによれば、トリルトリアゾー
ル（ＴＴＡ）やベンゾトリアゾール（ＢＺＴ）に比べて
ブチルベンゾトリアゾール（ｂ−ＢＺＴ）では全く予期
できない改良が認められる。
ル（ＴＴＡ）やベンゾトリアゾール（ＢＺＴ）に比べて
ブチルベンゾトリアゾール（ｂ−ＢＺＴ）では全く予期
できない改良が認められる。
■、性能研究
腐蝕およびその抑制の純電気化学的観点から離れて、外
的条件の影響について疑問が起る。再循環冷却システム
の処理技法を開始するのに、第１の関心は水化学、流速
および温度の影響である。
的条件の影響について疑問が起る。再循環冷却システム
の処理技法を開始するのに、第１の関心は水化学、流速
および温度の影響である。
従って、試験装置は広範囲のポテンシャル作動条件をま
ねるように設計されており、また加えて、試験片の挿入
手段が設けられている。次いで、これらの試験片を所望
に応じて、可視的に、電気化学的にまたは重量的に研究
することができる。電流研究に採用する主要な２つの試
験は、スピンナー試薬および再循環試験ユニット（ＲＴ
ｖ）である。
ねるように設計されており、また加えて、試験片の挿入
手段が設けられている。次いで、これらの試験片を所望
に応じて、可視的に、電気化学的にまたは重量的に研究
することができる。電流研究に採用する主要な２つの試
験は、スピンナー試薬および再循環試験ユニット（ＲＴ
ｖ）である。
Ａ、スピンナー試験
１７４？のタンクを設け、これに試験水を入れる。室温
〜２１２”Ｆの一定温度に維持する手段を設け、更に試
験溶液を空気飽和に維持する。クーポン形状の舎監試料
（合金に基づき寸法の異なる金属片〕を洗浄し、重用を
秤り、これをマンドレルの周辺に固定する。次いでクー
ポンを試＠溶液に浸漬し、垂直軸を中心に一定速度で回
転させる。
〜２１２”Ｆの一定温度に維持する手段を設け、更に試
験溶液を空気飽和に維持する。クーポン形状の舎監試料
（合金に基づき寸法の異なる金属片〕を洗浄し、重用を
秤り、これをマンドレルの周辺に固定する。次いでクー
ポンを試＠溶液に浸漬し、垂直軸を中心に一定速度で回
転させる。
リム回転速度を１．６フイ一ト／秒に維持する。
試験クーポンを所定期間（例えば３〜７日間〕浸漬後、
これを取出し、検査し、洗浄し、乾燥し、重量を秤る。
これを取出し、検査し、洗浄し、乾燥し、重量を秤る。
これらのデータから、腐蝕速度を算出する。
Ｂ、再循環試験ユニット（ＲＴＵ）
この試験操作はスピンナー試験に概念的１こ類似するが
、この点はむしろ、試験片を静止した液体中で回転させ
ており、試験片は固定され、液体を調整可能な一定速度
で循環させる。更に、試験溶液を調整可能な一定速度で
補給し、ｐＨを土０，２ｐＨ単位内に調節する手段を設
ける。フロー流に電気化学的腐蝕測定を行う手段を設け
る。更に、フロー流に試験片を挿入することができ、試
験片の表向温度を調節するため、内部抵抗加熱装置を介
してフロー流に一定の熱束を付与されてよい。
、この点はむしろ、試験片を静止した液体中で回転させ
ており、試験片は固定され、液体を調整可能な一定速度
で循環させる。更に、試験溶液を調整可能な一定速度で
補給し、ｐＨを土０，２ｐＨ単位内に調節する手段を設
ける。フロー流に電気化学的腐蝕測定を行う手段を設け
る。更に、フロー流に試験片を挿入することができ、試
験片の表向温度を調節するため、内部抵抗加熱装置を介
してフロー流に一定の熱束を付与されてよい。
■、試験結果
Ａ、タフエル分極
０、ｌＮ−硫酸ナトリウムを含有しＰＨ７，０に調整し
た試験容器に銅電極を入れ、空気飽和にする。
た試験容器に銅電極を入れ、空気飽和にする。
対照は未処理であって、一連の各試験液にはそれぞれ］
、Ｐｐｍ のベンゾトリアゾール（１１Ｚ Ｔ ）、
トリルトリアゾール（ＴＴＡ）またはブチルベンゾトリ
アゾール（ｂ−ＢＺＴ）を加える。
、Ｐｐｍ のベンゾトリアゾール（１１Ｚ Ｔ ）、
トリルトリアゾール（ＴＴＡ）またはブチルベンゾトリ
アゾール（ｂ−ＢＺＴ）を加える。
−５５０ｍＶ〜＋２５０ｍＶＣ飽和カロメル参照電極（
ＳＣＥ）に対して）の１０ ｍＶ ７分のポテンシャル
掃引を適用する（全ての掃引は陽極方向に行い、陰極掃
引が先行する）４０ｇ電流密度（Ａ／ ｃｒｊ ）対ポ
テンシャル（電圧）のプロットを第１図に示す。一連の
プロット（１：未処理、２ニトリルトリアゾール（ＴＴ
Ａ）、３および４：ｂ−ＢＺＴ）を考察すれば、顕著な
特徴は、一定のポテンシャルにおける陰極電流の減少で
ある。陽極電流の減少はＴＴＡとｂ−ＢＺＴの場合同じ
