JPS61502471A - エツチング - Google Patents

エツチング

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JPS61502471A
JPS61502471A JP50302184A JP50302184A JPS61502471A JP S61502471 A JPS61502471 A JP S61502471A JP 50302184 A JP50302184 A JP 50302184A JP 50302184 A JP50302184 A JP 50302184A JP S61502471 A JPS61502471 A JP S61502471A
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スラビク,ズデネク
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ハンス ヘルミユラ− マシ−ネンバウ ゲゼルシヤフト ミツト ベシユレンクテル ハフツング ウント コンパニ−
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 エツチング 本発明はエツチング、特にたとえば電気回路基板の形成において銅のエツチング に応用できるような方法および装置に関するが、これに限るものではない。
電気回路基板エツチング方法の公知の形はアルカリ性塩化銅型のエツチング液を 使用する。典型的なエツチング液は次のようにして調製することができる。
成 分 モル濃度 g/jlI CuClz(無水) 0.5 67 (32g/I Cu)NH,C13,01 60 電気化学的処理方法は、Au5tralian TelecomIIlunic ationsCommissionによって1980年に出版されたRe5ea rch t、aboratoryReport No、7333、Electr ic Regeneration Of Etching 5olu−tion  For Pr1nted Wiringに完全に説明されている。当面の目的 には、このエツチング液を使用して銅物質に行なうエツチング方法が主として次 の反応によることに留意すればよい。
CuCl2+Cu=CuzCI= または、イオンの形で Cu’″+Cu’ = 2Cu” このようにして塩化第二銅が、使用する酸化剤となる。上記反応のみによって、 大部分の使用可能な第二銅イオンがまもなく不活性な第一銅の形に還元された後 に、エツチングは停止するであろう。しかし、この組成物は、アンモニア錯塩中 に存在する塩化第一銅が、大気の酸素によって容易に酸化されて第二銅塩に戻る ので、この方法の実施において、大気の酸素に接触させて所要の塩化第二銅を再 生する反応を行なう。これは次の反応によって行なわれる。
C112C12+ 2NHaC1+H2O+ ’AOz= 2CuC1z +  2NH40)1または 2Cu” + 2NH4゜+ )120 + IAOz −2Cu” + 2  NH4OH上記反応の実施において、作用を有効に保つために重要ないくつかの 要因がある。第1にエツチング液のpHを所定の範囲に保ことが必要である。最 適な作用を行なうには、pHを50℃においてたとえば9.4〜9.6の間にす る必要がある。
しかしアンモニアは実施中に蒸発するか、または物体をエツチング液から取出す ときに物体に付着して直接損失する傾向がある。第2に上記再生反応にも拘らず 、エツチング液には、除去された銅が蓄積してエツチングの進行が停止すること がある。また銅含量が少ないときは、エツチング速度も対応して小さくなる。エ ツチング液は実際に広範囲の銅含量にわたって満足に作用し、かつエツチング液 は除去された銅を相当量含むことができるが、エツチング液はある程度使用した 後に放棄するか、または過剰の銅を除去して何とかして再生する必要がある。
前記Re5earch LaboratorY Report No、7333 に記載するエツチング液再生系は電解再生を利用して、電解槽の陰極に過剰の銅 を直接沈着させて除去する。
この公知のエツチング液再生方法の困難として、電解槽を通して十分な流量を流 すことが実施上困難であり、印加する電流密度は、濃度分極がおきるので、流量 に対応して制限され、最良の結果を得るのに所望の値より低下することが判明し た。この点について、電解槽を開放容器として形成した。
本発明は、−面においてエツチング液からエツチングされた物質を回収するため に使用する電解槽であって、実質的に閉止されたかまたは閉止できる容器内に陰 極および陽極を配置し、この容器にエツチング液を通すために流入および流出の 手段を設け、かつ電極は、容器にエツチング液を通し、電極間に電位を印加する ときに、エツチングされた物質を電極の1つに沈着させるように配置した電解槽 を提供する。
