JPS6143726B2 - - Google Patents

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JPS6143726B2
JPS6143726B2 JP52154085A JP15408577A JPS6143726B2 JP S6143726 B2 JPS6143726 B2 JP S6143726B2 JP 52154085 A JP52154085 A JP 52154085A JP 15408577 A JP15408577 A JP 15408577A JP S6143726 B2 JPS6143726 B2 JP S6143726B2
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JP
Japan
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positional deviation
light
scanning
detected
detection
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Application number
JP52154085A
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Japanese (ja)
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JPS5486271A (en
Inventor
Nobushi Suzuki
Shinichi Uno
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication of JPS5486271A publication Critical patent/JPS5486271A/en
Publication of JPS6143726B2 publication Critical patent/JPS6143726B2/ja
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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体ペレツト等の微小部材の位置ず
れを高精度に検出し、上記位置ずれを補償して正
確なワイヤボンデイングを行い得る部材の位置ず
れ検出方法及びそれを利用したワイヤボンデイン
グ装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a method for detecting positional deviation of a minute member such as a semiconductor pellet with high precision, and a method for detecting positional deviation of a member such that accurate wire bonding can be performed by compensating for the positional deviation, and the use thereof. The present invention relates to a wire bonding device.

半導体装置を製造する場合、そのデバイスとパ
ツケージの電極との間を配線するワイヤボンデイ
ングは欠くことのできない技術である。このワイ
ヤボンデイング工程を自動化するために従来より
種々のワイヤボンデイング装置の開発が進められ
ている。一方、近時半導体製造技術の向上に伴い
半導体パターンが微細で、しかも複雑なものが多
くなつてきた。同時に高集積化によつて微小な半
導体デバイス上に多くの配線(ワイヤボンデイン
グ)を行う必要も生じた。このような微細なワイ
ヤボンデイングを高精度に行う為には、前記半導
体デバイス等の正確な位置検出が重要なポイント
となる。そこで従来より数多くの位置検出方法、
またそれを利用したワイヤボンデイング装置が提
唱されているがそれぞれ種々の問題を有し、例え
ば複雑で大掛な装置となり価格高になる。あるい
は位置検出に長い時間を要し、生産性が悪い等の
欠点があつた。
When manufacturing semiconductor devices, wire bonding is an indispensable technique for wiring between the device and the electrodes of the package. In order to automate this wire bonding process, various wire bonding devices have been developed. On the other hand, with recent improvements in semiconductor manufacturing technology, semiconductor patterns have become increasingly fine and complex. At the same time, with the increase in integration, it has become necessary to perform many wiring lines (wire bonding) on microscopic semiconductor devices. In order to perform such fine wire bonding with high precision, accurate position detection of the semiconductor devices and the like is an important point. Therefore, there are many position detection methods,
Further, wire bonding devices using this method have been proposed, but each has various problems, for example, it becomes a complicated and large-scale device and becomes expensive. In addition, it takes a long time to detect the position, resulting in poor productivity.

本発明はこの様な事情を考慮してなされたもの
で、その目的とするところは、微細なパターンを
有する半導体ペレツトなどの小さな部材に対し、
半導体ペレツトのスクライブ面に生じる欠損部分
等による悪影響を除外して常に高精度に、かつ短
時間にその位置ずれを検出し得、この検出結果に
基づいてボンデイング位置を補正して正確なワイ
ヤボンデイングを行なうことができ、装置の簡単
化とともに自動化・省力化を図つて生産性の向上
に寄与することのできる部材の位置ずれ検出方法
及びそれを利用したワイヤボンデイング装置を提
供することにある。
The present invention has been made in consideration of these circumstances, and its purpose is to provide small parts such as semiconductor pellets with fine patterns.
It is possible to detect positional deviations with high precision and in a short time by excluding the adverse effects of defects such as defects that occur on the scribe surface of semiconductor pellets, and to correct the bonding position based on the detection results to ensure accurate wire bonding. The object of the present invention is to provide a method for detecting positional deviation of a member, which can simplify the device, automate it, save labor, and contribute to improving productivity, and a wire bonding device using the method.