であり、これは未処理対照より低い数オーダーの太きさ
である。
ＳＣＥ）に対して）の１０ ｍＶ ７分のポテンシャル
掃引を適用する（全ての掃引は陽極方向に行い、陰極掃
引が先行する）４０ｇ電流密度（Ａ／ ｃｒｊ ）対ポ
テンシャル（電圧）のプロットを第１図に示す。一連の
プロット（１：未処理、２ニトリルトリアゾール（ＴＴ
Ａ）、３および４：ｂ−ＢＺＴ）を考察すれば、顕著な
特徴は、一定のポテンシャルにおける陰極電流の減少で
ある。陽極電流の減少はＴＴＡとｂ−ＢＺＴの場合同じ
であり、これは未処理対照より低い数オーダーの太きさ
である。
これらの結果から、ＴＴＡおよびｂ−ＢＺＴは共に陽極
および陰（駅の抑制剤として作用し、陽極抑制の程度は
両方共実質的に同じであるが、陰極抑制についてはｂ−
ＢＺＴがＴＴＡに比べて１０〜１００倍のファクターで
優れていることが認められる。
および陰（駅の抑制剤として作用し、陽極抑制の程度は
両方共実質的に同じであるが、陰極抑制についてはｂ−
ＢＺＴがＴＴＡに比べて１０〜１００倍のファクターで
優れていることが認められる。
＠２図は陰極のみの掃引であって、これにはｂ−ＢＺＴ
の陰極抑制の増大がＴＴＡのそれより四えていることが
示されている。同一ポテンシャルにおける陰極電流の減
少は、ｂ−ＢＺＴの場合ＴＴＡの１０倍である。
の陰極抑制の増大がＴＴＡのそれより四えていることが
示されている。同一ポテンシャルにおける陰極電流の減
少は、ｂ−ＢＺＴの場合ＴＴＡの１０倍である。
Ｂ、直線分版／再循環試験ユーット（ＲＴＵ）［１１被
膜形成試験 洗浄シ＆電ｉヲＴＴ Ａ、 ｂ −Ｂ Ｚ ＴｔタハＢ
ＺＴの１０ ｐｐｍ溶液（ｐｉ−１７） ＩＣ２４時
間浸漬する。
膜形成試験 洗浄シ＆電ｉヲＴＴ Ａ、 ｂ −Ｂ Ｚ ＴｔタハＢ
ＺＴの１０ ｐｐｍ溶液（ｐｉ−１７） ＩＣ２４時
間浸漬する。
かかる電極をＲＴＵの試験ラックのホルダーに設置する
。試験条件はＣａ（ＣａＣ０３として９６００ｐｐｍ、
Ｍｇ （ＭｇＣＯ３としテ） ３００ ｐｐｍ、 Ｃ
（１−１０００ｐｐｍ、ｐＴ−１７，１２０”Ｆである
。
。試験条件はＣａ（ＣａＣ０３として９６００ｐｐｍ、
Ｍｇ （ＭｇＣＯ３としテ） ３００ ｐｐｍ、 Ｃ
（１−１０００ｐｐｍ、ｐＴ−１７，１２０”Ｆである
。
〔２０〕
１Ｘ線分閘対時間の関係は以下の通りである。
２６．５ ５２６ ５５６ ３４２ ７４３」
−記データから、新規物質（最右欄のｌ） ＢＺＴ）
の抑制活性はＴＴＡまたはＢＺＴの１０〜３０倍である
ことが認められる。なお、上記データの変動は時間的な
ｐｔＩのちょっとした振動に起因する。
−記データから、新規物質（最右欄のｌ） ＢＺＴ）
の抑制活性はＴＴＡまたはＢＺＴの１０〜３０倍である
ことが認められる。なお、上記データの変動は時間的な
ｐｔＩのちょっとした振動に起因する。
同じ条件を用い、１００ Ｐｐｍの溶液で被膜を形成し
て別の試験を行った結果は、以下の通りである。
て別の試験を行った結果は、以下の通りである。
経過時間（ｈ ｒ ） 分 極 抵 抗（
Ω）２２．５ ２９００ ６０１００ ４
５５０００２８．５ ８２５０ ９１９５０
３０５３５０５０．０ １４２００ １７８
６００ ４３４８００１２２．５ １６０００
６９６００ ２９８５００１８９．５ ２
１３００ ５５６００ ２３２６００２１５．５
１６４００ ４２１００ ２１９２００３１
５．５ １００００ ２７４００ １１０４
００かかる結果から、新規物質の抑制効果は平均してＴ
ＴＡの５倍であることが示される。より重要な点はＴＴ
Ａ被膜の場合１９０時間後に効果の減退が見られるのに
対し、ｂ−ＢＺＴによって形成される被膜では、第３図
において明らかなように更に１５０時間以−１−もの間
、平均水準のＴＴＡ被膜より高い抑制効果がなお残って
いることである更に別の試、１倹における水条件はα下
の通りである。Ｃａ （Ｃａ ＣＯ３とし”’Ｃ）６０
０ Ｐｐｍ、 Ｍｇ（ＭｇＣＯ３として） ３００ Ｐ
Ｐ”、 Ｃ１４００ｐｐｍ、試験電極に１００ ｐｐｍ
溶液で被膜を形成する。結果は以下の通りである。
Ω）２２．５ ２９００ ６０１００ ４
５５０００２８．５ ８２５０ ９１９５０
３０５３５０５０．０ １４２００ １７８
６００ ４３４８００１２２．５ １６０００
６９６００ ２９８５００１８９．５ ２
１３００ ５５６００ ２３２６００２１５．５
１６４００ ４２１００ ２１９２００３１
５．５ １００００ ２７４００ １１０４
