JPS6154225B2 - - Google Patents

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Publication number
JPS6154225B2
JPS6154225B2 JP7811880A JP7811880A JPS6154225B2 JP S6154225 B2 JPS6154225 B2 JP S6154225B2 JP 7811880 A JP7811880 A JP 7811880A JP 7811880 A JP7811880 A JP 7811880A JP S6154225 B2 JPS6154225 B2 JP S6154225B2
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JP
Japan
Prior art keywords
silicone
layer
solvent
protective layer
substrate
Prior art date
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Application number
JP7811880A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS574049A (en
Inventor
Hiroyuki Obata
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication of JPS574049A publication Critical patent/JPS574049A/en
Publication of JPS6154225B2 publication Critical patent/JPS6154225B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/075Silicon-containing compounds
    • G03F7/0752Silicon-containing compounds in non photosensitive layers or as additives, e.g. for dry lithography

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、湿し水を必要としない平版印刷用刷
版の製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for producing a lithographic printing plate that does not require dampening water.

平版印刷においては、凸版または凹版のように
版面に明瞭な高低がなく、外見上同じ平面上に画
線部と非画線部とを設けた版が使用されるが、こ
の印刷法はつぎの工程で行われる。すなわち、こ
れにはまず水と脂肪とが互に反撥することから、
前記非画線部を化学的あるいは機械的処理によつ
て親水性にすると共に、前記画線部を脂肪性樹脂
の転写または写真焼付けなどによつて親油性と
し、ついでこの版面に水を転移させて水を親水性
である非画線部のみに付着させてから、さらにこ
の版面にインキを転移する。このようにすると、
このインキは水が存在している非画線部には付着
せずに親油性である画線部にのみ付着するので、
つぎにこれを被印刷物に転移させて目的の印刷物
を得るという工程によつて行われている。
In lithographic printing, a plate is used that does not have clear heights on the plate surface like letterpress or intaglio, and has a printed area and a non-printed area on the same plane in appearance.This printing method involves the following process. It will be held in In other words, first of all, water and fat repel each other,
The non-image area is made hydrophilic by chemical or mechanical treatment, and the image area is made lipophilic by transfer of a fatty resin or photographic printing, and then water is transferred to the printing plate. After that, water is applied only to the hydrophilic non-image areas, and then ink is further transferred to this plate surface. In this way,
This ink does not adhere to the non-print areas where water is present, but only to the lipophilic print areas, so
This is then transferred to a substrate to obtain the desired printed material.

しかし、この平版印刷法には、たとえば上記し
た湿し水のインキローラーへの転移がインキロー
ラー上でのインキの乳化を引き起すため、これが
地よごれなどの原因となるほか、この湿し水の被
印刷物への転移は、被印刷物の寸法変化の原因と
もなるので、特に多色刷り印刷においては印刷画
像が不鮮明になるという大きな欠点がある。ま
た、この平版印刷法においては、色調の一定な印
刷物を得るために湿し水の量とインキの量とを一
定のつり合いに保つことが必要とされるが、この
両者の量を一定のつり合いに保つことは非常に困
難であり、したがつて印刷物の色調にばらつきが
生じるという欠点があつた。
However, in this lithographic printing method, for example, the transfer of the dampening water to the ink roller causes the ink to emulsify on the ink roller, which causes stains, and also The transfer to the printing material also causes a change in the dimensions of the printing material, so there is a major drawback that the printed image becomes unclear, especially in multicolor printing. In addition, in this lithographic printing method, it is necessary to maintain a constant balance between the amount of dampening water and the amount of ink in order to obtain printed matter with a constant color tone. It is very difficult to maintain the same color, and this has the disadvantage of causing variations in the color tone of printed matter.

このため、上記した不利を改良する目的におい
て、湿し水を必要としない平版印刷版の開発が試
みられているが、現在までに知られているものは
いずれもいまだ実用に耐える充分満足すべき性質
を示すには至つていない。
For this reason, attempts have been made to develop lithographic printing plates that do not require dampening water in order to improve the above-mentioned disadvantages, but none of the plates known to date are still sufficiently satisfactory for practical use. It has not yet been possible to demonstrate its properties.

