JPS6151891A - Smear removing device - Google Patents

Smear removing device

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Publication number
JPS6151891A
JPS6151891A JP17320784A JP17320784A JPS6151891A JP S6151891 A JPS6151891 A JP S6151891A JP 17320784 A JP17320784 A JP 17320784A JP 17320784 A JP17320784 A JP 17320784A JP S6151891 A JPS6151891 A JP S6151891A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printed circuit
circuit board
electrode
gas
etching
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP17320784A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
川原 博宣
三郎 金井
和波 正博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP17320784A priority Critical patent/JPS6151891A/en
Publication of JPS6151891A publication Critical patent/JPS6151891A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野ゴ 本発明は、スミア除去装置に係り、特にプリント基板の
スルーホールのスミアをガスプラズマにより除去するス
ミア除去装fJf“に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Application of the Invention] The present invention relates to a smear removal device, and more particularly to a smear removal device fJf for removing smear in through holes of a printed circuit board using gas plasma.

〔発明の背景〕[Background of the invention]

プリント基板のスルーホールのスミアをガスプラズマに
より除去するスミア除去装置としては、例えば、米国特
許第4.289.598号明細書や米国特許第=1.3
28.081号明細書に記載のような、平行平板電極間
にプリント基板を配置し、エツチングガスを処理室内数
箇所から導入してガスプラズマを発生させてガスプラズ
マによりプリント基板のスルーホールのスミアを除去す
る装置が知られている。
Examples of smear removal devices that remove smears from through holes in printed circuit boards using gas plasma include those disclosed in U.S. Patent No. 4.289.598 and U.S. Patent No. 1.3.
As described in the specification of No. 28.081, a printed circuit board is placed between parallel plate electrodes, and etching gas is introduced from several places in the processing chamber to generate gas plasma, and the gas plasma smears the through holes of the printed circuit board. Devices for removing .

しかし、このような装置では、プリント基板自身の放電
とエツチングガスの流れ番こ対する抵抗とによりエツチ
ング分布に不均一4ノ1が生じるといった問題がJ】る
However, such an apparatus has the problem that the etching distribution becomes non-uniform due to the electrical discharge of the printed circuit board itself and the resistance to the flow of the etching gas.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明のl]的は、プリント基板の周辺部で発生した強
いガスプラズマをプリント基板の中央部に引込むことで
、プリント基板の中央部と周辺部とでのスルーホールの
エツチングll【をより均一化できエツチング分布の均
一性を向上できるスミア除去装置を提供することにある
The purpose of the present invention is to make the etching of through holes more uniform between the center and periphery of the printed circuit board by drawing strong gas plasma generated at the periphery of the printed circuit board into the center of the printed circuit board. An object of the present invention is to provide a smear removal device that can improve the uniformity of etching distribution.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、電源電極と接地電極とが設けられた処理室内
に配置されたブリット基板の面に対応して流れたエツチ
ングガスをプリント基板の反対面の中央部付近に引込み
可能に、電源電極と接地電極との内でプリント基板の反
対面に対向する゛電極に排気孔を穿設したことを特徴と
するもので、プリント基板の周辺部で発生した強いガス
プラズマをプリント基板の中央部に引込むことで、プリ
ント基板の中央部と周辺部とでのスルーホールのエツチ
ング量をより均一化しようとしたものである。
The present invention is capable of drawing etching gas flowing corresponding to the surface of a printed circuit board placed in a processing chamber provided with a power supply electrode and a ground electrode into the vicinity of the center of the opposite surface of the printed circuit board. This device is characterized by having an exhaust hole in the electrode facing the opposite side of the printed circuit board from the ground electrode, which draws the strong gas plasma generated at the periphery of the printed circuit board into the center of the printed circuit board. This is an attempt to make the amount of through-hole etching more uniform between the center and the periphery of the printed circuit board.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

本発明の一実施例を第1図により説明する。 An embodiment of the present invention will be explained with reference to FIG.