以下本発明の一実施例に基づいて位置ずれ検出
方法とそれを利用したワイヤボンデイング装置を
詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A positional deviation detection method and a wire bonding apparatus using the method will be described in detail below based on an embodiment of the present invention.

第1図はワイヤボンデイング装置の概略構成図
である。基台1上にはXYテーブル2が設けられ
ている。このXYテーブル2はパルスモータ3に
よつて図中Y方向に移動制御されて位置決めされ
るYテーブル2yと、このYテーブル2y上に設
けられ、パルスモータ4によつて図中X方向に移
動制御されて位置決めされるXテーブル2xとに
よつて構成されている。このようなXYテーブル
2上には、支持台5によつて上下方向に回動自在
に設けられたアーム6が設けられている。このア
ーム6の後端部には回転体よりなるカムホロア7
が取り付けられている。このカムホロア7は前記
XYテーブル2上に固定されたモータ8によつて
回転されるカム9に当接して上下動されるもの
で、従つてアーム6は前記支持台5の支持軸を回
動中心として上下動する。このアーム6の前端部
は前記XYテーブル2面から突出するもので、上
記端部にはボンデイングキヤピラリ10が取り付
けられている。このボンデイングキヤピラリ10
は、前記XYテーブル2に固定されたボビン11
に巻装されたワイヤ12の供給を受け、後述する
被位置検出部材で、且つ被ボンデイング加工物と
しての半導体ペレツトのワイヤボンデイングを行
うものである。また前記XYテーブル2には支持
部材13が固定されている。この支持部材13は
投光器14と、光電変換素子等で構成された光検
出器15とを保持するものである。この投光器1
4と光検出器15については後に説明する。
FIG. 1 is a schematic diagram of a wire bonding apparatus. An XY table 2 is provided on the base 1. This XY table 2 includes a Y table 2y whose movement is controlled and positioned in the Y direction in the figure by a pulse motor 3, and a Y table 2y provided on this Y table 2y, whose movement is controlled in the X direction in the figure by a pulse motor 4. The X-table 2x is configured by an X-table 2x that is positioned by On the XY table 2, an arm 6 is provided which is rotatable in the vertical direction by a support base 5. A cam follower 7 consisting of a rotating body is provided at the rear end of this arm 6.
is installed. This cam follower 7 is
The arm 6 is moved up and down in contact with a cam 9 rotated by a motor 8 fixed on the XY table 2, and therefore the arm 6 moves up and down around the support shaft of the support base 5. The front end of this arm 6 protrudes from the surface of the XY table 2, and a bonding capillary 10 is attached to the end. This bonding capillary 10
is the bobbin 11 fixed to the XY table 2
A wire 12 wound around the wire 12 is supplied to perform wire bonding of a semiconductor pellet, which is a position detection member to be described later and also serves as a workpiece to be bonded. Further, a support member 13 is fixed to the XY table 2. This support member 13 holds a light projector 14 and a photodetector 15 composed of a photoelectric conversion element or the like. This floodlight 1
4 and the photodetector 15 will be explained later.

一方、前記基台1の側部、つまりアーム6に取
り付けられXYテーブル2面から突出しているボ
ンデイングキヤピラリ10の下方位置にはフレー
ム台16が設置されている。このフレーム台16
上には前記半導体ペレツト17を等間隔に所定個
数(ここでは6個)並べたリードフレーム18が
ステツプ状に送られてくる。このフレーム台16
上に送られてきた前記半導体ペレツト17に対し
て前記ボンデイングキヤピラリ10によつてワイ
ヤボンデイングを行う。即ち、半導体ペレツト1
7はリードフレーム18上に載置され、フレーム
台16上に1フレームずつステツプ状に送られて
くる。この送られてきた半導体ペレツト17に対
し、ボンデイングキヤピラリ10は、その対向位
置を前記XYテーブル2の移動によつて制御さ
れ、各半導体ペレツト17を順次ワイヤボンデイ
ングする。そして全半導体ペレツト17に対して
ワイヤボンデイングが行われた後には新しい半導
体ペレツト17を載せたリードフレーム18が送
られ、同様にしてワイヤボンデイングが行われ
る。
On the other hand, a frame pedestal 16 is installed on the side of the base 1, that is, below the bonding capillary 10 that is attached to the arm 6 and protrudes from the surface of the XY table 2. This frame stand 16
A lead frame 18 having a predetermined number (six in this case) of the semiconductor pellets 17 arranged at equal intervals is fed onto the lead frame 18 in a stepwise manner. This frame stand 16
Wire bonding is performed on the semiconductor pellet 17 sent upward by the bonding capillary 10. That is, semiconductor pellet 1
7 is mounted on a lead frame 18, and sent one frame at a time onto the frame stand 16 in a stepwise manner. The position of the bonding capillary 10 facing the sent semiconductor pellets 17 is controlled by the movement of the XY table 2, and each semiconductor pellet 17 is sequentially wire bonded. After wire bonding has been performed on all semiconductor pellets 17, a lead frame 18 carrying a new semiconductor pellet 17 is sent, and wire bonding is performed in the same manner.