たとえば、アルミニウム板などの基板上に、ジ
アゾ型感光性組成物よりなるジアゾ感光層とジメ
チルポリシロキサンゴム層とを形成させ、ついで
この上にさらにポジフイルムを重ね合せてから露
光することによつて露光部分のジアゾ感光層を不
溶化させ、非露光部分のジアゾ感光層を現像処理
により除去し、ついで非露光部分のジメチルポリ
シロキサンゴム層を剥ぎ取るという方法(特公昭
44−23042号公報参照)、あるいはアルミニウム板
などの基板上に、ジアゾ感光層と接着剤層とシリ
コーンゴム層を順次形成させ、ついでこの上にネ
ガフイルムを重ね合せてから露光し、露光部分に
おける感光層の光分解を利用して現像し、ついで
露光部分のシリコーンゴム層を剥ぎ取るという方
法で平版印刷用刷版を得る方法(特公昭46−
16044号公報参照)が公知とされている。しか
し、これらの方法はいずれもジアゾ感光層とポジ
またはネガフイルムとの間に非感光性のシリコー
ンゴムが存在するため、これにはポジまたはネガ
フイルムに現わされているパターンが正確に再現
されず、またシリコーン層と感光層の接着が充分
でなく、現像および印刷中にシリコーンが欠落し
やすいという重大な欠点がある。
For example, a diazo photosensitive layer made of a diazo type photosensitive composition and a dimethylpolysiloxane rubber layer are formed on a substrate such as an aluminum plate, and then a positive film is further laminated thereon and then exposed. A method of insolubilizing the diazo photosensitive layer in the exposed areas, removing the diazo photosensitive layer in the non-exposed areas by development treatment, and then peeling off the dimethylpolysiloxane rubber layer in the non-exposed areas (Tokuko Sho)
44-23042), or on a substrate such as an aluminum plate, a diazo photosensitive layer, an adhesive layer, and a silicone rubber layer are sequentially formed, and then a negative film is superimposed on this layer and then exposed to light. A method of obtaining a lithographic printing plate by developing the photosensitive layer using photodecomposition and then peeling off the silicone rubber layer in the exposed area (Japanese Patent Publication No. 1973-
16044) is known. However, in all of these methods, a non-photosensitive silicone rubber exists between the diazo photosensitive layer and the positive or negative film, so it is difficult to accurately reproduce the pattern appearing on the positive or negative film. Furthermore, there is a serious drawback that the adhesion between the silicone layer and the photosensitive layer is insufficient, and the silicone is easily lost during development and printing.

以上の点を改良したものとして従来のPS版か
ら作製した平版を用いて乾式平版化する方法(特
公昭44−23042号および特公昭47−32906号参照)
が知られているが、これはシリコーン塗膜を形成
する方法として溶液またはエマルジヨンを用いて
コーテイングするという手段を採用しているの
で、実際上コーターが新たに必要であること、ま
たシリコーン溶液に触媒を添加しておくと経時的
にゲル化が進むため、コーテイング直前に触媒を
添加するという繁雑な方式を取る必要が生じるこ
と、さらに触媒を使用しない一液型シリコーンを
用いた場合には、経時的には二液タイプのものよ
り安定であるが、シリコーンの硬化に長時間を要
するため製版サイクルが長くなるなどの製造上の
欠点がある。
As an improvement on the above points, there is a method of dry lithography using a lithographic plate made from a conventional PS plate (see Japanese Patent Publication No. 44-23042 and Japanese Patent Publication No. 47-32906).
is known, but since this method employs coating using a solution or emulsion as a method of forming a silicone coating film, it actually requires a new coater, and it also requires a catalyst in the silicone solution. If a one-component silicone that does not use a catalyst is used, gelation will progress over time, making it necessary to add a catalyst just before coating. Although it is more stable than the two-component type, it has manufacturing disadvantages such as a longer plate-making cycle because it takes a long time for the silicone to harden.

また、この方式では二液または一液タイプのシ
リコーンを塗布後、十分硬化するまでの間、未硬
化のシリコーンは表面が軟かく粘着性を有するた
め、ゴミ等が付着しやすくその様なゴミまたはゴ
ミの付着した跡にできる凹凸はシリコーンが硬化
した後、インキ受容性となり、地汚れ、ピンホー
ルの原因となるという重大な欠点を有する。
In addition, with this method, after applying the two-component or one-component type silicone, until it is sufficiently cured, the surface of the uncured silicone is soft and sticky, so it is easy for dust to adhere to it. After the silicone hardens, the unevenness formed by the dirt residue becomes ink receptive, which has the serious disadvantage of causing background smudges and pinholes.

他方、基板上に感光性シリコーン層を設けその
上から透過原稿を密着焼付けして乾式平版印刷版
を得る方法(特公昭52−38763号参照)が知られ
ているが、これはシリコーン層がインキ反撥性、
解像性、耐刷性の各条件を同時に満足する必要が
あり、感光性シリコーン自体の設計が難かしい。
On the other hand, a method is known in which a dry lithographic printing plate is obtained by forming a photosensitive silicone layer on a substrate and then contact-printing a transparent original thereon (see Japanese Patent Publication No. 52-38763). repellency,
It is difficult to design the photosensitive silicone itself because it is necessary to simultaneously satisfy the conditions of resolution and printing durability.

本発明者らは、かかる欠点を解決すべく、平版
印刷用刷版に関して鋭意研究した結果、経時的に
も安定でシリコーン層を簡易に形成することがで
き、かつ使用するシリコーンの設計および選択を
容易に行える平版印刷用刷版の製造方法に関する
発明を完成した。
In order to solve these drawbacks, the present inventors have conducted extensive research on printing plates for lithographic printing, and have found that they are stable over time, can easily form a silicone layer, and are capable of designing and selecting the silicone to be used. We have completed an invention related to an easy method for manufacturing printing plates for lithographic printing.