第1図で、電源電極10は、11!極板11と電極軸β
とで構成され、接地電極加は、電極板21とillli
m軸nとで構成さている。電極軸12は、一端部である
上端部を処理室閣内に突出して処理室3oの、この場合
は、底壁に電気絶縁され気密に設けられている。フル曝
軸12の上端には、電極板11が略水平に設けられてい
る。電極板11の外周端と処理室30の側壁との間には
、電気絶縁材40が設けられ、この間をエツチングカス
が通過しないようにシールされている。lit I6?
輔12の他端である下端には、処理室閣外に設置された
電源、例えば1111周波電源50が接続されている。
In FIG. 1, the power supply electrode 10 is 11! Electrode plate 11 and electrode axis β
The ground electrode is connected to the electrode plate 21 and illi
It is composed of m axis and n. The electrode shaft 12 is electrically insulated and airtightly provided on the bottom wall of the processing chamber 3o, in this case, with its upper end protruding into the processing chamber. At the upper end of the fully exposed shaft 12, an electrode plate 11 is provided substantially horizontally. An electrical insulating material 40 is provided between the outer peripheral end of the electrode plate 11 and the side wall of the processing chamber 30, and the electrical insulating material 40 is sealed to prevent etching scum from passing through the space. lit I6?
A power source installed outside the processing room, for example, a 1111 frequency power source 50, is connected to the lower end, which is the other end of the support 12.

高周波゛トu源50は接地されている。The high frequency source 50 is grounded.

電極(lll122は、一端部である下端部を処理室閣
内1こ突出して処理室間の、この場合は、頂壁に気密に
設けられている。電極軸nの下端には、電極板21が電
極板■1と対向して略水平に設けられている。
The electrode (122) is airtightly provided between the processing chambers, in this case, on the top wall, with its lower end (one end) protruding from the inside of the processing chamber. It is provided substantially horizontally facing the electrode plate (1).

電極板21の内部には、ガス分散室Aが形成され、また
、電極板11と対向する面に開1:1するガス放出孔ス
がガス分散室nと連通して穿設されている。
A gas dispersion chamber A is formed inside the electrode plate 21, and gas discharge holes opening 1:1 on the surface facing the electrode plate 11 are bored in communication with the gas dispersion chamber n.

電極軸nの内部の軸方向には、ガス分散室nと連通して
カス供恰h’625が形成されている。電極軸nの他端
でJ)る−上端には、処理室閣外を設置されたエツチン
グガス源60に連結されたガス供給管61がガス供給路
怒と連通して連結されている。電極軸nは、接地されて
いる。ここで、電極板11.21の幅は、プリント基板
70の幅よりも広く、また、長さは、プリント基板70
の長さよりも長くなっている。この場合、電源@極10
の111極板11と接地電極加の電極板21との間にプ
リント基板7oを配置可能にブラケット冊が電気絶縁材
41を介して処理室間の側位に特設されている。処理室
Jの底壁には、電極板11と処理室側の底壁と電気絶縁
材4oとで形成された空間90と連通して排気ノズル3
1が設けられ、排気ノズル31は、真空排気装a 10
0に連結されている。プリント基板7oの面、この場合
は、上面に対応して中央部から周辺部方向に流れた二ノ
は、下面の中央部1込み可能に、この場合は、電源電極
10の1rL+jit板11に排気孔110が穿設され
ている。
A waste supply h'625 is formed in the axial direction inside the electrode shaft n in communication with the gas dispersion chamber n. At the upper end of the other end of the electrode shaft n, a gas supply pipe 61 connected to an etching gas source 60 installed outside the processing chamber is connected in communication with a gas supply path. Electrode axis n is grounded. Here, the width of the electrode plate 11.21 is wider than the width of the printed circuit board 70, and the length thereof is greater than the width of the printed circuit board 70.
It is longer than the length of . In this case, power @ pole 10
A bracket booklet is specially installed on the side between the processing chambers via an electrical insulating material 41 so that the printed circuit board 7o can be placed between the 111 electrode plate 11 and the electrode plate 21 to which the ground electrode is added. An exhaust nozzle 3 is provided on the bottom wall of the processing chamber J in communication with a space 90 formed by the electrode plate 11, the bottom wall on the processing chamber side, and the electrical insulating material 4o.
1 is provided, and the exhaust nozzle 31 is a vacuum exhaust system a 10
Connected to 0. The surface of the printed circuit board 7o, in this case, the air flowing from the center to the peripheral part corresponding to the top surface, can be included in the center part 1 of the bottom surface, and in this case, an exhaust hole is formed in 1rL of the power supply electrode 10 + jit plate 11. 110 is bored.

