JPS614429U - 半導体ウエ−ハの流水洗浄装置 - Google Patents

半導体ウエ−ハの流水洗浄装置

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JPS614429U
JPS614429U JP8742384U JP8742384U JPS614429U JP S614429 U JPS614429 U JP S614429U JP 8742384 U JP8742384 U JP 8742384U JP 8742384 U JP8742384 U JP 8742384U JP S614429 U JPS614429 U JP S614429U
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JP
Japan
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semiconductor wafer
running water
cleaning equipment
slat
wafer cleaning
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Application number
JP8742384U
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English (en)
Inventor
康雄 山田
Original Assignee
株式会社東芝
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はこの考案の１実施例のウエーハ用流水洗浄装置
の正面断面図、第２図および第３図はウエーハキャリャ
に関し、第２図は斜視図、第３図は断面図、第４図は従
来のウエーハ用流水洗浄装置の正面断面図である。 １・・・・・・噴水口、１００・・・・・・ウエーハ、
１０１・・・・・・ウエーハキャリャ、１０２・・・・
・・流水洗浄槽、１０３・・・・・・すのこ、１０４・
・・・・・シャワ配管、１０５・・・・・・ヒータ。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 流水洗浄槽と、前記流水洗浄槽内の底部に設けられ複数
    の半導体ウエーハを各主面の周辺で支持し並立させたウ
    エーハキャリャを載置するすのこと、前記すのこの下方
    に設けられ洗浄水をシャワ状に噴上げるシャワ配管およ
    びヒータと、前記流水洗浄槽の側壁に設けられウエーハ
    キャリャ内の半導体ウエーハに対し主面に沿う方向の水
    流を形成する噴水口とを具備した半導体ウエーハの流水
    洗浄装置。
JP8742384U 1984-06-14 1984-06-14 半導体ウエ−ハの流水洗浄装置 Pending JPS614429U (ja)

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JP8742384U JPS614429U (ja) 1984-06-14 1984-06-14 半導体ウエ−ハの流水洗浄装置

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JPS614429U true JPS614429U (ja) 1986-01-11

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