００かかる結果から、新規物質の抑制効果は平均してＴ
ＴＡの５倍であることが示される。より重要な点はＴＴ
Ａ被膜の場合１９０時間後に効果の減退が見られるのに
対し、ｂ−ＢＺＴによって形成される被膜では、第３図
において明らかなように更に１５０時間以−１−もの間
、平均水準のＴＴＡ被膜より高い抑制効果がなお残って
いることである更に別の試、１倹における水条件はα下
の通りである。Ｃａ （Ｃａ ＣＯ３とし”’Ｃ）６０
０ Ｐｐｍ、 Ｍｇ（ＭｇＣＯ３として） ３００ Ｐ
Ｐ”、 Ｃ１４００ｐｐｍ、試験電極に１００ ｐｐｍ
溶液で被膜を形成する。結果は以下の通りである。
第４図は分極抵抗（Ω）対時間（ｈｒ）のプロット図で
ある。この結果からも、ｂ−ＢＺＴの場合抑制力および
被膜寿命の重要な増加が認められる。
ある。この結果からも、ｂ−ＢＺＴの場合抑制力および
被膜寿命の重要な増加が認められる。
” （２は・ライ・被膜形成試験実際の現場
条件にまねて設計した他の試験を行う。採用する水条件
は以下の通りである。Ｃａ （ＣａＣＯ３トしｒ） ７
８０Ｐｐｍ、 Ｍｇ（ＭｇＣＯ３（！：して） ２８０
Ｐｐｍ、 ＣＪ １２ ｐｐｍ、 ＳＯ２−１１０
００ｐｐ 、ｐ）Ｉ’７．４３． １２０”Ｐ、 こ
の場合１０ ｐｐｍ 溶液で被膜を形成するが、先の試
験で行った静止ジャーで２４時間ではなく、むしろ流れ
系で４時間の動的条件下で被膜形成を行う。これは実際
の現場用途を実現した試験であるが、それは実際のシス
テムにおいてオンライン処理が唯一の可能な方法である
からである。結果は以下の通りである。
条件にまねて設計した他の試験を行う。採用する水条件
は以下の通りである。Ｃａ （ＣａＣＯ３トしｒ） ７
８０Ｐｐｍ、 Ｍｇ（ＭｇＣＯ３（！：して） ２８０
Ｐｐｍ、 ＣＪ １２ ｐｐｍ、 ＳＯ２−１１０
００ｐｐ 、ｐ）Ｉ’７．４３． １２０”Ｐ、 こ
の場合１０ ｐｐｍ 溶液で被膜を形成するが、先の試
験で行った静止ジャーで２４時間ではなく、むしろ流れ
系で４時間の動的条件下で被膜形成を行う。これは実際
の現場用途を実現した試験であるが、それは実際のシス
テムにおいてオンライン処理が唯一の可能な方法である
からである。結果は以下の通りである。
１１７ ７５４７２ １２０３０１ −■注）
■ １００ ｐｐｍ溶液で静的に被膜形成■ ヒユーズ
が飛んだため測定不可能 （３） スピンナー試験 ｂ−ＢＺＴをＴＴＡに対して３種の濃度で試験する。水
条件は以下の通りである。Ｃａ（ＣａＣＯ３として）１
７０ Ｐｐｍ、 Ｍｇ （ＭｇＣＯ３として〕１１０
Ｐｐｍ、５ｉｎ２１５ Ｐｐｍ、ｐＨ７，０，１２０′
Ｆ０アドミラルテイ（ａｄｍｉｒａｌｔｙ ）真鍮の腐
蝕速度は以下の通りである。
■ １００ ｐｐｍ溶液で静的に被膜形成■ ヒユーズ
が飛んだため測定不可能 （３） スピンナー試験 ｂ−ＢＺＴをＴＴＡに対して３種の濃度で試験する。水
条件は以下の通りである。Ｃａ（ＣａＣＯ３として）１
７０ Ｐｐｍ、 Ｍｇ （ＭｇＣＯ３として〕１１０
Ｐｐｍ、５ｉｎ２１５ Ｐｐｍ、ｐＨ７，０，１２０′
Ｆ０アドミラルテイ（ａｄｍｉｒａｌｔｙ ）真鍮の腐
蝕速度は以下の通りである。
対照 １．６ − − −
ＴＴＡ Ｏ，６５０，５９０，４２ｂ−Ｂ
ＺＴ −０，４２０，４４０，４８これらの試験は、
取り立てて強調または厳格に扱われるものではないが、
これによってｂ−ＢＺＴがＴＴＡに対し同等もしくは優
れていることが認められる。
ＺＴ −０，４２０，４４０，４８これらの試験は、
取り立てて強調または厳格に扱われるものではないが、
これによってｂ−ＢＺＴがＴＴＡに対し同等もしくは優
れていることが認められる。
このように特殊な具体例について本発明を説明したが、
本発明における多数の他の態様および改変が当業者にと
って自明であることが明らかである。
本発明における多数の他の態様および改変が当業者にと
って自明であることが明らかである。
特許請求の範囲に基づく本発明の技術的範囲は一般に、
本発明の真の精神および範囲内に属する上記自明の態様
および改変の全てを保護しうるものであることが理解さ
れるべきである。
本発明の真の精神および範囲内に属する上記自明の態様
および改変の全てを保護しうるものであることが理解さ
れるべきである。
第１〜４図はそれぞれ、実施例の試験結果を示すもので
、第１図および第２図はｌｏｇ電流密度（Ａ／ｄ）対ポ
テンシャル（Ｖ）の関係を示すプロット図、第３図およ
び第４図は分憧抵抗（Ω）対時間（ｈｒ）の関係を示す