さらに本発明は、エツチングすべき物質にエツチング液が化学的に作用する型の エツチング装置であって、エツチングされた物質を電着してエツチング液からこ のエツチングされた物質を回収する電解槽を設け、この電解槽が内部に陰極およ び陽極を配置した実質的に閉止されたまたは閉止可能な容器の形であり、この容 器が入口および出口を有し、この入口から容器を通して出口にエツチング液を流 すために送液手段を設け、これによってエツチング液を容器に通し、電極に電位 を印加するときに、エツチングされた物質が電極の1つに沈着するエツチング装 置を提供する。ポンプ手段は、エツチング液貯槽からエツチング液を流し、この 貯槽はエツチング液をエツチングされた物質と接触させた後に、エツチング液を 回収するように配置することができる。
なお本発明は、エツチングすべき物質にエツチング液が化学的に作用する型のエ ツチング装置であって、エツチング液中のエツチングされた物質の量を検出し、 エツチング液中のエツチングされた物質の過剰を検出したときに、この物質の少 なくとも一部分をエツチング液から電解的に沈着させるように作用する手段を設 けたエツチング装置を提供する。
さらに本発明は他の面として、エツチングすべき物質にエツチング液が化学的に 作用し、かつエツチング液中のエツチングされた物質の量を検出する手段を有す るエツチング装置であって、この検出手段は、狭い通路を通してエツチング液を 通過させるように作用する手段と、この通路を通して流れるエツチング液を透し て光を指向させる手段と、エツチング液を通過する光の量を検出して、エツチン グ液による光の吸収に応じて光の量を指示する手段とを有するエツチング装置を 提供する。この検出手段は、光の吸収をエツチング液中のエツチングされた物質 の量が所定の水準を超えて増加したことを指示するときに、電解槽を動作させて 、この物質の量を所定の水準より低い水準に減少させるように連結することがで きる。この通路は光の通過方向において狭いが゛、これに直角な方向において広 いことが好ましい。
さらに本発明は他の面として、エツチングすべき物質にエツチング液を化学的に 作用させるエツチング装置であって、エツチング液の少なくとも1つの成分の含 量をモニタし、この濃度が所定の水準より低下したときに、この成分の量をエツ チング液に添加する手段を有するエツチングgHを提供する。たとえばエツチン グ液のpHを直接に測定することができる。
また本発明は、他の構成として、エツチングすべき物質にエツチング液を化学的 に作用させるエツチング装置であって、装置の使用中に消耗する傾向があるエツ チング液の成分を連続的に1回か、または個別的に多数回エツチング液に添加す る手段を有し、この装置は、使用中に添加している間、エツチング液の性質をモ ニタし、前の測定に比べて、性質が変化したか否かを測定するように配置されて いるエツチング装置を提供する。この配置において添加は、2つの連続する測定 が同様であるときに、エツチング液の性質がもはや変化していないことが判明し た後に、添加を停止することができる。
エツチング液の物理的な性質はエツチング液による光の吸収であることが好まし い。エツチング液が前記アルカリ性塩、化第−銅である場合は、この成分はアン モニアまたはアンモニアを含む組成物とすることができ、特定の波長または波長 帯におけるエツチング液の光の吸収がエツチング液の測定すべき性質である。こ の成分の添加は、たとえば所定の時間において自動的に開始することができる。
なお本発明は、他の面として、エツチング液が含むエツチングされた物質を回収 するための電解槽であって、容器内に陰極および陽極と、この容器の内部を2つ の部分に分割する障壁とを有し、その1つの部分が陰極を有し、他の部分が陽極 を有し、この障壁を通る以外は内部部分の間で液体が使用中に連通ずることを妨 げ、この容器が1つの内部部分にエツチング液を受入れ、他の内部部分に陽極液 を受入れるように配置され、この障壁が陽極液は通過させるが、エツチングされ た物質または少なくとも何らかの形のこの物質は通過させないような多孔性であ り、エツチング液および陽極液は使用中に電極間に電気的に連続な媒質を形成し 、電極間に電位を印加したときに、エツチングされた物質が電解作用によって陰 極に沈着するように配置されている電解槽である。電解槽は前記のように閉止さ れたかまたは閉止可能であることができる。エツチングされたTh質を含むエツ チング液は1つの内部部分を通して循環することができ、陽極液は他の内部部分 を通して循環することができる。エツチングすべき物質が泪を含むときは、少な くともCu4 イオンを通さないように隔壁を設計する。