すなわち、本発明は基板上に耐溶剤性の画線と
その画線上に溶剤に可溶性ないしは膨潤性の保護
層とを形成し、ついで該保護層を含む面に、あら
かじめ支持体上に塗布形成した未硬化状態の光硬
化型以外の硬化型シリコーン樹脂層の面を圧着し
た後、該シリコーン層を硬化させ、ついで支持体
を剥離し、さらに溶剤で保護層を溶解ないしは膨
潤させた後、その保護層および保護層上のシリコ
ーン層を除去することにより、基板上に耐溶剤性
の画線部と硬化シリコーン層からなる非画線部と
を形成することおよび上記方法において圧着直前
に硬化剤を未硬化シリコーン樹脂層に付着浸透さ
せることを特徴とするものである。
That is, the present invention forms a solvent-resistant image on a substrate and a solvent-soluble or swellable protective layer on the image, and then coats the surface containing the protective layer on a support in advance. After pressing the surface of an uncured curable silicone resin layer other than a photocurable type, the silicone layer is cured, the support is peeled off, and the protective layer is dissolved or swollen with a solvent, and then the protective layer is cured. By removing the silicone layer on the layer and the protective layer, a solvent-resistant image area and a non-image area consisting of a cured silicone layer are formed on the substrate, and in the above method, the curing agent is not applied immediately before crimping. It is characterized by adhesion and penetration into the cured silicone resin layer.

以下、本発明を詳細に説明する。 The present invention will be explained in detail below.

まず、本発明の構成を図面に基づいて説明する
と、第1図aに示すように基板1の一方の面に溶
剤に可溶性ないし膨潤性物質よりなる保護層3を
有する耐溶剤性の画線2を形成する。このような
画線を形成する方法としては、耐溶剤性物質と溶
剤に可溶性もしくは膨潤性の物質との複層物質を
パターン化する方法であればよく、たとえばネガ
PS版、ワイプオン板、フオトレジストを所定の
方法で刷版し、そのままあるいはさらにバーニン
グして耐溶剤性画線とし、ついでこの耐溶剤性画
線をコロナ帯電させ、溶剤に可溶性ないしは膨潤
性の樹脂粉末を静電的に付着させ熱定着して保護
層としてもよく、またはエマルジヨンインキによ
るラツカー盛りあるいは湿し水を使つたインキ盛
りによつて保護層を形成してもよい。
First, the structure of the present invention will be explained based on the drawings. As shown in FIG. form. As a method for forming such lines, any method may be used as long as it is a method of patterning a multilayer material of a solvent-resistant material and a solvent-soluble or swellable material.
A PS plate, wipe-on plate, or photoresist is printed using a predetermined method, and then burned as is or further burnt to form a solvent-resistant image.The solvent-resistant image is then corona-charged to form a solvent-soluble or swellable resin. The protective layer may be formed by electrostatically adhering the powder and fixing it by heat, or it may be formed by lacquering with emulsion ink or inking using dampening water.

さらには、第1図bに示すように、たとえば金
属の基板1上に溶剤に可溶性ないしは膨潤性とな
るフオトレジスト等でパターンを形成し、これを
保護層3とし、ついでエツチングして金属基板の
一部を耐溶剤性の画線2′としてもよい。
Furthermore, as shown in FIG. 1b, a pattern is formed on a metal substrate 1 using a photoresist that is soluble or swellable in a solvent, this is used as a protective layer 3, and then etched to form a pattern on the metal substrate 1. A part of the print line 2' may be made solvent-resistant.

基板1の材質は耐溶剤性のものであればよく、
たとえばアルミニウム、鉄、銅、亜鉛、ステンレ
スなどの金属、またはそれらの積層板、およびポ
リエステル、ポリプロピレンなどのプラスチツク
フイルムが好適とされる。これらは溶剤に耐える
ほか印刷用基板に要求される伸びの少ない寸法安
定性および平滑性にすぐれたものがよい。
The material of the substrate 1 only needs to be solvent-resistant.
For example, metals such as aluminum, iron, copper, zinc, and stainless steel, or laminates thereof, and plastic films such as polyester and polypropylene are preferred. These should not only be resistant to solvents but also have excellent dimensional stability and smoothness with little elongation, which are required for printing substrates.