プロット図である。 特許出願人 ペッツ・インターナショナル・インコーホ
レイテッド
、第１図および第２図はｌｏｇ電流密度（Ａ／ｄ）対ポ
テンシャル（Ｖ）の関係を示すプロット図、第３図およ
び第４図は分憧抵抗（Ω）対時間（ｈｒ）の関係を示す
プロット図である。 特許出願人 ペッツ・インターナショナル・インコーホ
レイテッド
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、水処理系と接触する非鉄金属の腐蝕を抑制する方法
であって、該水処理系に式、▲数式、化学式、表等があ
ります▼ 〔式中、Ｒは炭素数３〜８の炭化水素基であるで示され
る水溶性化合物を添加することを特徴とする非鉄金属の
腐蝕抑制方法。 ２、Ｒの炭素数が４〜６である前記第１項記載の方法。 ３、水溶性化合物を水処理系の水に対して０．１〜２０
０ｐｐｍの量で添加する前記第２項記載の方法。 ４、非鉄金属が銅または銅含有金属である前記第３項記
載の方法。 ５、水処理系が冷水装置である前記第４項記載の方法。 ６、冷水装置に含まれる水および／または該冷水装置の
操作条件が、銅または銅含有金属に対し高度に腐蝕性を
与えるものである前記第５項記載の方法。 ７、Ｒが炭素数３〜８のアルキルである前記第１項記載
の方法。 ８、非鉄金属が銅または銅含有金属である前記第７項記
載の方法。 ９、水処理系が冷水装置である前記第８項記載の方法。 １０、水溶性化合物を水処理系の水に対して０．１〜１
００ｐｐｍの量で添加する前記第９項記載の方法。 １１、冷水装置に含まれる水および／または該冷水装置
の操作条件が、銅または銅含有金属に対し高度に腐蝕性
を与えるものである前記第９項記載の方法。 １２、水溶性化合物がブチルベンゾトリアゾールである
前記第１項記載の方法。 １３、水溶性化合物を水処理系の水に対して０．１〜１
００Ｐｐｍの量で添加する前記第１２項記載の方法。 １４、非鉄金属が銅または銅含有金属である前記第１３
項記載の方法。 １５、水処理系が冷水装置である前記第１４項記載の方
法。 １６、冷水装置に含まれる水および／または該冷水装置
の操作条件が、銅または銅含有金属に対し高度に腐蝕性
を与えるものである前記第１５項記載の方法。 １７、水溶性化合物が４−または５−ブチルベンゾトリ
アゾールである前記第１６項記載の方法。 １８、水処理系と接触する鉄金属および非鉄金属の両方
からなる金属部品の腐蝕を抑制するため、該水処理系に
鉄金属用腐蝕抑制剤を加える方法において、式、▲数式
、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒは炭素数３〜８の炭化水素基であるで示され
る化合物からなる非鉄金属用腐蝕抑制剤をも添加するこ
とを特徴とする金属部品の腐蝕抑制方法。 １９、炭化水素基の炭素数が４〜６である前記第１８項
記載の方法。 ２０、水処理系が冷水装置である前記第１９項記載の方
法。 ２１、非鉄金属が銅または銅含有金属である前記第２０
項記載の方法。 ２２、冷水装置に含まれる水および／または該冷水装置
の操作条件が、銅または銅含有金属に対し高度に腐蝕性
媒質を付与するものである前記第２１項記載の方法。 ２３、化合物がブチルベンゾトリアゾールである前記第
２０項、第２１項または第２２項記載の方法。 ２４、水と接触する鉄金属および非鉄金属の両方からな
る金属部品または金属装置の腐蝕を抑制する組成物であ
って、鉄金属用腐蝕抑制剤および式、▲数式、化学式、
表等があります▼〔式中、Ｒは炭素数３〜８の炭化水素
基であるで示される化合物である非鉄金属用腐蝕抑制剤
から成ることを特徴とする腐蝕抑制用組成物。 ２５、炭化水素基の炭素数が４〜６である前記第２４項
記載の組成物。 ２６、炭化水素基がブチルである前記第２５項記載の組
成物。 ２７、非鉄金属用腐蝕抑制剤が４−または５−ブチルベ
ンゾトリアゾールである前記第２６項記載の組成物。 ２８、非鉄金属が銅または銅含有金属である前記第２７
項記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US62465384A | 1984-06-26 | 1984-06-26 | |
| US624653 | 1984-06-26 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6156288A true JPS6156288A (ja) | 1986-03-20 |
Family
