JPS6153644B2 - - Google Patents
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- JPS6153644B2 JPS6153644B2 JP54067313A JP6731379A JPS6153644B2 JP S6153644 B2 JPS6153644 B2 JP S6153644B2 JP 54067313 A JP54067313 A JP 54067313A JP 6731379 A JP6731379 A JP 6731379A JP S6153644 B2 JPS6153644 B2 JP S6153644B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、磁気記録媒体に記録された磁気目盛
を磁気信号読取りヘツドで読み取つて上記磁気目
盛に対する読取りヘツドの移動量を測定する磁気
スケール装置に関する。
を磁気信号読取りヘツドで読み取つて上記磁気目
盛に対する読取りヘツドの移動量を測定する磁気
スケール装置に関する。
このような磁気スケール装置は、磁気目盛(磁
気格子)が記録形成された磁気記録媒体である磁
気スケールと、この磁気スケールの磁気目盛信号
を検出する磁気スケール信号検出装置とから成
り、この磁気スケール信号検出装置としては、本
件出願人が既に提案した特開昭50−81117号公報
や特願昭53−132810号等のような強磁性合金磁気
抵抗薄膜を用いたものがある。
気格子)が記録形成された磁気記録媒体である磁
気スケールと、この磁気スケールの磁気目盛信号
を検出する磁気スケール信号検出装置とから成
り、この磁気スケール信号検出装置としては、本
件出願人が既に提案した特開昭50−81117号公報
や特願昭53−132810号等のような強磁性合金磁気
抵抗薄膜を用いたものがある。
すなわち、本発明の先行技術である磁気スケー
ル装置について第1図とともに説明すると、まず
磁気目盛(磁気格子)が記録形成された磁気スケ
ール1の磁気格子の固有波長λに対応して、磁気
抵抗の異方性効果を有する複数の強磁性体素片2
を並列配置し(すなわち各素片間隔が上記λとな
る。)、これらの各素片2をそれぞれ電流路3で連
結して成る2個の構成要素4を直列接続して検出
素子単位5を形成する。この検出素子単位5の2
個の構成要素4,4間の間隔はたとえばλ/2と
し、たとえば2相出力(相差λ/4)を得る場合に
は、複数個のこのような検出素子単位5を、たと
えば互いに(n±1/4)・λの間隔をもたせてガラス 基板やシリコン基板等(図示せず)の表面に被着
形成して磁気スケール信号検出素子6を得てい
る。この磁気スケール信号検出素子6の検出素子
単位5,5が被着形成された面を、上記磁気スケ
ール1の磁気格子面7と面対向させ、かつ上記各
素片2の方向、もしくは素片2と所定の角度をな
す方向にバイアス磁場HBを印加している。この
ような磁気スケール装置は、比較的短い格子ピツ
チの信号検出を高い精度で可能にしている。
ル装置について第1図とともに説明すると、まず
磁気目盛(磁気格子)が記録形成された磁気スケ
ール1の磁気格子の固有波長λに対応して、磁気
抵抗の異方性効果を有する複数の強磁性体素片2
を並列配置し(すなわち各素片間隔が上記λとな
る。)、これらの各素片2をそれぞれ電流路3で連
結して成る2個の構成要素4を直列接続して検出
素子単位5を形成する。この検出素子単位5の2
個の構成要素4,4間の間隔はたとえばλ/2と
し、たとえば2相出力(相差λ/4)を得る場合に
は、複数個のこのような検出素子単位5を、たと
えば互いに(n±1/4)・λの間隔をもたせてガラス 基板やシリコン基板等(図示せず)の表面に被着
形成して磁気スケール信号検出素子6を得てい
る。この磁気スケール信号検出素子6の検出素子
単位5,5が被着形成された面を、上記磁気スケ
ール1の磁気格子面7と面対向させ、かつ上記各
素片2の方向、もしくは素片2と所定の角度をな
す方向にバイアス磁場HBを印加している。この
ような磁気スケール装置は、比較的短い格子ピツ
チの信号検出を高い精度で可能にしている。
第2図の磁気スケール装置においては、上記技
術を応用して、磁気格子の電気的分割である内挿
を少なくするために、多相信号出力(この例では
4相出力)を得るような磁気スケール信号検出装
置6′を用いている。すなわち、強磁性体素片2
の間隔λ、および構成要素4の間隔λ/2(これは
一般的には(m±1/2)・λとすればよい。)は上記 第1図の装置と同様であるが、複数の検出素子単
位5,5の間隔を(n±1/8)・λとすることによ り、相差λ/8の4相出力を得ることができる。さ
らに、隣り合う検出素子単位5,5の強磁性体素
片2の配列方向を、互いに逆向きとすることによ
り、外部接続端子8B,8O,8Eのうちの電源
端子8Bおよびアース端子8Eを共通化して、端
子数を低減しおよび検出素子基板の寸法を小さく
している。
術を応用して、磁気格子の電気的分割である内挿
を少なくするために、多相信号出力(この例では
4相出力)を得るような磁気スケール信号検出装
置6′を用いている。すなわち、強磁性体素片2
の間隔λ、および構成要素4の間隔λ/2(これは
一般的には(m±1/2)・λとすればよい。)は上記 第1図の装置と同様であるが、複数の検出素子単
位5,5の間隔を(n±1/8)・λとすることによ り、相差λ/8の4相出力を得ることができる。さ
らに、隣り合う検出素子単位5,5の強磁性体素
片2の配列方向を、互いに逆向きとすることによ
り、外部接続端子8B,8O,8Eのうちの電源
端子8Bおよびアース端子8Eを共通化して、端
子数を低減しおよび検出素子基板の寸法を小さく
している。