また本発明は、他の面として、エツチング液からエツチングされた物質を回収す る方法であって、実質的に閉止された容器にエツチング液を通して、容器内に配 置した陰極と陽極とを接触させ、これらの電極間に電位を印加して、エツチング された物質を電解作用によってエツチング液から除去する方法を提供する。
さらに本発明は、エツチングすべき物質にエツチング液を化学的に作用させる方 法であって、直前に記載した方法によって、エツチング液からエツチングされた 物質を回収することを特徴とする方法を提供する。
なお本発明は、エツチングすべき物質にエツチング液を化学的に作用させる方法 であって、エツチング液中のエツチングされた物質の量を検出し、エツチング液 中に過剰のエツチングされた物質を検出したときに、エツチング液中のエツチン グされた物質の少なくとも一部分をエツチング液から電解的に除去する工程を含 む方法を提供する。
本発明は、他の面として、エツチングすべき物質にエツチング液を化学的に作用 させる方法であって、エツチング液を狭い通路に通し、この通路を通るエツチン グ液を透して光を指向させ、エツチング液を透る光の量を検出して、エツチング 液の光吸収に応じて、エツチング液中のエツチングされた物質の量を指示して、 この量を検出する工程を含む方法を提供する。
また本発明は、他の面として、エツチングすべき物質にエツチング液を化学的に 作用させるエツチング方法であって、このエツチング液に、使用中に消耗するエ ツチング液の成分を添加し、エツチング液の性質を時間をおいて多数回測定し、 この性質が実質的に変化しないことを測定が示すのに応じて添加を停止する方法 を提供する。
さらに本発明は、エツチング液が含むエツチングされた物質を回収する方法であ って陰極液を通過させるが、エツチングされた物質またはこの物質の1つの形を 通過させないような多孔性を有する障壁によって相互に分割された容器の部分に この物質を含むエツチング液と、陽極液とをそれぞれ入れ、このエツチング液と Ili液とに各部分に配置されたそれぞれの電極によって電位を印加し、これに よって、エツチング液からエツチングされた物質を電解作用によって除去する方 法を提供する。
本発明を例示のみの目的のために、添付図面を参照してさらに説明する。
第2図は第1図の装置に組入れる検出器の端面図であり、第3図は第2図の検出 器の斜視図であり、第4図は第3図の検出器に組入れる流路装置の斜視図であり ・ 第5図は本発明によって構成されるエツチング液電解槽の断面図であり、 第6図は第1図の装置の部分切欠き平面図であり、第7図は第2図の検出器の部 分を形成する回路要素の線図であり、 第8図は第2図の検出器の他の回路要素を示す回路線図である。
第1図は本発明によって構成されるエツチング装置の全体配置図である。この装 置は通常のようにエツチング槽10があり、このなかにエツチング液または陰極 液12を入れる。
通常の操作ではポンプP1が液体を槽10から電磁弁14を通し、次に2つの玉 弁16 、18を通してノズル17に送る。ノズル17は図示しないエツチング すべき物体に陰極液を指向させる。陰極液はここから槽10に戻る。通常はノズ ルから出る陰極液の流れを通しCエツチングずべき物体を運動させる段歯をIT する。本発明で使用するのに好ましい陰極液はii■達のアルカリ性CuC1z 液であり、これは、CuCl2、NH4Cl。
およびNll、OHまたは(NL)zcOlの形のNH3からなる。エツチング すべき物体上の銅は、前述のようにエツチングし、これによって生成する陰極液 12は銅含量が多くなる。陰極液を復活することが必要なときは、弁14を閉じ 、ポンプP1を作動させ、電磁弁20を開き、陰極液を玉弁22、弁20、遮断 弁24および管路29を介して電解槽26に通し、電解槽から管路28を通して エツチング槽10に戻す。
電解槽20の構造は第5および6図から一層明かになるであろう。特に、電解槽 は全体が円筒形の上部開放容器30を有し、これはチタンから作ることが好まし い。この容器の頂部は蓋32で閉止することができ、この蓋は下側の溝に封止リ ング34を有する。この蓋は容器30を封止するように係合し、リング34は容 器30の突出リム36に対して周辺封止する。これには、ねじ要素40に蝶形ナ フト38をねじ込んで封止する。ねじ要素40はリム36の下方で容器30の周 辺のまわりに配置した突出ラグ42から上方に延びる。ねじ要素40はラグ42 から蓋32の開孔44を通して上方に延びる。ナンド38は蓋32に対して締め 、蓋をリム3Gと係合するように把持して取付ける。図示のように、開孔44は 132の周辺に開いてもよい。ねじ要素はピボットビン48によって旋回するよ うにラグ42で取付け、これによってまずナツト38を緩めて蓋にかかる圧力を 十分に解放した後に、ねじ要素40を外側に倒して開孔44から外ずことができ る。蓋32を閉止状態とし、容器30の内部を実質的に閉止する。