つぎに、上記のようにして画線を形成した面
に、第2図に示すようにして、あらかじめ支持体
5上に塗布形成した未硬化のシリコーン層4の面
を圧着(ラミネート)する。この圧着は未硬化の
シリコーン層が基板1の非画線部分のすべてに気
泡等が含まれることなく完全に密着するように充
分な圧力でラミネートする必要があり、このラミ
ネートの方法としては基板の画線部が形成されて
いる面に、未硬化のシリコーン層の面を貼合せ上
からロールで圧着するという方法によつてもよい
が、より能率的に行なうには貼合せロール、ある
いはカレンダーロールを使用するのが有利であ
る。
Next, as shown in FIG. 2, the surface of the uncured silicone layer 4 previously coated on the support 5 is pressure-bonded (laminated) onto the surface on which the image line has been formed as described above. This pressure bonding requires laminating with sufficient pressure so that the uncured silicone layer completely adheres to all the non-image areas of the substrate 1 without containing any air bubbles. You can also use a method of laminating the surface of the uncured silicone layer to the surface on which the image area is formed and pressing it with a roll from above, but a more efficient method is to use a laminating roll or a calendar roll. It is advantageous to use

シリコーン樹脂は、支持体5に塗布する前に、
硬化剤が必要な場合、あらかじめこれを添加して
おくか、または硬化剤を添加せずに支持体5の上
に塗布し、乾燥させ、圧着前に硬化剤を該シリコ
ーン層に付着浸透させる方法のいずれかを採れば
よい。硬化剤をシリコーン層に付着浸透させるに
は、シリコーン中に硬化剤が浸透するならいずれ
の方法でも良いが効果的に行なうには、硬化剤を
そのままで、あるいは適等な溶剤で希釈してシリ
コーン面に噴霧すればよく、この方法の利点はシ
リコーン層の基板側から触媒を浸透させるため、
硬化後のシリコーン層と基板の接着が向上するこ
とである。
Before applying the silicone resin to the support 5,
If a curing agent is required, it can be added in advance, or it can be applied onto the support 5 without adding a curing agent, dried, and the curing agent can be allowed to adhere and penetrate into the silicone layer before pressing. You can choose either one. To adhere and penetrate the hardening agent into the silicone layer, any method can be used as long as the hardening agent penetrates into the silicone, but to do this effectively, apply the hardening agent as it is or dilute it with an appropriate solvent and apply it to the silicone layer. The advantage of this method is that the catalyst penetrates from the substrate side of the silicone layer.
This improves the adhesion between the cured silicone layer and the substrate.

本発明で使用するシリコーン樹脂は硬化後に撥
発性もしくはインキ付着力の低いものであること
が好ましく、光硬化型以外の熱硬化型、室温硬化
型などが用いられる。たとえば、ジメチルシリコ
ーン生ゴム、メチルフエニルシリコーン生ゴム、
メチルフエニルビニルシリコーン生ゴムなどの加
熱加硫型のシリコーンゴム;SiOH、SiOR、
SiH、SiCT=OH2のような反応基をもつシロキサ
ンどうしを触媒で架橋させることによりゴム弾性
体となる2液型常温加硫型のシリコーン;縮合硬
化型で空気中の水分と反応して硬化するシリコー
ンゴムで一液型常温加硫型シリコーンゴムとして
一般に知られるもの;シリコーンワニスなどが使
用できる。
The silicone resin used in the present invention is preferably one having low repellency or ink adhesion after curing, and a thermosetting type other than a photocuring type, a room temperature curing type, etc. are used. For example, dimethyl silicone raw rubber, methylphenyl silicone raw rubber,
Heat-curable silicone rubber such as methylphenyl vinyl silicone raw rubber; SiOH, SiOR,
A two-component cold-curable silicone that becomes a rubber elastic body by crosslinking siloxanes with reactive groups such as SiH and SiCT=OH 2 with a catalyst; a condensation curing type that cures by reacting with moisture in the air. Silicone rubber that is commonly known as one-component room-temperature vulcanizable silicone rubber; silicone varnish, etc. can be used.

加熱硬化型のシリコーンゴムは放射線によつて
も加硫できるが、硬化貼として有機過酸化物、脂
肪酸アゾ化合物、いおうなどが用いられ、もつと
も一般的なのは有機過酸化物を用いる方法であ
る。
Heat-curable silicone rubber can also be vulcanized by radiation, but organic peroxides, fatty acid azo compounds, sulfur, etc. are used as curing adhesives, and the most common method is to use organic peroxides.

二液型常温加硫型の強化剤としては、縮合反応
により常温で加熱硬化するタイプでは有機金属酸
塩、有機アミン、第4級アンモニウムあるいはホ
スホニウム化合物などの酸性、塩基性物質の縮合
触媒を使用する。不飽和基とSiHとの間の付加重
合によつて加硫硬化するタイプではパラジウムや
白金などの触媒を硬化剤として使用する。また、
一液型常温加硫型シリコーンゴムおよびシリコー
ンワニスは硬化剤なしで硬化できる。
As a reinforcing agent for a two-component room temperature vulcanization type, a condensation catalyst of an acidic or basic substance such as an organic metal salt, an organic amine, a quaternary ammonium, or a phosphonium compound is used for a type that heats and cures at room temperature through a condensation reaction. do. Types that cure by vulcanization through addition polymerization between unsaturated groups and SiH use a catalyst such as palladium or platinum as a curing agent. Also,
One-component cold-curable silicone rubber and silicone varnish can be cured without a curing agent.