ところで、このような従来技術では、磁気スケ
ール信号検出素子6,6′の検出素子単位5が被
着形成された面と磁気スケール1,1′の磁気格
子面7とは、所定の短かい間隔(これをクリアラ
ンスという。)を設けて面対向配置させる必要が
あり、検出感度を上げるためにたとえば上記クリ
アランスは50μm以下としている。このような極
めて短かいクリアランスを保持しながら磁気スケ
ール1,1′に対して磁気スケール信号検出素子
6,6′を相対的に移動させる場合に、検出素子
単位5のパターンが磁気スケール1,1′の磁気
格子面7に接触摺動すると、上記パターンに傷が
ついたり剥れたりするため、磁気格子面7や上記
相対移動のための機械的構成部分には極めて高い
精度が要求されることになり、磁気スケール装置
の製造困難性の増大、あるいは価格の上昇等の欠
点が避けられない。また、磁気スケール1,1′
の磁気格子面7としては、平坦な平面形状のもの
にせざるを得ない制約が生じ、この制約は磁気ス
ケール装置の構造上の自由度を狭め、したがつて
機能、性能および用途等の製品のバリエーシヨン
を狭くしている。
ール信号検出素子6,6′の検出素子単位5が被
着形成された面と磁気スケール1,1′の磁気格
子面7とは、所定の短かい間隔(これをクリアラ
ンスという。)を設けて面対向配置させる必要が
あり、検出感度を上げるためにたとえば上記クリ
アランスは50μm以下としている。このような極
めて短かいクリアランスを保持しながら磁気スケ
ール1,1′に対して磁気スケール信号検出素子
6,6′を相対的に移動させる場合に、検出素子
単位5のパターンが磁気スケール1,1′の磁気
格子面7に接触摺動すると、上記パターンに傷が
ついたり剥れたりするため、磁気格子面7や上記
相対移動のための機械的構成部分には極めて高い
精度が要求されることになり、磁気スケール装置
の製造困難性の増大、あるいは価格の上昇等の欠
点が避けられない。また、磁気スケール1,1′
の磁気格子面7としては、平坦な平面形状のもの
にせざるを得ない制約が生じ、この制約は磁気ス
ケール装置の構造上の自由度を狭め、したがつて
機能、性能および用途等の製品のバリエーシヨン
を狭くしている。
本発明は、このような従来の欠点を除去すべく
なされたものであり、磁気スケール信号検出素子
を多重空隙磁気ヨークに接着固定し、この多重空
隙磁気ヨークと磁気スケールとを関連づけて相対
移動させることにより、磁気スケール信号検出素
子の検出素子単位のパターンの保護を完全なもの
とし、しかも磁気スケール形状の多様化を可能と
し、製品の機能、性能、用途等のバリエーシヨン
を広げることを目的としている。
なされたものであり、磁気スケール信号検出素子
を多重空隙磁気ヨークに接着固定し、この多重空
隙磁気ヨークと磁気スケールとを関連づけて相対
移動させることにより、磁気スケール信号検出素
子の検出素子単位のパターンの保護を完全なもの
とし、しかも磁気スケール形状の多様化を可能と
し、製品の機能、性能、用途等のバリエーシヨン
を広げることを目的としている。
以下、本発明に係る磁気スケール装置の好まし
い実施例について、図面を参照しながら説明す
る。
い実施例について、図面を参照しながら説明す
る。
まず、本発明の基本的な動作原理を第3図ない
し第7図に示す第1の実施例の要部とともに説明
する。これら第3図ないし第7図において、磁気
スケール11には固有波長λの磁気格子(磁気目
盛)が記録形成されており、この磁気スケール1
1の磁気格子面12には多重空隙磁気ヨーク13
が移動自在に対接配置されている。多重空隙磁気
ヨーク13は、高透磁率部分14と、空隙とほぼ
等価な低透磁率の部分(これを等価空隙部分とい
う。)15とを、上記磁気格子に対応して交互に
λ/2周期で配列して形成している。これは、たと
えば、高透磁率の磁性材と低透磁率の非磁性材と
を上記磁気格子パターンに沿つて交互に積層して
形成すればよい。
し第7図に示す第1の実施例の要部とともに説明
する。これら第3図ないし第7図において、磁気
スケール11には固有波長λの磁気格子(磁気目
盛)が記録形成されており、この磁気スケール1
1の磁気格子面12には多重空隙磁気ヨーク13
が移動自在に対接配置されている。多重空隙磁気
ヨーク13は、高透磁率部分14と、空隙とほぼ
等価な低透磁率の部分(これを等価空隙部分とい
う。)15とを、上記磁気格子に対応して交互に
λ/2周期で配列して形成している。これは、たと
えば、高透磁率の磁性材と低透磁率の非磁性材と
を上記磁気格子パターンに沿つて交互に積層して
形成すればよい。
第3図においては、多重空隙磁気ヨーク13の
図中上面16の漏洩磁界Hsが最も強くなるよう
な磁気ヨーク13と磁気スケール11との位置関
係を示し、磁束の流れを図中の矢印で表わしてい
る。実際には、磁気ヨーク13の等価空隙部分1
5での短絡磁束、および磁気ヨーク13と対接す
る磁気格子面12とは反対側の磁気スケール11
の表面(図中下面)での漏洩磁界が存在するわけ
であるが、説明を簡略化するため図示していな
い。ここで、磁気ヨーク13の所定の等価空隙部
分15上の中心点Pにおける磁界の強さをHsと
する。
図中上面16の漏洩磁界Hsが最も強くなるよう
な磁気ヨーク13と磁気スケール11との位置関
係を示し、磁束の流れを図中の矢印で表わしてい
る。実際には、磁気ヨーク13の等価空隙部分1
5での短絡磁束、および磁気ヨーク13と対接す
る磁気格子面12とは反対側の磁気スケール11
の表面(図中下面)での漏洩磁界が存在するわけ
であるが、説明を簡略化するため図示していな
い。ここで、磁気ヨーク13の所定の等価空隙部
分15上の中心点Pにおける磁界の強さをHsと
する。
次に、多重空隙磁気ヨーク13を磁気スケール
11の磁気格子面12に対接させた状態で、上記