陽極構造体50は容器30の内部にある。この構造体50は円筒形の白金めっき チタン網陽極52を有し、その反対端は、対向する導電性円板54 、56の各 円形溝に嵌入する。陽極構造体50は容器30の閉止された内部のなかで容器の 残部から分離して隔てられた空間51のなかに保持するうさらに特定すれば、容 器の内部に細長い管形のセラミックスリーブ58を設けて空間51を隔てる。ス リーブ58は対向する円板60 、62の間に保持する。スリーブ58の対向端 は各円板60゜620円形溝に受入れられ、円形封止リング64 、66を溝の なかに配置して、スリーブ58の端と円板60 、62との間の間隙を封止する 。
円板62は容器30の床に載っており、円板60は容器の上端からいくらか下方 に隔っている。中央の導電性ロッド70は円板58に連結し、これから上方に延 びて円板54の開孔を通る。ロンドア0は、円板54を通る位置においてねじが 切ってあり、ねじ要素72はこの上にねし止めしてあり、円板54の外部を締付 けて、円板54 、56の間に陽極50を把持する。スリーブ58の下端におい て、円板62を結合要素80によって容器30の底に固定する。この結合要素8 0は底を通って円板62のなかに延る。ロフト70は円板54から上方に延びて 、円板60の中央開孔を通る。要素84は棒70が円板60から出る部分にねじ 付けし、円板60を下方に押圧して締付け、スリーブ58を円板60 、62の 間に固定する。絶縁性ブ・ノシング86は要素84のねじを切った開孔にねじ付 けして、ここから上方に延びて蓋32の中央開孔を通る。4電性陽極端子90は M32に固定し、ここから垂下って、ブッシング86を通り、円板60に隣接す るロンドア0の端と電気的に接続する。132を取外すときに、端子90はブッ シング86を通して引出すことができるか、またはブッシング86と端子90を 一緒にブッシング84のねじを外して要素84から取外すことができる。
端子90はロフト70に電気的に接続し、ロフトは円板54゜56を介して陽極 に電気的に接続する。
電解槽の陰極100は円筒形のステンレス鋼であり、容器30の側壁の内面にそ って嵌込む形で湾曲しており、容器と緊密に電気的接触する。容器30に形成さ れ端子35がこれと電気的接触する。
陰極液を導入するために容器30の底に〒方人口102を設け、電解ン夜を排出 するために容器の上端に側方出口104を設ける。この配置によって、陰極液は 、スリーブ58と円板60゜62の間に形成される空間51の外部を流れる。陰 極液は入口102からスリーブ58と容器30の側壁との間の空間53を上方に 流れて出口104から外へ出る。
後に述べる目的のために陽極液を導入する手段を設け・陽極液はカップリング要 素8oを通り、ここから上方に流れて・円板56の直立フランジ部の出口開孔8 0aを通り、陽極52の内部に入り、底に向かって流れる。陽極液の出口108 を容器3oの底に設ける。この出口はスリーブ58と容器3oの側壁との間の空 間53のなかで上方に延びて、内部空間51と管110の内部との間に陽極液を 流す取付部分112に続く管110と相互に接続する。この取付具112は円板 6oに担持され、この円板の軸から偏った位置において円板6oを通して陽極液 を流す。
再び第1図に戻って、図示の装置は前述の陽極液115を容れる貯槽120を有 する。ポンプP2は貯槽120からカップリング要素80に陽極液を送り、液は スリーブ58内の空間を上方に流れ、ここで陽極52自身を通り、ここから取付 部分112、管110を通って、出口108から出る。出口108は熱交換器1 24を通して陽極液を貯槽120に戻すように接続する。
前述のように、弁20 、22 、24を開放したときに、ポンプP1の作用に よって槽12から流れを生じ、このなかの陰極液は入口102を通り、出口10 4から出て管28によって槽10に戻る。
前述の陽極液は、もし銅を含まない成分であれば、陰極液のエツチング液と組成 が同一な液体となる。
適当な陽極液は次の成分を含む。
水酸化アンモニウムを容ン夜35% 500m1/l。
塩化アンモニウム 4〜6M この溶液は陰極液に銅成分が存在しなければ、一般にこれと同一であって、後に 述べるように、再生アンモニアの源として使用することができる。
スリーブ58は多孔性セラミック材料で作り、液体が自由に通ることができる。
孔の大きさは、後に述べるように、電解槽の作用を容易にする大きさとする。た だ留意すべき点は、孔の大きさが陽極液がスリーブを通ることができて、陽極液 と陰極液とが一緒になって、陰極100から陽極50に向かって連続する電解液 の通路となるようにする。