さて、前記投光器14はキヤピラリ10の直下
に位置する半導体ペレツト17に対して斜め上方
から光を照射している。この投光器14は第2図
に示すように発光体(ランプ)14aからの光を
スリツト孔14bを介して、そしてレンズ14c
により集光して照射するものである。この照射さ
れる光は、スリツト孔14bとレンズ14cとの
作用によつて扁片に集光されたもので、第2図に
おいては矢印A方向に扁平され、紙面表裏の方向
に長いものとなつている。このような光を半導体
ペレツト17に対して照射した場合、上記ペレツ
ト17上に照射された光は図中P点で反射する。
またペレツト17から外れた光はペレツト17を
載置するリードフレーム18の面Qで反射し、図
中破線で示すような光路をとる。従つて、前記光
による照射領域は、例えば第3図aの斜線部Bに
示すように、光切断効果によつてずれが生じてく
る。この光切断効果によつて生じる半導体ペレツ
ト17上の照射領域B(p)と、これを含む領域
の像を光検出器15によつて走査検出して半導体
ペレツト17の正規の位置からのずれを検出す
る。即ち、光検出器15は、照射領域Bでの反射
光を集光するレンズ15aと、この集光された光
を検出する一次元配列された受光素子アレイ15
bとからなるものである。そして、前記ペレツト
17の照射領域Bを含む特定幅l,m間の光強度
を第3図中、cに示すように検出している。かく
して、光検出器15によつて検出される検出位置
(図中l,m間)における光強度は例えば第3図
bに示すようになる。この信号は、第1図に戻つ
て、位置検出器21に入力されている。この位置
検出結果に基づいて前記ボンデイングキヤピラリ
10のペレツト17に対する位置決め(ずれの補
正)が行われ、前述したボンデイングが行われ
る。
Now, the light projector 14 irradiates light onto the semiconductor pellet 17 located directly below the capillary 10 from diagonally above. As shown in FIG. 2, this projector 14 transmits light from a light emitter (lamp) 14a through a slit hole 14b and a lens 14c.
The light is focused and irradiated by the irradiation method. This irradiated light is focused on a flat piece by the action of the slit hole 14b and the lens 14c, and in FIG. 2, it is flattened in the direction of arrow A and elongated in the direction of the front and back of the page. ing. When the semiconductor pellet 17 is irradiated with such light, the light irradiated onto the pellet 17 is reflected at a point P in the figure.
Further, the light that has left the pellet 17 is reflected by the surface Q of the lead frame 18 on which the pellet 17 is placed, and takes an optical path as shown by the broken line in the figure. Therefore, the area irradiated with the light is shifted due to the light cutting effect, as shown, for example, in the shaded area B in FIG. 3a. The photodetector 15 scans and detects the image of the irradiated area B(p) on the semiconductor pellet 17 caused by this light cutting effect and the area including this, and detects the deviation of the semiconductor pellet 17 from its normal position. To detect. That is, the photodetector 15 includes a lens 15a that collects reflected light from the irradiation area B, and a one-dimensionally arranged light receiving element array 15 that detects the collected light.
It consists of b. Then, the light intensity between specific widths l and m including the irradiation area B of the pellet 17 is detected as shown in c in FIG. Thus, the light intensity at the detection position (between l and m in the figure) detected by the photodetector 15 is as shown in FIG. 3b, for example. Returning to FIG. 1, this signal is input to the position detector 21. Based on this position detection result, the bonding capillary 10 is positioned relative to the pellet 17 (correction of deviation), and the bonding described above is performed.