第3図の位置に対して矢印X方向にλ/8だけ移動
させると、第4図に示す配置となる。この第4図
では、磁気ヨーク13上面の漏洩磁界が弱まり、
上記点Pでは磁界の強さはkHs(0<k<1)と
なる。これは等価空隙部分15での短絡磁束(破
線の矢印参照。)が増加するためである。
11の磁気格子面12に対接させた状態で、上記
第3図の位置に対して矢印X方向にλ/8だけ移動
させると、第4図に示す配置となる。この第4図
では、磁気ヨーク13上面の漏洩磁界が弱まり、
上記点Pでは磁界の強さはkHs(0<k<1)と
なる。これは等価空隙部分15での短絡磁束(破
線の矢印参照。)が増加するためである。
さらに、多重空隙磁気ヨーク13を変位させ
て、第3図の位置に対してλ/4だけ移動させる
と、第5図の配置となる。第5図では磁気ヨーク
13上面での漏洩磁界は非常に弱く、上記点Pで
の磁界の強さはほぼ0となる。
て、第3図の位置に対してλ/4だけ移動させる
と、第5図の配置となる。第5図では磁気ヨーク
13上面での漏洩磁界は非常に弱く、上記点Pで
の磁界の強さはほぼ0となる。
さらにλ/8だけ多重空隙磁気ヨーク13を変位
させて、第3図に対して3/8λずれた配置は第6図 のようになる。この第6図では、高透磁率部分1
4を通る磁束の向きが第4図と反対になることか
ら、磁気ヨーク13上面での漏洩磁界は第4図に
対比して大きさが同じで向きが反対になることが
わかる。したがつて、上記点Pの磁界の強さは−
kHs(0<k<1)である。
させて、第3図に対して3/8λずれた配置は第6図 のようになる。この第6図では、高透磁率部分1
4を通る磁束の向きが第4図と反対になることか
ら、磁気ヨーク13上面での漏洩磁界は第4図に
対比して大きさが同じで向きが反対になることが
わかる。したがつて、上記点Pの磁界の強さは−
kHs(0<k<1)である。
さらに磁気ヨーク13をλ/8だけ変位させて、
第3図に対してλ/2の移動位置を示すと、第7図
のようになる。第7図に示される磁気ヨーク13
上面の漏洩磁界は、第3図に対比して、大きさが
同じで向きが反対になる。すなわち、上記点Pの
磁界の強さは−Hsとなる。
第3図に対してλ/2の移動位置を示すと、第7図
のようになる。第7図に示される磁気ヨーク13
上面の漏洩磁界は、第3図に対比して、大きさが
同じで向きが反対になる。すなわち、上記点Pの
磁界の強さは−Hsとなる。
以上のように、磁気スケール11に対して、磁
気格子の固有波長の1/2の間隔で配列される高透
磁率部分14を有する多重空隙磁気ヨーク13を
対接させながら矢印X方向に移動させると、磁気
ヨーク13上面での漏洩磁界は、磁気格子の波長
に対応して大きさと方向が変化する。特に、多重
空隙磁気ヨーク13上面において、各等価空隙部
分15の中心位置、たとえば上記点P等の磁界
は、磁気格子面12と平行で、大きさと向きとが
周期的に変化する。
気格子の固有波長の1/2の間隔で配列される高透
磁率部分14を有する多重空隙磁気ヨーク13を
対接させながら矢印X方向に移動させると、磁気
ヨーク13上面での漏洩磁界は、磁気格子の波長
に対応して大きさと方向が変化する。特に、多重
空隙磁気ヨーク13上面において、各等価空隙部
分15の中心位置、たとえば上記点P等の磁界
は、磁気格子面12と平行で、大きさと向きとが
周期的に変化する。
したがつて、磁気スケール信号検出素子(前述
の第1図や第2図参照。)の複数の強磁性体素片
を上記多重空隙磁気ヨーク13の上面16におけ
る各等価磁気空隙部分15の中心位置(点P等)
に位置するように固定させた状態で配設すれば、
磁気ヨーク13(およびこの磁気ヨーク13上に
対接固定された磁気スケール信号検出素子)が、
磁気スケール11に対して、たとえば矢印X方向
(あるいは逆方向)に相対移動したとき、上記点
P等の各中心位置の磁界の強さおよび方向が磁気
スケール11の磁気格子に対応して変化するた
め、磁気スケール信号の検出が行なえ、相対移動
量の測定が行なえる。この相対移動に伴つて摺動
接触する部分は、磁気スケール11の磁気格子面
12、および多重空隙磁気ヨーク13の図中下面
であるから、磁気スケール信号検出素子のパター
ンに傷が付いたり強磁性体素片が剥れたりするこ
とはない。
の第1図や第2図参照。)の複数の強磁性体素片
を上記多重空隙磁気ヨーク13の上面16におけ
る各等価磁気空隙部分15の中心位置(点P等)
に位置するように固定させた状態で配設すれば、
磁気ヨーク13(およびこの磁気ヨーク13上に
対接固定された磁気スケール信号検出素子)が、
磁気スケール11に対して、たとえば矢印X方向
(あるいは逆方向)に相対移動したとき、上記点
P等の各中心位置の磁界の強さおよび方向が磁気
スケール11の磁気格子に対応して変化するた
め、磁気スケール信号の検出が行なえ、相対移動
量の測定が行なえる。この相対移動に伴つて摺動
接触する部分は、磁気スケール11の磁気格子面
12、および多重空隙磁気ヨーク13の図中下面
であるから、磁気スケール信号検出素子のパター
ンに傷が付いたり強磁性体素片が剥れたりするこ
とはない。
次に、本発明の第2の実施例について、第8図
および第9図を参照しながら説明する。この第2
の実施例には、上記第1の実施例とほぼ同様な構
成を有する多重空隙磁気ヨーク13に対して、縦
磁界記録の磁気格子が形成された磁気スケール2
1を組み合わせたものが用いられている。
および第9図を参照しながら説明する。この第2
の実施例には、上記第1の実施例とほぼ同様な構
成を有する多重空隙磁気ヨーク13に対して、縦
磁界記録の磁気格子が形成された磁気スケール2
1を組み合わせたものが用いられている。
すなわち、磁気スケール21は、高透磁率材料
で形成されたスケールベース23上に、磁気記録