過剰の銅を陰極液から除去するために、陽極液と陰極液とを電解槽26を通して 前述のように循環させ、電源130から陽極と陰極とに電位を印加する。その結 果陰極100に銅が沈着する。陰極を前述のように嵌入形ステンレス鋼のような 適当な材料で作ることによって、銅を沈着した後に、陰極を電解槽26から外し て撓めることによって、この銅を除去することができる。電源130は陽極と陰 極との間に電源容量300Aで15Vを供給できるものであれば有効に作用する ことが判明した。
スリーブ58によって表される障壁は次の目的に役立つ。
まず、陰極100において、第二銅イオンが次の反応によって第一銅イオンに還 元されるか、H” +e” =H’およびCu”+H’ −”Cu” +H’ま たは水素の還元に必要な電位よりいくらか負の電位を陰極に印加したときに、さ らに反応が進んで金属銅に還元される。
Cu”+e−→Cu’ しかし単に第一銅イオンまで還元される第二銅イオンの部分は効率の全体の損失 を表すに過ぎない。また第一銅イオンはつづいて大気の酸素によって酸化されて 第二銅イオンに戻る傾向がある。あるいは、陰極液が陽極液と自由に混合すると 、この再酸化がさらに急速におきる。これは次の反応によって陽極で酸素が発生 するためである。
20H−28−=HzO+’AOz スリーブ58が形成する障壁は、陰極液と陽極液との混合、および陽極領域にお ける第一銅イオンの再酸化を防止するのに役立つとともに、電極間を横切る電気 化学的勾配を、陰極の分極を高めるように変えて、第一銅イオンを還元し、さら に第二銅イオンさえも還元して金属銅にすることができる。
操作の自動化を高めるために、電解槽26の操作を開始すべき条件を検知して、 陰極液の銅含量を適切に保持することが必要である。この操作は銅検出器および 指令装置132の制御の下で行なうことができる。これは陰極液貯槽10と電解 槽26とを連結する管29から流体が流れる管31を経て分流する少量の陰極液 を受入れるように配置しである。管31は適当な濾過器134、さらに装置13 2、次に電解槽26の出口にある管28に戻ってこれに接続する。
銅検出器および指令装置132の目的は陰極液の銅含量をモニタすることである 。一般に、これは陰極液を濾過器134から液流部材136に通ずことによって 行なわれる。光ビームは液流部材およびこのなかを流れる陰極液に指向し、透過 した光の相対的な強度を検出して陰極液の光吸収を測定する。第4図にさらに分 りやすく示すように、液流部材136は光透過性のプラスチック材料で作、った 偏平な本体138を存する。この本体は2つの平行して対向する平なパネル13 9 、141を表す。これらの間の空間は4つの側で閉止してあり、これらの間 に内室143を形成する。内室143は小さいパネル139 、141の間の間 隙rGJを示す。この間隙は0.35flより小さいことが好ましい。本体13 8の両端に、導入および排出の管131a 。
131bを設けて、液流部材を前記管31に結合する。ヘリウム−ネオンレーザ −管145を光源とし、これから出る光が、光路145aにそって、バンドフィ ルタ147、ビームスブリ・ノドミラー149、次にパネル141 、139に 直角に本体138を通り、本体138のなかの陰極液を通過して、パネル139 から出る。
光検出器151を配でして透過した光を受ける。液流部材136は支持ハウジン グ139のなかの空洞に入れる。ハウジングは開孔139a 、 139bを有 し、レーザー管145からのレーザー光の通路とする。
陰極液の銅含量は、波長約633nM(レーザー管145で発生する光の波長) における陰極液の光吸収を測定してモニタする。この633 n M波長は錯塩 (CLI(N)+3)4) ” のピーク吸ルタであって、青および緑の妨害放 射を最小にする。
検出器151からの信号は、第8図に示すように処理する。
たとえば図示のサンプル・保留回路155で検出器からの測定信号出力をサンプ リングしかつ保苅し、サンプル信号を比較器156に通して、その値を参照信号 と比較して前述の弁およびポンプ、特に電磁弁14 、20を制御するのに適当 な信号を出力する。光の吸収は錯塩CCu(NH*)4〕”の含量の増加につれ て増加するので、比較器は、検出器151からのサンプル信号が所望の参照値よ り小さい間は、弁14を閉止し、弁20を開放する出力信号を発生ずるのに役立 つ。こうしてこの装置はポンプP1を周期的に作動させ、弁14を閉止し、弁2 0を開放して、陰極液を銅検出器、指令装置132および電解槽26に通す。こ れを行なうために、銅含量が最適の操作に必要な値より多いことを比較器156 によって測定すると、比較器156は電源130が電解槽26の陰極と陽極との 間に電位を印加するように制御信号を発生する。この操作は、比較器156から の制御信号が銅含量が所望の値に低下したことを示すときまで1!続し、その後 回20を閉止し、弁24を開放して装置を正常の使用に戻す。この装置は次に所 望に応じて電解槽26を排出させる。