支持体5の上にシリコーン層4を形成するに
は、シリコーンを必要に応じ適当な溶剤と混合し
て塗布しやすい粘度に調整し、これをはけ塗り、
回転塗布、ロツドコーテイング、ロールコーテイ
ングなどの方法により該支持体5上に塗布し溶剤
を揮散させればよく、この際のシリコーン層の厚
さはおおむね2〜30μmとすればよい。
To form the silicone layer 4 on the support 5, silicone is mixed with an appropriate solvent as necessary to adjust the viscosity to be easy to coat, and this is applied by brushing.
The silicone layer may be coated onto the support 5 by a method such as spin coating, rod coating, or roll coating and the solvent may be evaporated, and the thickness of the silicone layer at this time may be approximately 2 to 30 μm.

なお、上記目的で使用される溶剤としては、メ
チルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなど
のケトン系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン
などの芳香族炭化水素系溶剤、トリクロロエチレ
ン、テトラクロロエチレンなどのハロゲン系炭化
水素系溶剤、イソプロパノール、オクタノールな
どのアルコール系溶剤などが例示される。
Solvents used for the above purpose include ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene, halogen hydrocarbon solvents such as trichlorethylene and tetrachloroethylene, and isopropanol. , alcoholic solvents such as octanol, and the like.

支持体5の材質は、使用するシリコーン樹脂の
硬化温度、反応機構を考慮して選択すれば良く、
硬化後のシリコーン表面が平滑になる様に、支持
体表面も平滑でなければならない。さらにシリコ
ーンを硬化させた後においてはこれが支持体5か
ら容易に剥離されることが要求され、たとえばポ
リエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフイ
ンからなるフイルム、酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、ポリビニルアルコール、ポリメタクリ
レート、ポリアミド、ポリスチレン、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニル酢酸ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリ塩化ビニリデン、ポリフツ化エチレン、
アクリル樹脂、ポリカーボネートなどのフイルム
ないしシートなどが用いられ、さらに金属箔、お
よびそれらの積層物、金属板などを界面活性剤等
により剥離処理して使用してもよい。
The material of the support 5 may be selected in consideration of the curing temperature and reaction mechanism of the silicone resin used.
The support surface must also be smooth so that the silicone surface is smooth after curing. Furthermore, after the silicone is cured, it is required that it be easily peeled off from the support 5, such as films made of polyolefins such as polyethylene and polypropylene, cellulose acetate, cellulose triacetate, polyvinyl alcohol, polymethacrylate, polyamide, etc. Polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl chloride vinyl acetate, polyvinylidene chloride vinyl chloride, polyethylene terephthalate, polyvinylidene chloride, polyethylene fluoride,
Films or sheets made of acrylic resin, polycarbonate, etc. are used, and metal foils, laminates thereof, metal plates, etc. may also be used after being subjected to a peeling treatment with a surfactant or the like.

第2図のようにして圧着が完了すると、未硬化
のシリコーンは画線2および非画線部すなわち基
板1の面に密着する。つぎに、加熱等の処理ある
いは室温放置によりシリコーンを硬化させる。シ
リコーンは硬化と同時に、基板1に固着するよう
になる。この固着をより強固にするためには基板
1の面がプライマー処理されていることが好まし
く、この場合のプライマーとしては、ビニルトリ
ス(2−メトキシエトキシ)シラン、3−グリシ
ドオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタ
クリルオキシプロピルトリメトキシシラン、N−
(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミ
ン、3−アミノプロピルトリエトキシシランなど
の単独またはこれらの混合物、さらにはこれらの
部分加水分解物または部分共加水分解物などが例
示され、これらはたとえば回転塗布、ロツドコー
テイング、はけ塗り、スプレー塗りなどの常用の
方法により塗布を行えばよい。
When the pressure bonding is completed as shown in FIG. 2, the uncured silicone adheres closely to the image line 2 and the non-image area, that is, the surface of the substrate 1. Next, the silicone is cured by treatment such as heating or by being left at room temperature. The silicone becomes fixed to the substrate 1 at the same time as it cures. In order to make this adhesion stronger, it is preferable that the surface of the substrate 1 is treated with a primer. In this case, the primers include vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, N-
Examples include (trimethoxysilylpropyl)ethylenediamine, 3-aminopropyltriethoxysilane, etc. alone or mixtures thereof, as well as partial hydrolysates or cohydrolysates thereof, and these can be coated by spin coating, rod coating, etc. Application may be carried out by conventional methods such as coating, brushing, spraying, etc.