媒体に磁気格子を固有波長λで縦磁界記録により
形成した磁気スケール本体24が接着固定されて
成る。この磁気スケール21の磁気格子面22と
対接しかつ矢印X方向に移動自在に配置される多
重空隙磁気ヨーク13は、上記磁気格子の固有波
長λに対応して、たとえばλ/2間隔で高透磁率部
分14が配列され、これら高透磁率部分14の間
には非磁性材等の等価空隙部分15が間挿されて
形成されている。次に、磁気スケール信号検出素
子26は、第9図に示すように、たとえばガラス
基板やシリコン基板等の検出素子基板27の一主
面、すなわち図中の下方表面28に、複数の検出
素子単位5のパターンが被着形成されている。こ
の検出素子単位5のパターンは、前述した第1図
や第2図の場合と同様に、磁気抵抗の異方性効果
を有する複数の強磁性体素片2を並列的に上記磁
気スケール26の磁気格子の固有波長λの間隔で
配列し、各素片2を電流路3で連結して構成要素
4を形成し、このような構成要素4を2個直列接
続して検出素子単位5としている。この第9図の
実施例では、2組の検出素子単位5,5を(n±
1/8)λの間隔をもたせて検出素子基板27上に配 設して、磁気スケール信号検出素子26を構成し
ているが、現実には4組の検出素子単位を所定間
隔で配設形成することも行なわれている。この磁
気スケール信号検出素子26の各検出素子単位5
の隣り合うものについて、素片2を互いに逆向き
に配列して第2図と同様なパターンを形成しても
よい。さらに、この検出素子基板27の図中上面
には、バイアスマグネツト29が接着固定され、
たとえば素片2に対してほぼ45゜の方向にバイア
ス磁場HBを与えている。すなわち、バイアスマ
グネツト29は、具体的には第19図に示すよう
に、検出素子基板27の素子部全体に対して上記
45゜の角度のバイアス磁場HBを印加するような
位置関係をもつて配設され、基板27上に接着固
定されている。このような磁気スケール信号検出
素子26を、上記多重空隙磁気ヨーク13の上面
16に対接させて固定するわけであるが、このと
き、検出素子単位5の各強磁性体素片2が上記各
等価空隙部分15の中心位置にくるように配設す
る。
で形成されたスケールベース23上に、磁気記録
媒体に磁気格子を固有波長λで縦磁界記録により
形成した磁気スケール本体24が接着固定されて
成る。この磁気スケール21の磁気格子面22と
対接しかつ矢印X方向に移動自在に配置される多
重空隙磁気ヨーク13は、上記磁気格子の固有波
長λに対応して、たとえばλ/2間隔で高透磁率部
分14が配列され、これら高透磁率部分14の間
には非磁性材等の等価空隙部分15が間挿されて
形成されている。次に、磁気スケール信号検出素
子26は、第9図に示すように、たとえばガラス
基板やシリコン基板等の検出素子基板27の一主
面、すなわち図中の下方表面28に、複数の検出
素子単位5のパターンが被着形成されている。こ
の検出素子単位5のパターンは、前述した第1図
や第2図の場合と同様に、磁気抵抗の異方性効果
を有する複数の強磁性体素片2を並列的に上記磁
気スケール26の磁気格子の固有波長λの間隔で
配列し、各素片2を電流路3で連結して構成要素
4を形成し、このような構成要素4を2個直列接
続して検出素子単位5としている。この第9図の
実施例では、2組の検出素子単位5,5を(n±
1/8)λの間隔をもたせて検出素子基板27上に配 設して、磁気スケール信号検出素子26を構成し
ているが、現実には4組の検出素子単位を所定間
隔で配設形成することも行なわれている。この磁
気スケール信号検出素子26の各検出素子単位5
の隣り合うものについて、素片2を互いに逆向き
に配列して第2図と同様なパターンを形成しても
よい。さらに、この検出素子基板27の図中上面
には、バイアスマグネツト29が接着固定され、
たとえば素片2に対してほぼ45゜の方向にバイア
ス磁場HBを与えている。すなわち、バイアスマ
グネツト29は、具体的には第19図に示すよう
に、検出素子基板27の素子部全体に対して上記
45゜の角度のバイアス磁場HBを印加するような
位置関係をもつて配設され、基板27上に接着固
定されている。このような磁気スケール信号検出
素子26を、上記多重空隙磁気ヨーク13の上面
16に対接させて固定するわけであるが、このと
き、検出素子単位5の各強磁性体素片2が上記各
等価空隙部分15の中心位置にくるように配設す
る。
以上のような構成において、磁気スケール21
に対して多重空隙磁気ヨーク13(およびこの磁
気ヨーク13に固着された磁気スケール信号検出
素子26)を矢印X方向(逆方向も含む)に移動
させれば、前述の第1の実施例と同様に、磁気ス
ケール13の上面16の点Pのような等価空隙部
分15の中心位置における磁界の強さおよび向き
が、上記磁気格子に応じて変化する。したがつ
て、この磁界の変化を磁気スケール信号検出素子
26が検出して、後述するような信号処理を行な
い、磁気スケール21に対する磁気スケール信号
検出素子26の相対移動量を検知することができ
る。
に対して多重空隙磁気ヨーク13(およびこの磁
気ヨーク13に固着された磁気スケール信号検出
素子26)を矢印X方向(逆方向も含む)に移動
させれば、前述の第1の実施例と同様に、磁気ス
ケール13の上面16の点Pのような等価空隙部
分15の中心位置における磁界の強さおよび向き
が、上記磁気格子に応じて変化する。したがつ
て、この磁界の変化を磁気スケール信号検出素子
26が検出して、後述するような信号処理を行な
い、磁気スケール21に対する磁気スケール信号
検出素子26の相対移動量を検知することができ
る。
次に、本発明の第3の実施例の要部を第10図
とともに説明する。この第3の実施例に用いられ
る多重空隙磁気ヨーク31は、磁気ヨーク本体3
2と表面プレート33との2層構造を有してお