次に、上記光検出によるペレツト17の位置検
出、つまり正規の位置からのずれ量を検出する方
法について説明する。
Next, a method for detecting the position of the pellet 17 by the above-mentioned optical detection, that is, a method for detecting the amount of deviation from the normal position, will be explained.

半導体ペレツト17は第3図aに示すように所
定のパターン17aが形成されたものである。こ
のパターン17aを除く領域17bの反射率は上
記パターン17aと異にするもので、従つて検出
光量の差から容易に識別することができる。そこ
で今、ペレツト17の各辺に対してそれぞれ等角
度で走査するように走査範囲(l,m間)を設定
する。このとき、光検出器15による検出信号レ
ベルから、第3図bに示すように走査端lからパ
ターンエツジ迄の長さa、またパターンエツジ間
の長さb、パターンエツジから走査端mまでの距
離を容易に求めることができる。例えば位置検出
器21によつて、走査幅l,mを等速度で走査
し、パターンエツジによつて検出レベルが変化す
るときの各時間を高速クロツクパルスを計数する
ことによつて達し得る。しかるのち、上記長さ情
報a,b,cをインターフエース22を介してボ
ンデイング制御装置23に入力する。この制御装
置23は演算回路、比較回路等を備えたマイクロ
コンピユータ等によつて構成されるもので、外部
に記憶回路24を備えて所定の演算処理を行つて
いる。即ち、前記走査範囲l,mは、制御装置2
3の制御によつて、ペレツト17が正規の位置に
あるとき、長さaとcとが一致し、且つ、長さb
が定められた値bpになるように設定されてい
る。従つて、ペレツト17の位置検出によつて得
られた長さ情報a,b,cから所定の演算処理を
行えば、ずれ量ΔX,ΔYを算出することができ
る。上記位置ずれ量ΔX,ΔYはそれぞれ次式で
示される。
The semiconductor pellet 17 has a predetermined pattern 17a formed thereon as shown in FIG. 3a. The reflectance of the region 17b excluding the pattern 17a is different from that of the pattern 17a, and therefore can be easily identified from the difference in the amount of detected light. Therefore, the scanning range (between l and m) is now set so that each side of the pellet 17 is scanned at equal angles. At this time, from the detection signal level of the photodetector 15, as shown in FIG. Distance can be easily determined. This can be achieved, for example, by scanning the scan widths l, m at a constant speed with the position detector 21, and counting high-speed clock pulses each time the detection level changes due to a pattern edge. Thereafter, the length information a, b, c is input to the bonding control device 23 via the interface 22. This control device 23 is composed of a microcomputer or the like equipped with an arithmetic circuit, a comparator circuit, etc., and is equipped with an external storage circuit 24 to perform predetermined arithmetic processing. That is, the scanning ranges l and m are
3, when the pellet 17 is in the normal position, the lengths a and c match, and the length b
is set so that it becomes a predetermined value b p . Therefore, by performing predetermined arithmetic processing from the length information a, b, and c obtained by detecting the position of the pellet 17, the deviation amounts ΔX and ΔY can be calculated. The above-mentioned positional deviation amounts ΔX and ΔY are respectively expressed by the following equations.

ΔX=a−c/2・α ………(1) ΔY=b−b/2・tanθ・α ………(2) 但し、αは光検出器14による検出位置の量子
化精度によつて定まる係数であり、θはパターン
エツジがそれぞれ走査方向となす角(交わる角
度)を示している。つまり第(1)式によつて中心位
置(正規位置)からのX方向のずれ量が算出さ
れ、第(2)式によつてY方向のずれ量が算出され
る。
ΔX=a−c/2・α……(1) ΔY=b p −b/2・tanθ・α……(2) However, α depends on the quantization accuracy of the detection position by the photodetector 14. θ indicates the angle (angle at which each pattern edge intersects) with the scanning direction. That is, the amount of deviation in the X direction from the center position (regular position) is calculated using equation (1), and the amount of deviation in the Y direction is calculated using equation (2).