このようにしてシリコンを硬化させたのちに、
第3図に示すように、支持体5を基板1から引き
はがす。この際シリコーンの硬化層は基板1に強
固に接着しており、該引きはがしによつてシリコ
ーン層の硬化層は基板1側に転移する。つぎにシ
リコーン面上に溶剤を注ぎ、シリコーンを通して
溶剤により画線上の保護層を溶解ないしは膨潤さ
せた後、該保護層および該保護層上のシリコーン
を除去する。第4図は保護層3′の溶解ないしは
膨潤により該画線上のシリコーンが盛り上つてい
る状態を示す。この状態では軟かい布、紙、スポ
ンジ、ゴムなどで簡単にシリコーンを剥ぎとるこ
とができる。ここで使用する溶剤は、保護層を溶
解ないしは膨潤するものであればよく、メチルエ
チルケトン(MEK)、アセトン等のケトン系、ト
ルエン、キシレン等の芳香族系、またはそれらの
混合溶剤が使用される。
After curing the silicone in this way,
As shown in FIG. 3, the support 5 is peeled off from the substrate 1. At this time, the cured silicone layer is firmly adhered to the substrate 1, and the peeling transfers the cured silicone layer to the substrate 1 side. Next, a solvent is poured onto the silicone surface, and the protective layer on the image is dissolved or swollen by the solvent through the silicone, and then the protective layer and the silicone on the protective layer are removed. FIG. 4 shows a state where the silicone on the image line is raised due to dissolution or swelling of the protective layer 3'. In this state, the silicone can be easily removed with a soft cloth, paper, sponge, rubber, etc. The solvent used here may be any solvent as long as it dissolves or swells the protective layer, and ketone-based solvents such as methyl ethyl ketone (MEK) and acetone, aromatic solvents such as toluene and xylene, or mixed solvents thereof are used.

第5図は上記の方法により得た平版印刷版を示
し、基板の露出した部分が画線部となる。
FIG. 5 shows a lithographic printing plate obtained by the above method, and the exposed portion of the substrate becomes the image area.

第6図は画線部にインキ6を付着させた様子を
示す。
FIG. 6 shows how ink 6 is applied to the image area.

以上の説明で明らかなように、本発明はあらか
じめ支持体に塗布されたシリコーン層を基板とラ
ミネートし、硬化、転写するため、基板に硬化シ
リコーン層を形成する工程では、シリコーンのコ
ーテイングに伴なう溶液管理、廃溶剤等の管理が
不要となるばかりでなく、シリコーン塗膜の硬化
反応中、塗膜表面が支持体で保護されているため
ゴム付き等が防止され良好な塗膜表面が得られる
というすぐれた利点を有する。
As is clear from the above description, in the present invention, a silicone layer coated on a support in advance is laminated with a substrate, cured, and transferred. Not only does it eliminate the need to manage cleaning solutions and waste solvents, but the coating surface is protected by a support during the curing reaction of the silicone coating, which prevents rubber adhesion and provides a good coating surface. It has the excellent advantage of being able to

さらに硬化剤を圧着直前に付着、浸透させる方
法においては圧着前のシリコーン層には硬化剤が
含まれないため経時的に安定なシリコーン層を形
成できると同時に、支持体上に塗布された状態で
シリコーンを保管することも可能となるというす
ぐれた利点を有する。
Furthermore, in the method in which a hardening agent is applied and permeated immediately before pressure bonding, the silicone layer before pressure bonding does not contain a hardening agent, so it is possible to form a silicone layer that is stable over time, and at the same time, it is possible to form a silicone layer that is stable over time. It also has the great advantage of being able to store silicone.

さらに、ネガタイプPS版のような耐溶剤性画
線からも湿し水不要な平版印刷版が容易に作れる
というすぐれた利点をもつため主にネガ原稿を使
用する活版印刷部門で本印刷版を使つた直刷り印
刷を行うことが容易になつたのである。
Furthermore, it has the excellent advantage of being able to easily create planographic printing plates that do not require dampening water even from solvent-resistant images such as negative type PS plates, so this printing plate can be used in letterpress printing departments that mainly use negative manuscripts. This made it easier to perform direct printing.

つぎに本発明の実施例をあげる。 Next, examples of the present invention will be given.

実施例 1 信越化学工業製の剥離紙用縮合タイプシリコー
ンゴムKS705Fを触媒を加えずに厚さ12μmのポ
リプロピレンフイルム上に乾燥塗膜が15μmにな
るように塗布した。
Example 1 A condensation type silicone rubber KS705F for release paper manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was coated on a polypropylene film having a thickness of 12 μm without adding a catalyst so that the dry coating film was 15 μm.

一方アルミ板上にネガタイプのジアゾ感光層を
有するプレセンシタイズド版SGN(富士写真フ
イルム工業製商品名)を刷版して耐溶剤性画線を
形成し、この画線をコロナ放電により帯電させ、
溶剤可溶性樹脂粉末を静電的に付着させ、さらに
熱定着して保護層とした。
On the other hand, a presensitized plate SGN (product name manufactured by Fuji Photo Film Industries) having a negative type diazo photosensitive layer on an aluminum plate is printed to form a solvent-resistant image, and this image is charged by corona discharge. ,
Solvent-soluble resin powder was electrostatically adhered and further heat-fixed to form a protective layer.

さらにプライマーとしてKBP41(信越化学工
業製商品名)を乾燥塗膜が0.5μmになるように
塗布乾燥した。
Further, KBP41 (trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a primer was applied and dried so that the dry coating film was 0.5 μm.