参照信号は、ビームスブリットミラー149からの反射光を受ける参照検出器1 53から比較器156に入れることができる。
従ってレーザー管の出力が変化して透過光検出器151に入る光が変化しても、 検出装置132を流れる陰極液の銅濃度に関係なく、検出器132から比較器1 56に入る所望の参照水準を、光の変化を補償するように変化させることができ る。
前記錯塩(Cu(NH*)t) ”の光吸収は極めて大きいので、このために液 流部材138をその内室143が光の通路に直角な方向において狭いように配置 する。さらに、光の通路に直角な内室の平面の面積を比較的大きくすることによ って、適当な光が内室を通るようにすることができる。このような便宜があるの で、光電倍増管などに頼らずに簡単な光測定器で検出器151を形成することが 可能なことが判明した。
陰極液が電解槽26のなかにあって、この電解槽を作動させる必要がないときは 、陽極と陰極との間に、陰極上の銅が陰極液によってエツチングされることを防 +hするのに十分な電位差を印加することが望ましい。このようなときには図示 の電5t37のような付加的な電源を使用して満足な結果を得ることが判明した 6電源137は陽極と陰極との間に5■の電位を印加し、約10Aの容量をもつ ことができる。2つの電源130 、137が電解槽26に印加する電位を制御 することは、銅検出器および指令装置132の制御によってスイツチ150を作 動させ、所望のように電解槽に送る電源を切換える。
蒸発によって、またはエツチング後に陰極液から取出1−た物体に付着して、ア ンモニアが陰極液から損失するので、陰極液のアンモニア含量を補給する何らの 手段を設けることが必要である。第1図において、アンモニア補給器180とポ ンプP3とを示し、このポンプはタイマ182の制御によって貯槽lO内の陰極 液にアンモニアを周期的に添加する。
陰極液の光吸収が、アンモニア含量によって影響を受けるのは、二の場合である 。従って指令装置132を反復して稼動させるためには、この装置が銅含量を測 定する前に、陰極液を補給する必要がある。アンモニアの量が不足すると、陰極 液のなかでCCu(Nli*)t) ”錯塩の形になることができない銅もでき ろ。もしアンモニアの量が、実質的にすべての銅を錯塩の形にするできるのに十 分な量より少ないときには、十分な量になるまでアンモニアを添加するのQ、: 伴なって光吸収が増加するであろう。この条件に達した後は、さら乙こ添加して も吸収が増加しないことが判明した。従って、検出・指令装置132が、ポンプ P3を作動させて補給を開始し、この装置132を通過する陰極液の光吸収が変 化しない状態であってさらにアンモニア補給の必要がないことを検出することに よってアンモニアの補給を制御することができる。第7図はこの目的のための装 置1320回路を例示する。陰極液が液流部材136を通って流れると、検出器 151によって検出された信号はサンプル・保持回路185に送られる。サンプ ル・保蒋回路152からのサンプルは、一方において直接比較器184に、他方 においてメモリ186に送られる。比較器は回路182からの新しい各サンプル をメモリー186に記憶しておいた前のサンプルと比較して、2つの連続する試 料が同一の値を示すか否かに応じて、その出力において制御信号を発生する。こ の装置は周期的にアンモニア補給器180を作動させて、陰極液の一連の補給を 行ない、第7図について記載したよ・うに各補給の後に、陰極液の光吸収を測定 し、前後する2つの補給が同様な光吸収を示すことを検出したとき、またはこの ような検出の後に所定の時間をおいてアンモニアの補給を停止する。
あるいは単一の補給を行なって、前後する補給が同様な光吸収を示すことを検出 するまで、またはその後に所定の時間が経過するまで継続して添加する。こうし て、比較器からの制御信号はこのときにポンプP3を制御して、補給を停止する 。
ここに記載した装置は使用中に特に有利なことが判明した。
タイマ182を調節して、所定の時間をおいてアンモニア補給を自動的に開始さ せると、装置132が作動して、陰極液のアンモニア含量を所望のように調節し 、その後に装置132は電解槽26の必要な操作を自動的に行なうことができる 。こうして、陰極液の組成を実質的に自動制御することができる。