ID=24502806
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60141459A Pending JPS6156288A (ja) | 1984-06-26 | 1985-06-26 | 銅腐蝕抑制剤およびその水処理系における使用 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0173427A3 (ja) |
| JP (1) | JPS6156288A (ja) |
| KR (1) | KR920002412B1 (ja) |
| AU (1) | AU582750B2 (ja) |
| IN (1) | IN164301B (ja) |
| NZ (1) | NZ212126A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02305983A (ja) * | 1989-05-08 | 1990-12-19 | Calgon Corp | 銅および銅合金の新規な腐食抑制剤 |
| JPWO2005038853A1 (ja) * | 2003-10-17 | 2007-11-22 | 株式会社東芝 | Ｘ線装置 |
| KR20150103145A (ko) * | 2012-12-28 | 2015-09-09 | 에코랍 유에스에이 인코퍼레이티드 | 비-인 기반 첨가제를 사용한 부식 및 파울링 저감 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4744950A (en) * | 1984-06-26 | 1988-05-17 | Betz Laboratories, Inc. | Method of inhibiting the corrosion of copper in aqueous mediums |
| WO1990010732A1 (en) * | 1989-03-09 | 1990-09-20 | Ici Australia Operations Proprietary Limited | Benzotriazole based corrosion inhibiting compositions |
| US5219523A (en) * | 1989-05-08 | 1993-06-15 | Calgon Corporation | Copper and copper alloy corrosion inhibitors |
| NZ233492A (en) * | 1989-05-08 | 1992-08-26 | Calgon Corp | Corrosion inhibitors containing alkylbenzotriazoles |
| US5746947A (en) * | 1990-06-20 | 1998-05-05 | Calgon Corporation | Alkylbenzotriazole compositions and the use thereof as copper and copper alloy corrosion inhibitors |
| US5156769A (en) * | 1990-06-20 | 1992-10-20 | Calgon Corporation | Phenyl mercaptotetrazole/tolyltriazole corrosion inhibiting compositions |
| US5141675A (en) * | 1990-10-15 | 1992-08-25 | Calgon Corporation | Novel polyphosphate/azole compositions and the use thereof as copper and copper alloy corrosion inhibitors |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1950676A1 (de) * | 1969-10-08 | 1971-04-22 | Bayer Ag | Kavitationsinhibitoren |
| GB1347008A (en) * | 1970-11-13 | 1974-02-13 | Ciba Geigy Uk Ltd | Detergent compositions |