しかしながら、一般にパターン17aはペレツ
ト17の端部に迄近接していることが多く、その
端部にスクライブ加工等によつて欠損した部分が
存在すると、また上記スクライブ加工の粗さによ
つて凸部が生じたりするとその部分で光の乱反射
が起り、光検出器15からの検出信号に第3図b
の点線で示すような信号が附加される。したがつ
て、検出した位置ずれ量ΔX,ΔYに誤差を生じ
る。つまり第3図cのような状態で検出すること
になる。上記欠損部分は、半導体ペレツト17に
皆無とは云い難く、従つて位置検出精度が悪い。
この状態でボンデイングを行うことは不良品の生
産を招き、好ましくない。そこで本発明方法では
ペレツト端部の欠損あるいは凸部による光乱反射
が極所的であることを利用して、次のようにして
上記誤差を除去している。
However, in general, the pattern 17a is often close to the end of the pellet 17, and if there is a chipped part at the end due to scribing or the like, or due to the roughness of the scribing, the pattern 17a may be close to the end of the pellet 17. If a
A signal as shown by the dotted line is added. Therefore, errors occur in the detected positional deviation amounts ΔX and ΔY. In other words, detection is performed in a state as shown in FIG. 3c. It is difficult to say that the semiconductor pellet 17 is completely free of the above-mentioned defective portions, and therefore the position detection accuracy is poor.
Performing bonding in this state is undesirable because it leads to the production of defective products. Therefore, in the method of the present invention, the above-mentioned error is eliminated in the following manner by taking advantage of the fact that the scattered light reflection due to defects or convex portions of the pellet ends is localized.

即ち、第4図に示すように走査範囲l,mを、
その走査検出方向に対して直角な方向(ここでは
Y方向)に移動させ、C1,C2,C3なる検出を行
う。そして、上記各走査C1,C2,C3によつてそ
れぞれ検出した位置ずれ量ΔX1,ΔY1,ΔX2
ΔY2,ΔX3,ΔY3を、一且記憶回路24に収納
保持する。これらのずれ量に基づいてペレツト1
7の正しい位置ずれ量検出演算が行われる。今、
ペレツト17に欠損が全くないとすると、次式が
成立する。
That is, as shown in FIG. 4, the scanning ranges l and m are
It is moved in a direction perpendicular to the scanning detection direction (here, the Y direction), and detection of C 1 , C 2 , and C 3 is performed. Then, the positional deviation amounts ΔX 1 , ΔY 1 , ΔX 2 , respectively detected by the above-mentioned scans C 1 , C 2 , C 3 ,
ΔY 2 , ΔX 3 , and ΔY 3 are stored and held in the memory circuit 24. Based on these deviation amounts, pellet 1
7, correct positional deviation amount detection calculation is performed. now,
Assuming that there is no defect in the pellet 17, the following equation holds true.