り、磁気ヨーク本体32の高透磁率部分34と等
価空隙部分35とは、上記第1、第2の実施例と
同様に構成されているのに対し、表面プレート3
3は、高透磁率部分36よりも等価空隙部分37
の巾が狭く形成されている。したがつて、この等
価空隙部分37の表面(図中上面)における漏洩
磁界の強度が大となり、高感度の磁気スケール信
号の検出が行なえる。磁気スケール11は上記第
1の実施例の磁気スケール11と同様であるた
め、同じ部分に同一の参照番号を付して説明を省
略する。
とともに説明する。この第3の実施例に用いられ
る多重空隙磁気ヨーク31は、磁気ヨーク本体3
2と表面プレート33との2層構造を有してお
り、磁気ヨーク本体32の高透磁率部分34と等
価空隙部分35とは、上記第1、第2の実施例と
同様に構成されているのに対し、表面プレート3
3は、高透磁率部分36よりも等価空隙部分37
の巾が狭く形成されている。したがつて、この等
価空隙部分37の表面(図中上面)における漏洩
磁界の強度が大となり、高感度の磁気スケール信
号の検出が行なえる。磁気スケール11は上記第
1の実施例の磁気スケール11と同様であるた
め、同じ部分に同一の参照番号を付して説明を省
略する。
このように、少なくとも多重空隙磁気ヨークの
上面の等価空隙部分の間隔を狭くして漏洩磁界を
強くするには、第11図に示す第4の実施例のよ
うに、断面台形状の等価空隙部分38と、上下を
逆にした断面台形状の高透磁率部分39とを交互
に積層配置して、多重空隙磁気ヨーク40を構成
してもよい。
上面の等価空隙部分の間隔を狭くして漏洩磁界を
強くするには、第11図に示す第4の実施例のよ
うに、断面台形状の等価空隙部分38と、上下を
逆にした断面台形状の高透磁率部分39とを交互
に積層配置して、多重空隙磁気ヨーク40を構成
してもよい。
次に、本発明の第5の実施例について、第12
図を参照しながら説明する。この第12図におい
て、多重空隙磁気ヨーク13は上述した第1ある
いは第2の実施例と同様に、高透磁率部分14と
等価空隙部分15とが交互に積層配置されて構成
されている。この磁気ヨーク13の上面16に
は、第9図(あるいは第1図や第2図)とともに
説明したような磁気スケール信号検出素子26が
接着固定されている。多重空隙磁気ヨーク13の
高透磁率部分14と等価空隙部分15との配列方
向に沿つて、すなわち各部分14,15の境界面
に対して垂直な方向に、溝部41が形成されてお
り、この溝部41には矢印A方向に移動可能に、
ほぼ溝部41の形状に一致した外形に形成された
磁気スケール21が配置されている。この磁気ス
ケール21は、第2の実施例(第8図参照)に用
いられた磁気スケール21と同様に縦磁界記録さ
れた磁気格子が形成されている。
図を参照しながら説明する。この第12図におい
て、多重空隙磁気ヨーク13は上述した第1ある
いは第2の実施例と同様に、高透磁率部分14と
等価空隙部分15とが交互に積層配置されて構成
されている。この磁気ヨーク13の上面16に
は、第9図(あるいは第1図や第2図)とともに
説明したような磁気スケール信号検出素子26が
接着固定されている。多重空隙磁気ヨーク13の
高透磁率部分14と等価空隙部分15との配列方
向に沿つて、すなわち各部分14,15の境界面
に対して垂直な方向に、溝部41が形成されてお
り、この溝部41には矢印A方向に移動可能に、
ほぼ溝部41の形状に一致した外形に形成された
磁気スケール21が配置されている。この磁気ス
ケール21は、第2の実施例(第8図参照)に用
いられた磁気スケール21と同様に縦磁界記録さ
れた磁気格子が形成されている。
次に、本発明の第6の実施例について第13図
とともに説明する。この第6の実施例に用いられ
ている多重空隙磁気ヨーク31は、第10図の第
3の実施例と同様に、磁気ヨーク本体32と表面
プレート33とを積層配置して構成されており、
この表面プレート33の上面に、磁気スケール信
号検出素子26が接着固定されている。また、多
重空隙磁気ヨーク33の磁気ヨーク本体31に
は、高透磁率部分34と等価空隙部分35との配
列方向に沿つて貫通孔42が形成されており、こ
の貫通孔42内に矢印X方向に移動可能に、棒状
の磁気スケール43が配置されている。
とともに説明する。この第6の実施例に用いられ
ている多重空隙磁気ヨーク31は、第10図の第
3の実施例と同様に、磁気ヨーク本体32と表面
プレート33とを積層配置して構成されており、
この表面プレート33の上面に、磁気スケール信
号検出素子26が接着固定されている。また、多
重空隙磁気ヨーク33の磁気ヨーク本体31に
は、高透磁率部分34と等価空隙部分35との配
列方向に沿つて貫通孔42が形成されており、こ
の貫通孔42内に矢印X方向に移動可能に、棒状
の磁気スケール43が配置されている。
以上の各実施例は、すべて直線移動型の磁気ス
ケール装置に関するものであり、直線距離や寸法
等を測定する場合に好適なものであるが、この他
回転運動の回転角度や回転数等を検出する磁気ス
ケール装置にも、容易に適用し得る。
ケール装置に関するものであり、直線距離や寸法
等を測定する場合に好適なものであるが、この他
回転運動の回転角度や回転数等を検出する磁気ス
ケール装置にも、容易に適用し得る。
すなわち、第14図に示す第7の実施例におい
て、上記磁気スケールに対応する磁気デイスク4
5は、軸46を中心として回転自在な円盤状の回
転体の外周に沿つて、前述したような磁気格子
(磁気目盛)が記録形成されている。この磁気デ
イスク45の端部を挾むような断面U字状の多重
空隙磁気ヨーク47の一主面48には、磁気スケ
ール信号検出素子26が接着固定されている。
て、上記磁気スケールに対応する磁気デイスク4