陽極液循環回路の熱交換器124は特に有利であることが判明した。実施中に電 解槽26のなかに相当な熱が発生する、陰極液の作用は温度条件を適当に保持す ることに依存するので、電解槽、従って陰極液から陽極液に熱交換して熱を除去 する能力、従って熱交換器124から熱を除去する能力によって、固有の操作条 件を保持することができる。必要であればセンサを使用して熱交換器124のな かの熱除去を調節することができる。
ここに記載した装置は、1つの特定な陰極液すなわちアンモニア性塩化銅の使用 について詳細に説明したが、この装置および方法は他のエツチング剤を使用する エツチング系にも同様に応用することができる。さらに特定すれば、本発明は、 次の公知のエツチング剤、すなわち酸性塩化第二銅、過硫酸アンモニウム、ペル オクソ硫酸、塩化第二鉄、クロム酸を使用する装置に応用することができる。
ここに記載した装置において、装置132はアンモニアの添加が陰極液の光吸収 に変化を生しさせる条件を検出することによって、アンモニア添加量を調節する ように作用する。勿論他の手段たとえば装置132が直接陰極液のp Hを測定 するようにして、この調節を行なうことができる。
請求の範囲に規定する本発明の精神および範囲から逸脱することな(、本発明に これらおよび多くの変更を加えることができるであろう。
国際v4立報告

Claims (29)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.エッチング液からエッチングされた物質を回収するのに使用する電解槽であ って、実質的に閉止されたかまたは閉止できる容器内に陰極および陽極を配置し 、この容器にエッチング液を通すための流入および流出の手段を設け、かつ電極 は、容器にエッチング液を通し、電極間に電位を印加するときに、エッチングさ れた物質を電極の1つに沈着させるように配置した電解槽。
  2. 2.エッチングすべき物質にエッチング液が化学的に作用する型のエッチング装 置であって、エッチングされた物質を電着してエッチング液からこのエッチング された物質を回収する電解槽を設け、この電解槽が内部に陰極および陽極を配置 した実質的に閉止されたかまたは閉止できる容器の形であり、この容器が入口お よび出口を有し、この入口から容器を通して出口にエッチング液を流すために送 液手段を設け、これによってエッチング液を容器に通し、電極に電位を印加する ときに、エッチングされた物質が電極の1つに沈着するエッチング装置。
  3. 3.ポンプ手段は、エッチング液貯槽からエッチング液を流すように配置し、こ の貯槽はエッチング液をエッチングされた物質と接触させた後に、エッチング液 を回収する、請求の範囲第2項記載の装置。
  4. 4.エッチングすべき物質にエッチング液が化学的に作用する型のエッチング装 置であって、エッチング液中のエッチングされた物質の量を検出し、かつエッチ ング液中のエッチングされた物質の過剰を検出したときに、この物質の少なくと も一部分をエッチング液から電解的に沈着させるように作用する手段を設けたエ ッチング装置。
  5. 5.エッチングすべき物質にエッチング液が化学的に作用し、かつエッチング液 中のエッチングされた物質の量を検出する手段を有するエッチング装置であって 、この検出手段は、狭い通路を通してエッチング液を通過させるように作用する 手段と、この通路を通して流れるエッチング液を透して光を指向させる手段と、 エッチング液を通過する光の量を検出し、エッチング液による光の吸収に応じて 、エッチングされた物質の量を指示する手段とを有するエッチング装置。
  6. 6.検出手段は、光の吸収をエッチング液中のエッチングされた物質の量が所定 の水準を超えて増加したことを示すときに、電解槽を動作させて、この物質の量 を所定の水準より低い水準に減少させるように連結された、請求の範囲第5項記 載のエッチング装置。
  7. 7.通路は、光の通過方向において狭いか、これに直角な方向において広い、請 求の範囲第6項記載の装置。
  8. 8.エッチングすべき物質にエッチング液が化学的に作用するエッチング装置で あって、エッチング液の少なくとも1つの成分の含量をモニタし、この濃度が所 定の水準より低下したときに、この成分の量をエッチング液に添加する手段を有 するエッチング装置。
  9. 9.エッチングすべき物質にエッチング液が化学的に作用するエッチング装置で あって、装置の使用中に消耗する傾向があるエッチング液の成分を連続的に1回 か、または個別的に多数回エッチング液に添加する手段を有し、この装置は、使 用中に添加している間、エッチング液の性質をモニタし、前の測定に比べて、性 質が変化したか否かを測定するように配置されているエッチング装置。