ΔX1ΔX2ΔX3 ………(3) ΔY1ΔY2+dyΔY3+2dy ………(4) ここで、記号()は前記αによる誤差要素を
考慮している。上記第(3)、(4)式が成立するときに
は、例えば位置ずれ量ΔX,ΔYは ΔX=ΔX+ΔX+ΔX/3 ………(5) ΔY=ΔY+ΔY+ΔY+3dy/3……
…(6) として示すことができる。この場合、いまΔX1
ΔX3\ΔX2あるいはΔY1ΔY3\ΔY2のとき
はC2位置でペレツト端部の影響があるとして、
2つの検出ずれ量ΔX1,ΔY1,ΔX3,ΔY3だけ
を用い ΔX=ΔX+ΔX/2 ………(5)′ ΔY=ΔY+ΔY+3dy/2………(6)
′ として求める。すなわち、ほぼ等しい値の2組以
上の検出ずれ量の平均値を用いる。このようにし
て、すくなくとも2組以上のほぼ等しい検出ずれ
量が得られるまで走査を順次繰り返すことで、ペ
レツト17の欠損に係る走査を演算の対象から除
外し、従つて上記欠損に起因する誤差を除去する
ことができる。また、光電検出位置の量子化精度
に起因する誤差も上記平均化処理を行うことによ
つて緩和することができる。
ΔX 1 ΔX 2 ΔX 3 (3) ΔY 1 ΔY 2 +dyΔY 3 +2dy (4) Here, the symbol () takes into consideration the error element due to α. When the above equations (3) and (4) hold, for example, the positional deviation amounts ΔX and ΔY are ΔX=ΔX 1 +ΔX 2 +ΔX 3 /3 (5) ΔY=ΔY 1 +ΔY 2 +ΔY 3 +3dy/3 ……
…(6) can be shown as. In this case, now ΔX 1
When ΔX 3 \ΔX 2 or ΔY 1 ΔY 3 \ΔY 2 , assuming that there is an influence of the pellet edge at the C 2 position,
Using only two detection deviation amounts ΔX 1 , ΔY 1 , ΔX 3 , ΔY 3 ΔX=ΔX 1 +ΔX 3 /2 ………(5)′ ΔY=ΔY 1 +ΔY 3 +3dy/2……(6)
′. That is, the average value of two or more sets of detection deviation amounts having approximately equal values is used. In this way, by sequentially repeating scans until at least two or more sets of approximately equal detection deviation amounts are obtained, scans related to missing pellets 17 are excluded from calculations, and therefore errors caused by the above-mentioned defects can be eliminated. Can be removed. Further, errors caused by the quantization accuracy of the photoelectric detection position can also be alleviated by performing the above-mentioned averaging process.

しかして、上記の如く検出された位置ずれ量Δ
X,ΔYは位置ずれ補正量としてX方向位置制御
装置25、及びY方向位置制御装置26に印加さ
れ、前記パルスモータ3,4を駆動してXYテー
ブル2の位置決めがなされる。このとき、前記制
御装置23によつてモータ制御装置27が付勢さ
れ、前記モータ8の回転、カム9、カムホロア
7、そしてアーム6の上下動がなされ、ワイマ1
2のペレツト17へのボンデイングが行われる。
そして、1フレームに亘つてペレツト17のボン
デイングが終了したとき、制御装置23はフレー
ムステツプ送り制御装置28を駆動して、次のリ
ードフレーム18上に載置された半導体ペレツト
17をフレーム台16上に導びく。そして同様に
ワイヤボンデイングを行う。
Therefore, the positional deviation amount Δ detected as above
X and ΔY are applied as positional deviation correction amounts to an X-direction position control device 25 and a Y-direction position control device 26, and the pulse motors 3 and 4 are driven to position the XY table 2. At this time, the motor control device 27 is energized by the control device 23, and the motor 8 is rotated, the cam 9, the cam follower 7, and the arm 6 are moved up and down, and the wiper 1
Bonding of the second pellet to the pellet 17 is performed.
When the bonding of the pellets 17 for one frame is completed, the control device 23 drives the frame step feed control device 28 to move the semiconductor pellets 17 placed on the next lead frame 18 onto the frame stand 16. lead to. Then, wire bonding is performed in the same manner.