5は、軸46を中心として回転自在な円盤状の回
転体の外周に沿つて、前述したような磁気格子
(磁気目盛)が記録形成されている。この磁気デ
イスク45の端部を挾むような断面U字状の多重
空隙磁気ヨーク47の一主面48には、磁気スケ
ール信号検出素子26が接着固定されている。
また、この回転型の磁気スケールとしては、第
15図に示す第8の実施例のように、円筒形状の
磁気ドラム51を用いてもよい。この磁気ドラム
51は、軸52を中心として回転可能であり、外
周面が上述と同様な磁気格子面53となつてい
る。多重空隙磁気ヨーク54は、この磁気格子面
53の円筒面に対応する曲面55を対接面とし、
この対接面の反対側の面(平面形状)56に磁気
スケール信号検出素子26を接着固定すればよ
い。
15図に示す第8の実施例のように、円筒形状の
磁気ドラム51を用いてもよい。この磁気ドラム
51は、軸52を中心として回転可能であり、外
周面が上述と同様な磁気格子面53となつてい
る。多重空隙磁気ヨーク54は、この磁気格子面
53の円筒面に対応する曲面55を対接面とし、
この対接面の反対側の面(平面形状)56に磁気
スケール信号検出素子26を接着固定すればよ
い。
以上のような構成の各磁気スケール装置におけ
る磁気スケール信号の検出、および移動量の算出
等の信号処理は、本件出願人が既に特願昭53−
132810号に説明したとおりである。この動作原理
を1/8内挿法の場合について簡単に説明すると、た とえば第1図に示す磁気スケール信号検出素子6
のように、2個の検出素子単位5,5を(m±
1/4)λの間隔で配置すれば、これらの検出素子単 位5,5のそれぞれの出力端子80A,80Bからは
相差90゜の2相出力(第16図aの信号出力A,
B参照。)が得られる。なお説明を簡単にするた
め出力A,Bの波形は三角波で示した。
る磁気スケール信号の検出、および移動量の算出
等の信号処理は、本件出願人が既に特願昭53−
132810号に説明したとおりである。この動作原理
を1/8内挿法の場合について簡単に説明すると、た とえば第1図に示す磁気スケール信号検出素子6
のように、2個の検出素子単位5,5を(m±
1/4)λの間隔で配置すれば、これらの検出素子単 位5,5のそれぞれの出力端子80A,80Bからは
相差90゜の2相出力(第16図aの信号出力A,
B参照。)が得られる。なお説明を簡単にするた
め出力A,Bの波形は三角波で示した。
この信号出力を第17図に示す如く加算器61
及び減算器62に与えて加減算して第16図bに
示すように上記信号出力とは45゜の相差を有し、
かつ互いに90゜の相差を有する加減算信号A+
B,A−Bを作る。
及び減算器62に与えて加減算して第16図bに
示すように上記信号出力とは45゜の相差を有し、
かつ互いに90゜の相差を有する加減算信号A+
B,A−Bを作る。
これら4つの信号出力は45゜の相差を伴なつて
現われることになり、これらをシユミツト回路6
3を通すと、第16図c〜fの矩形波信号とな
る。更にこの矩形波信号を微分回路64に通す
と、同図g〜jで示すような検出方向によつて正
負に反転するパルス列が得られる。
現われることになり、これらをシユミツト回路6
3を通すと、第16図c〜fの矩形波信号とな
る。更にこの矩形波信号を微分回路64に通す
と、同図g〜jで示すような検出方向によつて正
負に反転するパルス列が得られる。
各シユミツト回路の2つの出力端子65には、
互いに逆位相の出力が生ずる。この各出力信号を
微分回路の次段の各アンドゲート回路66,67
のゲート開閉信号を利用すると、前記微分出力か
ら、+X方向に移動する場合には第16図kに示
すパルス列信号を、また−X方向に移動する場合
には同図lに示すパルス列信号を、各アンドゲー
ト回路の出力に得ることができる。
互いに逆位相の出力が生ずる。この各出力信号を
微分回路の次段の各アンドゲート回路66,67
のゲート開閉信号を利用すると、前記微分出力か
ら、+X方向に移動する場合には第16図kに示
すパルス列信号を、また−X方向に移動する場合
には同図lに示すパルス列信号を、各アンドゲー
ト回路の出力に得ることができる。
従つて上記パルス列信号を可逆カウンタ68で
カウントさせることにより移動量を検知すること
ができる。
カウントさせることにより移動量を検知すること
ができる。
以上のように、検出出力信号A,Bを互いに加
減算して多相信号を得て内挿を高める内挿弁別方
法に対し、検出素子単位を多相に構成して直接的
に多相信号を得て内挿を高める方法も容易に実現
できる。
減算して多相信号を得て内挿を高める内挿弁別方
法に対し、検出素子単位を多相に構成して直接的
に多相信号を得て内挿を高める方法も容易に実現
できる。
この場合には、相差が45゜((n±1/8)・λ間
隔)の4つの検出素子単位を用い、これらの検出
素子単位から、次に示すような信号出力VA,V
B,VC,VDを得る。
素子単位から、次に示すような信号出力VA,V
B,VC,VDを得る。
VA=Esin(nλ+θ)
VB=Esin(nλ+θ−π/4)
VC=Esin(nλ+θ−π/2)
VD=Esin(nλ+θ−3π/4)
この4つの信号出力の説明を簡単にするため三
角波で示すと第18図aのA〜Dで表わされ、こ
れらをシユミツト回路に通すと同図b〜eで示す
矩形波信号となる。これは第16図の矩形波信号
c〜fに対応するもので、以後の処理は第16図
及び第17図で示した方法をそのまま適用でき
る。
角波で示すと第18図aのA〜Dで表わされ、こ
れらをシユミツト回路に通すと同図b〜eで示す
矩形波信号となる。これは第16図の矩形波信号
c〜fに対応するもので、以後の処理は第16図
及び第17図で示した方法をそのまま適用でき
る。
かくして得られた出力信号は磁気スケールに対