| GB2075483A (en) * | 1980-03-12 | 1981-11-18 | Ici Ltd | Corrosion inhibitors and compositions containing them |
| CA1159246A (en) * | 1980-07-21 | 1983-12-27 | Edwin J. Latos | Corrosion inhibitors |
| ATE15066T1 (de) * | 1981-06-25 | 1985-09-15 | Ashland Oil Inc | Verfahren zum verhindern des auslaugens von kobalt und nickel aus metalloberflaechen und ein in diesem verfahren verwendetes konzentrat. |
| DE3376651D1 (en) * | 1982-02-26 | 1988-06-23 | Ciba Geigy Ag | Mixtures of benzotriazoles, process for their preparation and their use as metal passivators |
-
1985
- 1985-05-20 NZ NZ212126A patent/NZ212126A/en unknown
- 1985-05-31 AU AU43193/85A patent/AU582750B2/en not_active Ceased
- 1985-06-24 EP EP85304467A patent/EP0173427A3/en not_active Withdrawn
- 1985-06-26 JP JP60141459A patent/JPS6156288A/ja active Pending
- 1985-06-26 KR KR1019850004534A patent/KR920002412B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1985-06-28 IN IN485/CAL/85A patent/IN164301B/en unknown
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02305983A (ja) * | 1989-05-08 | 1990-12-19 | Calgon Corp | 銅および銅合金の新規な腐食抑制剤 |
| JPWO2005038853A1 (ja) * | 2003-10-17 | 2007-11-22 | 株式会社東芝 | Ｘ線装置 |
| JP4828941B2 (ja) * | 2003-10-17 | 2011-11-30 | 株式会社東芝 | Ｘ線装置 |
| KR20150103145A (ko) * | 2012-12-28 | 2015-09-09 | 에코랍 유에스에이 인코퍼레이티드 | 비-인 기반 첨가제를 사용한 부식 및 파울링 저감 |
| JP2016511790A (ja) * | 2012-12-28 | 2016-04-21 | エコラブ ユーエスエイ インク | 非リン系添加剤を使用する腐食および汚染の軽減 |
| US9828269B2 (en) | 2012-12-28 | 2017-11-28 | Ecolab Usa Inc. | Corrosion and fouling mitigation using non-phosphorus based additives |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IN164301B (ja) | 1989-02-11 |
| KR920002412B1 (ko) | 1992-03-23 |
| KR860000416A (ko) | 1986-01-28 |
| EP0173427A3 (en) | 1986-09-17 |
| AU4319385A (en) | 1986-01-02 |
| NZ212126A (en) | 1988-05-30 |
| AU582750B2 (en) | 1989-04-13 |
| EP0173427A2 (en) | 1986-03-05 |
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