第1図で、プリント基板7oが外部より処理室閣内に搬
入され、この搬入されたプリント基板7oは、ブラケッ
ト80にて支持される。その後、処理室閣内は真空排気
装置100の作動により所定圧力に減圧排気される。そ
の後、エツチングガス源6oよりガス供給′Q61を経
て所定流量でエツチングガスがガスD(、給路乙に供給
される。ガス供給路5に01給された工、チングガスは
、ガス供給路5を流通しガス分散室田で分散された後に
ガス放出孔潤よりプリント基数70の上面に向って放出
される。この放出されたカスは、プリント基板7oのス
ルーホール(ステ省略)を通過すると共にプリント基板
7゜Φ上面に対応して中央部から周辺部方向に向って流
れ、その(稔、1ノド気孔110 、空間9()、排気
ノズル31を経て丁」空J−Jl気装置100により所
定流量で排気される。これにより、プリントJに AJ
v 70の上面に対応して中央部から周辺部方向に流ノ
’したエツチングガスは、プリント基板70の下面の中
央部付近に引込まれ、また、処理室(9)内は、所定の
エツチング圧力に調節されて維持される。この状態で高
周波電力の電+lGt 7u IIT+10への印加に
より生じたガスプラズマの内で、プリント基板70の周
辺部に発生した強いガスプラズマはプリント基板7()
の中央部に引込まれ、プリント基板70の全面に珪すガ
スプラズマの強さが強い方向に平準化されろ。プリント
基板70のスルーホールのスミアは、このガスプラズマ
により、コーノチングされて除去される。
In FIG. 1, a printed circuit board 7o is carried into the processing chamber from the outside, and this carried printed circuit board 7o is supported by a bracket 80. Thereafter, the inside of the processing chamber is evacuated to a predetermined pressure by the operation of the evacuation device 100. Thereafter, etching gas is supplied from the etching gas source 6o to the gas supply path 5 via the gas supply Q61 at a predetermined flow rate. After the gas is distributed and dispersed by the gas dispersion Murota, it is released from the gas release hole toward the top surface of the printed circuit board 70.The released residue passes through the through hole (step omitted) of the printed circuit board 7o and the printed circuit board 7o. The air flows from the center toward the periphery corresponding to the upper surface of the 7°Φ, passes through the 1-node pore 110, the space 9 (), and the exhaust nozzle 31, and then is pumped at a predetermined flow rate by the air device 100. This causes the print J to be evacuated.
The etching gas flowing from the center toward the periphery corresponding to the upper surface of the printed circuit board 70 is drawn into the vicinity of the center of the lower surface of the printed circuit board 70, and the inside of the processing chamber (9) is maintained at a predetermined etching pressure. adjusted and maintained. In this state, among the gas plasma generated by applying high frequency power to the IIT+10, the strong gas plasma generated around the printed circuit board 70 is
The gas plasma is drawn into the center of the printed circuit board 70 and spread over the entire surface of the printed circuit board 70. The smear in the through hole of the printed circuit board 70 is cornoted and removed by this gas plasma.

本実施例のスミア除去装置では、次のような効果が得ら
れる。
The smear removal device of this embodiment provides the following effects.

(1)  プリント基板の中央部と周辺部とでのスルー
ホールのエツチングi11を均一化できエツチング分布
の均一性を向上できる。
(1) Etching i11 of through-holes in the center and periphery of the printed circuit board can be made uniform, and the uniformity of etching distribution can be improved.

(2)  ガスプラズマの強さを強い方向で平準化でき
j所いエノチレ−1・を得ることができる。
(2) The strength of the gas plasma can be leveled out in the strong direction, and it is possible to obtain 1.

第2図は、本発明によるスミア除去装置の下2の実施例
を示すもので、上記した本発明の一実施例を示す第1図
と異なる点は、電源[極10’と接地゛電極がとを複数
個用い、処理室間′内に横方向に対向して交互に複列設
けた点である。したがって、上記した機能を有する排気
孔110’は、この場合、電源電極10′と接地電極加
′とにそれぞれ穿設されている。
FIG. 2 shows the second embodiment of the smear removal device according to the present invention. The difference from FIG. The point is that a plurality of these are used and alternately arranged in double rows facing each other in the lateral direction within the processing chamber. Therefore, in this case, exhaust holes 110' having the above-mentioned functions are provided at each of the power supply electrode 10' and the ground electrode 10'.

本実施例では、上記した一実施例の場合と同様の作用が
生じ同様の効果を得ることができる。
In this embodiment, the same effect as in the above-mentioned embodiment occurs and the same effect can be obtained.