する検出素子の移動方向を弁別し、かつ磁気格子
の一波長を8分割したデイジタル信号となつてい
る。
する検出素子の移動方向を弁別し、かつ磁気格子
の一波長を8分割したデイジタル信号となつてい
る。
さらに、1/16内挿もほぼ同様な信号処理方法によ
り行なえる。
以上の説明からも明らかなように、本発明に係
る磁気スケール装置によれば、多重空隙磁気ヨー
クを用いることにより、信号磁束の集束効果に伴
う磁気格子の短波長化、高密度化を促進し、高分
解能の磁気スケール装置を容易に実現できる。ま
た、磁気スケールの磁気格子形成のバリエーシヨ
ンを拡大し、磁気スケール構成の自由度が大とな
るため、製品の性能、機能、および用途等が大巾
に拡大される。さらに、磁気スケールと磁気スケ
ール信号検出素子とのクリアランスを一定に保持
しやすく、良質な信号検出を可能にし、高精度の
磁気スケール装置を具現する。また、磁気スケー
ル信号検出素子の検出素子単位パターンが、多重
空隙磁気ヨークの上面に接した状態で固定され、
従来のように磁気格子面との摺接等が回避される
ため、素子損耗を完全に防止でき、しかも設計上
の機械的移動部分の寸法、精度等に余裕が生じ
る。
る磁気スケール装置によれば、多重空隙磁気ヨー
クを用いることにより、信号磁束の集束効果に伴
う磁気格子の短波長化、高密度化を促進し、高分
解能の磁気スケール装置を容易に実現できる。ま
た、磁気スケールの磁気格子形成のバリエーシヨ
ンを拡大し、磁気スケール構成の自由度が大とな
るため、製品の性能、機能、および用途等が大巾
に拡大される。さらに、磁気スケールと磁気スケ
ール信号検出素子とのクリアランスを一定に保持
しやすく、良質な信号検出を可能にし、高精度の
磁気スケール装置を具現する。また、磁気スケー
ル信号検出素子の検出素子単位パターンが、多重
空隙磁気ヨークの上面に接した状態で固定され、
従来のように磁気格子面との摺接等が回避される
ため、素子損耗を完全に防止でき、しかも設計上
の機械的移動部分の寸法、精度等に余裕が生じ
る。
第1図は従来例を示す斜視図、第2図は他の従
来例を示す斜視図、第3図ないし第7図は本発明
の第1の実施例の要部を示すものであり、第3図
は多重空隙磁気ヨークが基準位置にある状態を示
す正面図、第4図は多重空隙磁気ヨークが第3図
の位置からλ/8だけ移動した状態を示す正面図、
第5図は同様にλ/4の移動状態を示す正面図、第
6図は同3/8λの移動状態を示す正面図、第7図は 同λ/2の移動状態を示す正面図、第8図および第
9図は本発明の第2の実施例を示し、第8図は正
面図、第9図は斜視図、第10図は本発明の第3
の実施例を示す正面図、第11図は本発明の第4
の実施例を示す正面図、第12図は本発明の第5
の実施例を示す斜視図、第13図は本発明の第6
の実施例を示す斜視図、第14図は本発明の第7
の実施例を示す斜視図、第15図は本発明の第8
の実施例を示す斜視図、第16図a〜lは磁気ス
ケール装置の1/8内挿法の一例を説明するためのタ イムチヤート、第17図は1/8内挿回路を示すブロ ツク図、第18図a〜eは1/8内挿の他の方朋を示 すタイムチヤートであり、第19図は検出素子基
板に対するバイアスマグネツトの配設位置を概略
的に示す斜視図である。 11,21……磁気スケール、12,22……
磁気格子面、13,31,47,54……多重空
隙磁気ヨーク、14,34,36……高透磁率部
分、15,35,37……等価空隙部分、26…
…磁気スケール信号検出素子。
来例を示す斜視図、第3図ないし第7図は本発明
の第1の実施例の要部を示すものであり、第3図
は多重空隙磁気ヨークが基準位置にある状態を示
す正面図、第4図は多重空隙磁気ヨークが第3図
の位置からλ/8だけ移動した状態を示す正面図、
第5図は同様にλ/4の移動状態を示す正面図、第
6図は同3/8λの移動状態を示す正面図、第7図は 同λ/2の移動状態を示す正面図、第8図および第
9図は本発明の第2の実施例を示し、第8図は正
面図、第9図は斜視図、第10図は本発明の第3
の実施例を示す正面図、第11図は本発明の第4
の実施例を示す正面図、第12図は本発明の第5
の実施例を示す斜視図、第13図は本発明の第6
の実施例を示す斜視図、第14図は本発明の第7
の実施例を示す斜視図、第15図は本発明の第8
の実施例を示す斜視図、第16図a〜lは磁気ス
ケール装置の1/8内挿法の一例を説明するためのタ イムチヤート、第17図は1/8内挿回路を示すブロ ツク図、第18図a〜eは1/8内挿の他の方朋を示 すタイムチヤートであり、第19図は検出素子基
板に対するバイアスマグネツトの配設位置を概略
的に示す斜視図である。 11,21……磁気スケール、12,22……
磁気格子面、13,31,47,54……多重空
隙磁気ヨーク、14,34,36……高透磁率部
分、15,35,37……等価空隙部分、26…
…磁気スケール信号検出素子。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 固有波長λの磁気格子が等間隔に記録形成さ
れた磁気スケールと、この磁気スケールに対して
相対的に移動可能な磁気スケール信号検出素子
と、これら磁気スケールと磁気スケール信号検出
素子との間に配設され、かつ上記磁気格子の固有
波長λに対応して、高透磁率部分がλ/2の整数倍
の間隔で等価空隙部分を間挿しながら配列して成
る多重空隙磁気ヨークとを備えて成ることを特徴
とする磁気スケール装置。 2 上記多重空隙磁気ヨークの表面上の上孔等価
空隙部分の中心位置に、上記磁気スケール信号検
出素子の強磁性体素片が配設されるように上記多
重空隙磁気ヨークと上記磁気スケール信号検出素
子とを対接固定して成ることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の磁気スケール装置。 3 上記多重空隙磁気ヨークは、上記磁気スケー