  10. 10.エッチング液の性質がもはや変化していないことが判明した後に、添加動 作を停止するように配置されている、請求の範囲第9項記載の装置。
  11. 11.エッチング液の物理的性質はエッチング液による光の吸収である、請求の 範囲第9または10項記載の装置。
  12. 12.特定の波長または波長帯におけるエッチング液による光の吸収が、測定さ れるエッチング液の性質である、請求の範囲第9または10項記載の装置。
  13. 13.成分の添加が自動的に開始するように配置されている、請求の範囲第9〜 12項のいずれかに記載の装置。
  14. 14.エッチング液が含むエッチングされた物質を回収するための電解槽であっ て、容器内に陰極および陽極と、この容器の内部を2つの部分に分割する障壁と を有し、その1つの部分が陰極を有し、他の部分が陽極を有し、この障壁を通る 以外は内部部分の間で液体が使用中に連通することを妨げ、この容器が1つの内 部部分にエッチング液を受入れ、他の内部部分に陽極液を受入れるように配置さ れ、この障壁が、陽極液は通過させるが、エッチングされた物質または少なくと も何らかの形のこの物質は通過させないような多孔性であり、エッチング液およ び陽極液は使用中に電極間に電気的に連続な媒質を形成し、電極間に電位を印加 したときに、エッチングされた物質が電解作用によって陰極に沈着するように配 置されている電解槽。
  15. 15.電解槽は閉止されたかまたは閉止できる、請求の範囲第14項記載の電解 槽。
  16. 16.エッチングされた物質を含むエッチング液が1つの内部部分を通して循環 するように配置された、請求の範囲第14または15項記載の電解槽。
  17. 17.陽極液が他の内部部分を通して循環するように配置された、請求の範囲第 16項記載の電解槽。
  18. 18.障壁は、少なくともCu+イオンを通さないように設計されている、請求 の範囲第14〜17項のいずれかに記載の電解槽。
  19. 19.エッチング液からエッチングされた物質を回収する方法であって、実質的 に閉止された容器にエッチング液を通して、容器内に配置した陰極と陽極とを接 触させ、これらの電極間に電位を印加して、エッチングされた物質を電解作用に よってエッチング液から除表する方法。
  20. 20.エッチングすべき物質にエッチング液を化学的に作用させる方法であって 、請求の範囲第18項記載の方法によって、エッチング液からエッチングされた 物質を回収することを特徴とする方法。
  21. 21.エッチングすべき物質にエッチング液を化学的に作用させる方法であって 、エッチング液中のエッチングされた物質の量を検出し、エッチング液中に過剰 のエッチングされた物質を検出したときに、エッチング液中のエッチングされた 物質の少なくとも一部分をエッチング液から電解的に除去する工程を含む方法。
  22. 22.エッチングすべき物質にエッチング液を化学的に作用させる方法であって 、エッチング液を狭い通路に通し、この通路を通るエッチング液を透して光を指 向させ、エッチング液を透る光の量を検出し、エッチング液による光の吸収に応 じて、エッチング液中のエッチングされた物質の量を指示する工程を含む方法。
  23. 23.エッチングすべき物質にエッチング液を化学的に作用させる方法であって 、エッチング液の少なくとも1つの成分をモニタし、この濃度が所定の水準より 低下したときに、この成分の量をエッチング液に添加する方法。
  24. 24.エッチングすべき物質にエッチング液を化学的に作用させるエッチング方 法であって、このエッチング液に、使用中に消耗するエッチング液の成分を添加 し、エッチング液の性質を時間をおいて多数回測定し、この性質が実質的に変化 しないことを測定が示すのに応じて添加を停止する方法。
  25. 25.エッチング液が含むエッチングされた物質を回収する方法であって、陽極 液を通過させるが、エッチングされた物質またはこの物質の1つの形を通過させ ないような多孔性を有する障壁によって相互に分割された容器の部分にこの物質 を含むエッチング液と、陽極液とをそれぞれ入れ、このエッチング液と陽極液と に各部分に配置されたそれぞれの電極によって電位を印加し、これによって、エ ッチング液からエッチングされた物質を電解作用によって除去する方法。
  26. 26.添付図面を参照して、ここに実質的に記載されたエッチング装置。
  27. 27.添付図面を参照して、ここに実質的に記載された電解槽。
  28. 28.添付図面を参照して、ここに実質的に記載されたエッチング方法。
  29. 29.ここに開示された工程もしくは性質またはその組合せ。
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