次に上記塗膜を設けたポリプロピレンフイルム
の塗膜面にMEKで5倍に希釈した触媒(信越化
学製cat、PS)を噴霧しシリコーン層に触媒を付
着・含浸させ、前記アルミ板の画線を有する面に
この塗膜面が合うように加圧ラミネートした。こ
のように加圧ラミネートしたものを100℃に加熱
しシリコーンを硬化させた後、アルミ板とポリプ
ロピレンフイルムとを剥離したところ、アルミ板
上へ硬化したシリコーンゴムが転移しアルミ板と
接着していた。
Next, a catalyst (Cat, PS, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) diluted five times with MEK is sprayed onto the coating surface of the polypropylene film provided with the above coating film to adhere and impregnate the silicone layer with the catalyst. The coating was laminated under pressure so that the surface of the coating was aligned with the surface of the substrate. After heating the pressure laminated product to 100℃ to cure the silicone, the aluminum plate and polypropylene film were peeled off, and the cured silicone rubber was transferred onto the aluminum plate and adhered to the aluminum plate. .

つぎに、このアルミ板表面にMEKを充分にひ
たし、保護層を溶解させた後、軟かな布で軽くシ
リコーン表面をこすつて画線上の保護層、シリコ
ーン層を除去した。このアルミ板を平板印刷版と
してA.B.デイツク印刷機を使用し湿し水を供給
せずに印刷したところ10000枚の鮮明な印刷物を
得た。
Next, the surface of this aluminum plate was sufficiently soaked with MEK to dissolve the protective layer, and then the silicone surface was lightly rubbed with a soft cloth to remove the protective layer and silicone layer on the image lines. When this aluminum plate was used as a lithographic printing plate and printed using an AB Dick printing machine without supplying dampening water, 10,000 clear prints were obtained.

実施例 2 信越化学工業製の剥離紙付加タイプシリコーン
ゴムKS774を触媒を添加せずに厚さ12μmのポリ
プロピレンフイルム上に乾燥塗膜が15μmになる
ように塗布した。
Example 2 Release paper added type silicone rubber KS774 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. was coated on a polypropylene film having a thickness of 12 μm without adding a catalyst so that the dry coating film was 15 μm.

一方表面を通常の方法で清浄にした厚さ0.5mm
の樹脂裏打ち亜鉛板表面にポジタイプフオトレジ
ストAZ−111(シツプレー社製(米国))を乾燥
塗膜1μmなるように塗布し乾燥後透明ポジ原稿
を密着、露光し現像し保護層とした。次いで比重
1.38の硝酸を10倍に水で希釈した希硝酸で上記亜
鉛板を4分間ひたし、約20μエツチングして保護
層の下に画線部を形成した。
On the other hand, the surface is cleaned in the usual way and has a thickness of 0.5 mm.
A positive type photoresist AZ-111 (manufactured by Shippray Co., USA) was applied to the surface of the resin-backed zinc plate to a dry film thickness of 1 .mu.m, and after drying, a transparent positive original was attached, exposed, and developed to form a protective layer. Then specific gravity
The zinc plate was soaked for 4 minutes in diluted nitric acid (1.38% nitric acid diluted 10 times with water) and etched by about 20 μm to form an image area under the protective layer.

この亜鉛板を水洗乾燥した後プライマーとして γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン
50重量部 チタンテトラプトキシド 50重量部 を乾燥塗膜が厚さ0.5μm程度になるように塗布
し乾燥した。
After washing and drying this zinc plate, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane was used as a primer.
50 parts by weight of titanium tetraptoxide was applied so that the dry coating film had a thickness of about 0.5 μm and dried.

次に前記塗膜を設けたポリプロピレンフイルム
の塗膜面にMEKで5倍に希釈した触媒(信越化
学製PL−3)を噴霧したシリコーン層に触媒を
付着・含浸させ前記亜鉛板の画線を有する面にこ
の塗膜面が合うように加圧ラミネートしたものを
100℃に加熱しシリコーンを硬化させた後アルミ
板とポリプロピレンフイルムとを剥離したところ
亜鉛板上へ硬化したシリコーンゴムが転移し亜鉛
板と接着していた。
Next, a catalyst diluted 5 times with MEK (PL-3 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was sprayed on the coating surface of the polypropylene film on which the coating film was provided, and the catalyst was attached and impregnated with the silicone layer to form the lines on the zinc plate. Pressure laminated so that this coating surface matches the surface with
After heating to 100°C to cure the silicone, the aluminum plate and polypropylene film were peeled off, and the cured silicone rubber was transferred onto the zinc plate and adhered to the zinc plate.

つぎにこの亜鉛板にMEKを充充分にひたし保
護層を溶解させた後、軟かな布で軽くシリコーン
表面をこすつて画線上の保護層、シリコーン層を
除去した。
Next, the zinc plate was thoroughly soaked with MEK to dissolve the protective layer, and then the silicone surface was lightly rubbed with a soft cloth to remove the protective layer and silicone layer on the image.