ルとの対向面に比べて上記磁気スケール信号検出
素子との対接面側の等価空隙部分の巾が狭くなる
ように形成されることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の磁気スケール装置。 4 上記多重空隙磁気ヨークに溝部または貫通孔
を設け、この溝部または貫通孔内で移動自在の磁
気スケールを配設するようにして成る特許請求の
範囲第1項記載の磁気スケール装置。 5 上記磁気スケールは、回転体の回転方向に沿
つて磁気格子が着磁形成されて成り、上記多重空
隙磁気ヨークはこの磁気スケールの磁気格子面に
応じた曲面の対向面が形成されて成ることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の磁気スケール
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6731379A JPS55159108A (en) | 1979-05-30 | 1979-05-30 | Magnetic scale device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6731379A JPS55159108A (en) | 1979-05-30 | 1979-05-30 | Magnetic scale device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55159108A JPS55159108A (en) | 1980-12-11 |
JPS6153644B2 true JPS6153644B2 (ja) | 1986-11-19 |
Family
ID=13341399
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6731379A Granted JPS55159108A (en) | 1979-05-30 | 1979-05-30 | Magnetic scale device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS55159108A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5956519U (ja) * | 1982-10-08 | 1984-04-13 | 株式会社井上ジャパックス研究所 | 磁気スケ−ル |
JPH01131115U (ja) * | 1988-03-01 | 1989-09-06 | ||
US5886520A (en) * | 1995-01-24 | 1999-03-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Position sensor having magnetic resistance effect devices for detecting a position of an object |
DE112007003025T5 (de) * | 2006-12-13 | 2009-11-12 | Alps Electric Co., Ltd. | Magnetsensor und Magnetkodierer, der ihn nutzt |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5081117A (ja) * | 1973-11-17 | 1975-07-01 | ||
JPS51112319A (en) * | 1975-03-28 | 1976-10-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | A magnetic head |
JPS51140707A (en) * | 1975-05-30 | 1976-12-03 | Hitachi Ltd | Multigap head and magnetic detectecting device |
JPS51151568A (en) * | 1975-06-20 | 1976-12-27 | Ono Sokki Co Ltd | Detector |
-
1979
- 1979-05-30 JP JP6731379A patent/JPS55159108A/ja active Granted
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5081117A (ja) * | 1973-11-17 | 1975-07-01 | ||
JPS51112319A (en) * | 1975-03-28 | 1976-10-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | A magnetic head |
JPS51140707A (en) * | 1975-05-30 | 1976-12-03 | Hitachi Ltd | Multigap head and magnetic detectecting device |
JPS51151568A (en) * | 1975-06-20 | 1976-12-27 | Ono Sokki Co Ltd | Detector |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS55159108A (en) | 1980-12-11 |
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