かくして、このように構成された装置によれ
ば、投光器14により半導体ペレツト17上に形
成された光切断効果による照射像の検出から、上
記半導体ペレツト17の位置ずれ量を容易に且つ
正確に検出することができる。しかもこのとき、
検出値bの大きさから、概略的な半導体ペレツト
17の位置ずれ補正を行い、しかるのち前述した
第(1)、(2)式の演算により正確な位置ずれ補正を行
い得る。また、上記演算に際しては走査検出を行
う位置を、走査方向と直角な方向にdyずつ、ず
らして複数回行い、それらの検出値から演算され
た位置ずれ量ΔX,ΔYが、ある特定された範囲
内にあるものだけを選択して補正量として用いて
いる。従つて、パターンの欠損等による誤差要素
を補正量から除去することができ、常に正確な位
置決めを行い得る。またこの検出方法は前述した
ように簡易で正確なものであり、短時間に測定す
ることができる。その上、簡略化された測定系で
達し得ることができ、安価に実現できる。従つ
て、位置ずれ量検出、位置ずれ量補正、ワイヤボ
ンデイングと云う一連の工程を自動的に行い、生
産性を高めて省力化をはかることができる。
Thus, according to the device configured as described above, the amount of positional deviation of the semiconductor pellet 17 can be easily and accurately detected by detecting the irradiated image formed on the semiconductor pellet 17 by the light projector 14 due to the light cutting effect. be able to. Moreover, at this time,
Based on the magnitude of the detected value b, a rough positional deviation correction of the semiconductor pellet 17 is performed, and then accurate positional deviation correction can be performed by calculating the above-mentioned equations (1) and (2). In addition, the above calculation is performed multiple times by shifting the position for scanning detection by dy in the direction perpendicular to the scanning direction, and the positional deviation amounts ΔX, ΔY calculated from those detected values are calculated within a certain specified range. Only those within the range are selected and used as correction amounts. Therefore, error factors such as pattern defects can be removed from the correction amount, and accurate positioning can always be performed. Furthermore, as described above, this detection method is simple and accurate, and can be measured in a short time. Moreover, it can be achieved with a simplified measurement system and can be realized at low cost. Therefore, a series of processes such as positional deviation amount detection, positional deviation amount correction, and wire bonding can be automatically performed, thereby increasing productivity and saving labor.

また位置ずれ検出方法自体、鮮明な直線状の光
を斜上方から投影して被検出部材(ペレツト1
7)上に光切断効果をもつて光照射面に形成し、
これを直線状に走査して検出すると云う、極めて
簡単なものである。また、上記走査を走査方向と
直角な方向に複数回ずらして行う為に、ペレツト
(パターン)欠損による検出誤差を除去すること
ができ、その効果は絶大なものである。
In addition, the positional deviation detection method itself projects clear linear light from diagonally above to detect the detected member (pellet 1).
7) Formed on the light irradiation surface with a light cutting effect,
This is an extremely simple method of detecting by scanning in a straight line. Furthermore, since the scanning is performed by shifting a plurality of times in a direction perpendicular to the scanning direction, detection errors due to pellet (pattern) defects can be eliminated, and the effect is tremendous.