この亜鉛板を使用し、活版枚葉印刷機(東京機
械製作所製)で印刷を行なつたところ10000枚の
鮮明な印刷物が得られた。
When this zinc plate was used to print on a sheet-fed letterpress printing machine (manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho), 10,000 clear prints were obtained.

実施例 3 KE77(信越化学工業製商品名、シリコーンゴ
ム) 100重量部 KF99(信越化学工業製商品名、シリコーンオ
イル) 100重量部 PL−3(信越化学工業製商品名、触媒)
100重量部 上記組成物をポリプロピレンフイルム上に乾燥
塗膜が15μmになるように塗布した。このものは
25℃で1日間放置しても硬化しなかつた。
Example 3 KE77 (trade name manufactured by Shin-Etsu Chemical, silicone rubber) 100 parts by weight KF99 (trade name manufactured by Shin-Etsu Chemical, silicone oil) 100 parts by weight PL-3 (trade name manufactured by Shin-Etsu Chemical, catalyst)
100 parts by weight The above composition was applied onto a polypropylene film so that the dry coating thickness was 15 μm. This thing is
It did not harden even after being left at 25°C for one day.

一方実施例2と同じ工程を経て亜鉛板上に前記
塗膜を設けたポリプロピレンフイルムをその塗膜
面が合うように加圧ラミネートしたもを150℃に
加熱すると30分後にはシリコーンが硬化してい
た。次に亜鉛板とポリプロピレンフイルムを剥離
したところシリコーンゴムが転移し亜鉛板と接着
していた。
On the other hand, when a polypropylene film with the above-mentioned coating film formed on a zinc plate through the same process as in Example 2 was laminated under pressure so that the coating surfaces matched and heated to 150°C, the silicone had hardened after 30 minutes. Ta. Next, when the zinc plate and polypropylene film were peeled off, the silicone rubber had transferred and adhered to the zinc plate.

つぎにこの亜鉛板の表面円MEKに充分にひた
し保護層を溶解させた後、軟かな布で軟くシリコ
ーン表面をこすつて画線上の保護層、シリコーン
層を除去した。この亜鉛板を使用し活版枚葉印刷
機(東京機械製作所製)で印刷を行なつたところ
10000枚の鮮明な印刷物が得られた。
Next, the protective layer was sufficiently dissolved in the MEK surface circle of the zinc plate, and then the protective layer and silicone layer on the image lines were removed by gently rubbing the silicone surface with a soft cloth. This zinc plate was used to print on a letterpress sheet-fed printing machine (manufactured by Tokyo Kikai Seisakusho).
10,000 clear prints were obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図から第4図は、本発明の方法によつて平
版印刷版印刷用刷版を製造する工程を説明する為
の概略断面図を、また、第5図はこれによつて得
られた平版印刷用刷版の概略断面図を、第6図は
本印刷版の画線部にインキを付着させた場合の概
略断面図をそれぞれ例示したものである。 1……基板、2……耐溶剤性画線、3……溶剤
に可溶性ないしは溶剤膨潤性物質からなる保護
層、4……未硬化のシリコーン層、5……支持
体、6……インキ、2′……基板の一部が形成す
る画線、4′……硬化したシリコーン層。
1 to 4 are schematic cross-sectional views for explaining the process of manufacturing a lithographic printing plate by the method of the present invention, and FIG. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a lithographic printing plate, and FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of the main printing plate with ink attached to the image area. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Substrate, 2... Solvent-resistant image, 3... Protective layer made of a solvent-soluble or solvent-swellable substance, 4... Uncured silicone layer, 5... Support, 6... Ink, 2'...An image formed by a part of the substrate, 4'...A cured silicone layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基板上に耐溶剤性の画線とその画線上に溶剤
に可溶性ないしは膨潤性の保護層とを形成し、つ
いで該保護層を含む面に、あらかじめ支持体上に
塗布形成した未硬化状態の光硬化型以外の硬化型
シリコーン樹脂層の面を圧着した後該シリコーン
層を硬化させ、ついで支持体を剥離し、さらに溶
剤で保護層を溶解ないしは膨潤させた後、その保
護層および保護層上のシリコーン層を除去するこ
とにより、基板上に耐溶剤性の画線部と硬化シリ
コーン層からなる非画線部とを形成することを特
徴とする平版印刷用刷版の製造方法。 2 圧着直前に硬化剤を未硬化シリコーン層に付
着浸透させる特許請求の範囲第1項記載の方法。
[Claims] 1. A solvent-resistant image line and a solvent-soluble or swellable protective layer are formed on the image line on a substrate, and then the surface containing the protective layer is coated in advance on a support. After pressing the surface of the formed non-photocurable silicone resin layer in an uncured state, the silicone layer is cured, the support is peeled off, and the protective layer is dissolved or swollen with a solvent. A lithographic printing plate characterized in that a solvent-resistant image area and a non-image area consisting of a cured silicone layer are formed on a substrate by removing a protective layer and a silicone layer on the protective layer. Production method. 2. The method according to claim 1, wherein a curing agent is allowed to adhere to and penetrate into the uncured silicone layer immediately before compression bonding.
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