第3図は、本発明によるスミア除去装置の第3の実施例
を示すもので、上記した本発明の一実施例を示す7A1
図と異なる点は、電源電極10′と接地電極20″とを
複数個用い、処理室間′内に横方向に対向して父方に;
q数列設けた点であり、プリント基板70を電dlil
 ’ili (−10“と接地ittw加“との間では
なく、電源型4i 1F1“の接地型(参加“と対向す
る面と反対面1こ対応して配:lil″するよう1こし
た点である。したがって、上記した機能を有する排気孔
110“は、この場合、接地電嗣加“に穿設されている
FIG. 3 shows a third embodiment of the smear removal device according to the present invention, and 7A1 shows an embodiment of the present invention described above.
The difference from the diagram is that a plurality of power supply electrodes 10' and ground electrodes 20'' are used, and they are laterally opposed in the processing chamber 20' on the paternal side;
This is the point where the q number sequence is provided, and the printed circuit board 70 is
'ili Therefore, in this case, the exhaust hole 110" having the above-mentioned function is bored through the grounding wire.

本実施例では、上記した一実施例の場合と同様の作用が
生じ同様の効果を得ることができる。
In this embodiment, the same effect as in the above-mentioned embodiment occurs and the same effect can be obtained.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明は、以上説明したように、プリント基板の面に対
応して流れたエツチングガスをプリント基板の反対面の
中央部付近に引込み可能に、電源?!極と接地電極との
内で、プリント基板の反対面と対向する電極に排気孔を
穿設したことで、プリント基板の周辺部で発生した強い
ガスプラズマをフリント基板の中央部に引込むことがで
きるので、フリント基υシの中央部と周辺部とでのスル
ーホールのエツチング11tをより均一化できエツチン
グ分布の均一性を向上できるという効果がある。
As explained above, the present invention enables the etching gas flowing along the surface of the printed circuit board to be drawn into the vicinity of the center of the opposite surface of the printed circuit board. ! By drilling an exhaust hole in the electrode facing the opposite side of the printed circuit board between the pole and the ground electrode, the strong gas plasma generated at the periphery of the printed circuit board can be drawn into the center of the flint board. Therefore, there is an effect that the etching 11t of the through holes in the center and peripheral parts of the flint base can be made more uniform and the uniformity of the etching distribution can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、本発明によるスミア除去装置の一実施例を示
す縦断面図、第2図は、本発明によるスミア除去装置の
第2の実施例を示す縦断面図、第3図は、本発明による
スミア除去装置の第3の実施例を示す縦断面図である。 10、10’、 10’・・・・・・電源電極、加、 
20’、 20’・・・・・・接地電極、70・・・・
・プリント基板、110.110’、  110’・・
・・・・排気孔 ゛・−二;ン 才10
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view showing an embodiment of the smear removing device according to the present invention, FIG. 2 is a vertical cross-sectional view showing a second embodiment of the smear removing device according to the present invention, and FIG. FIG. 7 is a longitudinal cross-sectional view showing a third embodiment of the smear removal device according to the invention. 10, 10', 10'...Power electrode, addition,
20', 20'... Ground electrode, 70...
・Printed circuit board, 110.110', 110'...
・・・Exhaust hole ゛・-2; 10

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1、電源電極と接地電極とが設けられた処理室内にプリ
ント基板を配置し、エッチングガスを前記プリント基板
方向に流しつつガスプラズマを発生させて前記プリント
基板のスルーホールのスミアを除去する装置において、
前記プリント基板の面に対応して流れた前記エッチング
ガスをプリント基板の反対面の中央部付近に引込み可能
に、前記電源電極と前記接地電極との内でプリント基板
の反対面と対向する電極に排気孔を穿設したことを特徴
とするスミア除去装置。
1. In an apparatus for disposing a printed circuit board in a processing chamber provided with a power supply electrode and a ground electrode, and generating gas plasma while flowing an etching gas in the direction of the printed circuit board to remove smear in the through holes of the printed circuit board. ,
An electrode between the power supply electrode and the ground electrode that faces the opposite surface of the printed circuit board so that the etching gas flowing in correspondence with the surface of the printed circuit board can be drawn into the vicinity of the center of the opposite surface of the printed circuit board. A smear removal device characterized by having an exhaust hole.
JP17320784A 1984-08-22 1984-08-22 Smear removing device Pending JPS6151891A (en)

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JP (1) JPS6151891A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH049136A (en) * 1990-04-27 1992-01-13 Canon Inc Ophthalmologic observation camera
JP2014033206A (en) * 1999-07-13 2014-02-20 Nordson Corp Plasma processing apparatus
JP2018051549A (en) * 2016-09-30 2018-04-05 パナソニックIpマネジメント株式会社 Plasma processing device

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