尚、本発明は上記実施例に限定されるものでは
ない。例えば光検出器15は、一次え配列された
フオトアレイを用い、各アレイ位置における受光
量を検出してもよく、一つの受光器とこの受光器
に光を導びく光学系を移動させて走査するように
構成してもよい。また演算処理系にはマイクロコ
ンピユータ等の装置を用いてもよい。また、被検
出部材(ペレツト17)の回転ずれをも検出して
補正するようにしてもよいことは勿論である。要
するに本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変形して実施することができる。
Note that the present invention is not limited to the above embodiments. For example, the photodetector 15 may use a linearly arranged photo array to detect the amount of light received at each array position, and scan by moving one photoreceiver and an optical system that guides the light to this photoreceiver. It may be configured as follows. Further, a device such as a microcomputer may be used as the arithmetic processing system. It goes without saying that rotational deviation of the detected member (pellet 17) may also be detected and corrected. In short, the present invention can be implemented with various modifications without departing from the gist thereof.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例を示すワイヤボンデ
イング装置の概略構成図、第2図から第4図は、
それぞれ同実施例装置におけるペレツトの位置ず
れ検出方法を説明する為の図である。 2……XYテーブル、10……ボンデイング・
キヤピラリ、12……ワイヤ、14……投光器、
15……光検出器、17……半導体ペレツト、1
8……リードフレーム、21……位置検出器、2
3……ボンデイング制御装置(演算回路、比較回
路)、24……記憶回路、25,26……位置制
御装置、a,b,c……検出値、ΔX,ΔY……
位置ずれ量。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a wire bonding apparatus showing an embodiment of the present invention, and FIGS. 2 to 4 are
FIG. 6 is a diagram for explaining a method for detecting a positional deviation of pellets in the apparatus of the same embodiment. 2...XY table, 10...Bonding/
Capillary, 12... wire, 14... floodlight,
15...Photodetector, 17...Semiconductor pellet, 1
8... Lead frame, 21... Position detector, 2
3... Bonding control device (arithmetic circuit, comparison circuit), 24... Memory circuit, 25, 26... Position control device, a, b, c... Detection value, ΔX, ΔY...
Amount of positional deviation.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 斜上方より光を照射して被検出部材上に光切
断効果による光照射面を形成し、この光照射面を
含む特定幅を直線的に走査して光検出を行ない前
記部材の所定位置からのずれ量を検出する方法に
おいて、前記走査を、少なくとも2つ以上の略等
しい位置ずれ検出値が得られるまで走査位置をそ
の走査方向と直角な方向にずらして複数回行な
い、これらの走査により得られた互いに略等しい
各位置ずれ検出値の平均値もしくはそのうちのい
ずれか一つの位置ずれ検出値を以つて前記部材の
所定位置からの位置ずれ量とすることを特徴とす
る部材の位置ずれ検出方法。 2 被検出部材が載置される載置台と、この載置
台の側部に配置されたXYテーブルと、このXYテ
ーブル上に設けられ、前記被検出部材に斜上方か
ら光を照射して上記部材上に光切断効果による光
照射面を形成する投光器と、前記XYテーブルに
設けられ上記光照射面を含む特定幅を直線的に走
査する光電検出器と、この光電検出器による走査
をその走査方向と直角な方向に移動設定する走査
位置設定手段と、この手段により設定された各走
査位置での前記光電検出器による検出結果からそ
れぞれ前記部材の位置ずれ量を算出する演算回路
と、この演算回路で算出された上記各位置ずれ量
を相互に比較して少なくとも2つ以上の略等しい
位置ずれ量が検出されるまで前記走査位置設定手
段により走査位置を移動させて前記光電検出器に
よる走査を行なわせる比較回路と、この比較回路
により検出された2つ以上の略等しい位置ずれ量
の平均値もしくはそのうちのいずれか一つの位置
ずれ量を入力して前記XYテーブル位置を移動設
定するテーブル位置制御装置と、前記XYテーブ
ル上に設けられ上記テーブル位置制御装置によつ
て定められた位置で前記部材に対してワイヤボン
デイングするワイヤボンデイング機構とを具備し
たことを特徴とするワイヤボンデイング装置。
[Claims] 1. Light is irradiated from diagonally above to form a light irradiation surface due to a light cutting effect on the member to be detected, and a specific width including this light irradiation surface is linearly scanned to perform light detection. In the method of detecting the amount of deviation of the member from a predetermined position, the scanning is performed multiple times by shifting the scanning position in a direction perpendicular to the scanning direction until at least two or more substantially equal positional deviation detection values are obtained. , the average value of the positional deviation detection values that are substantially equal to each other obtained by these scans or the positional deviation detection value of any one of them is used as the positional deviation amount of the member from the predetermined position. Method for detecting positional deviation of members. 2. A mounting table on which a member to be detected is placed, an XY table arranged on the side of this mounting table, and a device provided on the XY table, which irradiates the member to be detected with light from diagonally above to detect the member. a light projector that forms a light irradiation surface by a light cutting effect on the top; a photoelectric detector that is installed on the XY table and linearly scans a specific width including the light irradiation surface; scanning position setting means for setting the movement in a direction perpendicular to the scanning position; an arithmetic circuit that calculates the amount of positional deviation of the member from the detection results of the photoelectric detector at each scanning position set by the means; and this arithmetic circuit. The scanning position is moved by the scanning position setting means and scanning is performed by the photoelectric detector until at least two or more substantially equal positional deviation amounts are detected by comparing the calculated positional deviation amounts with each other. and a table position control device that moves and sets the XY table position by inputting the average value of two or more substantially equal positional deviation amounts detected by the comparison circuit, or the positional deviation amount of any one of them. and a wire bonding mechanism provided on the XY table and wire bonding to the member at a position determined by the table position control device.
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