JPS6140840A - 結晶化ガラスおよびその製造方法 - Google Patents
結晶化ガラスおよびその製造方法Info
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- JPS6140840A JPS6140840A JP16215784A JP16215784A JPS6140840A JP S6140840 A JPS6140840 A JP S6140840A JP 16215784 A JP16215784 A JP 16215784A JP 16215784 A JP16215784 A JP 16215784A JP S6140840 A JPS6140840 A JP S6140840A
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- JP
- Japan
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- glass
- dielectric loss
- crystallized glass
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- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、電子レンジの庫内で棚板やトレイ等に使用さ
れ、電子レンジのマグネトロンの発振周下である結晶化
ガラスに関するものである。
れ、電子レンジのマグネトロンの発振周下である結晶化
ガラスに関するものである。
従来、電子レンジ用棚板、トレイ材質としては、硼珪酸
ガラス、ホウロウ及び5i02− Al□O,−Li、
0系結晶化ガラス等が用いられてきた。しかしながら硼
珪酸ガラスは熱膨張係数が高いため熱衝撃強度が低く、
割れやすいという欠点があり、ホウロウは、棚板やトレ
イ自体の温度が上りやすいうえに庫内のエネルギー分布
が不均一になり、調理ムラを起し易いという欠点があっ
た。また従来のSin、 −Al2O2−Li□o系結
晶化ガラスは、一般に電子レンジに使用されているマグ
ネトロンの発振周波数2. +5 GHz近辺における
誘電率、誘電損失の値が大きく、電子レンジを空焚きし
た時、棚板やトレイ自体が局部的に加熱されすぎて一部
が溶けて穴がおいてしまうホット・スポットという現象
を引き起す致命的欠陥を有している。
ガラス、ホウロウ及び5i02− Al□O,−Li、
0系結晶化ガラス等が用いられてきた。しかしながら硼
珪酸ガラスは熱膨張係数が高いため熱衝撃強度が低く、
割れやすいという欠点があり、ホウロウは、棚板やトレ
イ自体の温度が上りやすいうえに庫内のエネルギー分布
が不均一になり、調理ムラを起し易いという欠点があっ
た。また従来のSin、 −Al2O2−Li□o系結
晶化ガラスは、一般に電子レンジに使用されているマグ
ネトロンの発振周波数2. +5 GHz近辺における
誘電率、誘電損失の値が大きく、電子レンジを空焚きし
た時、棚板やトレイ自体が局部的に加熱されすぎて一部
が溶けて穴がおいてしまうホット・スポットという現象
を引き起す致命的欠陥を有している。
本発明者等は、上記各種材料の欠点を鑑み、種々検討し
た結果、Sing −Al、O,−Li、n 系結晶化
ガラスのアルカリ金属酸化物含有量の少ない領域に2、
45 GHzにおける誘電損失が小さくホットスポット
現象を起こさない電子レンジ用材料として優れた特性を
有する結晶化ガラスが存在することを見い出し、本発明
を提案するに至った。
た結果、Sing −Al、O,−Li、n 系結晶化
ガラスのアルカリ金属酸化物含有量の少ない領域に2、
45 GHzにおける誘電損失が小さくホットスポット
現象を起こさない電子レンジ用材料として優れた特性を
有する結晶化ガラスが存在することを見い出し、本発明
を提案するに至った。
本発明の結晶化ガラスは、重量百分率で810255〜
75%、Altch 12〜30%、Li2O2〜3.
5%、Mg01〜4’0%、ZnO0,5〜2.0 %
、Tie、 3.5〜7.0%、Na、OO〜0.5%
、K、OO−0,5%、且つ、Na、 O−1−K、
0O〜O,S%、p、o、0〜3%、PbO0〜3%、
Ba0O〜3%の組成を有し、主結晶相がβ−スボジー
メンであり、2.45 GH2における誘電損失が32
X 1(1’−8以下であることを特徴とする。、 また本発明の結晶化ガラス製造方法は、上記組成範囲に
あるガラス成形物を1000〜1200°Cで熱処理す
ることによって、主結晶としてβ−スボジュメンを析出
させ、該結晶化ガラスの2.45 GH2における誘電
損失を32 X 10−’以下にすることを特徴とする
。
75%、Altch 12〜30%、Li2O2〜3.
5%、Mg01〜4’0%、ZnO0,5〜2.0 %
、Tie、 3.5〜7.0%、Na、OO〜0.5%
、K、OO−0,5%、且つ、Na、 O−1−K、
0O〜O,S%、p、o、0〜3%、PbO0〜3%、
Ba0O〜3%の組成を有し、主結晶相がβ−スボジー
メンであり、2.45 GH2における誘電損失が32
X 1(1’−8以下であることを特徴とする。、 また本発明の結晶化ガラス製造方法は、上記組成範囲に
あるガラス成形物を1000〜1200°Cで熱処理す
ることによって、主結晶としてβ−スボジュメンを析出
させ、該結晶化ガラスの2.45 GH2における誘電
損失を32 X 10−’以下にすることを特徴とする
。
本願明細書で言う誘電損失とは、誘電率と誘電正接とを
乗した値であり、本発明でその誘電損失の値を32 X
10−8以下と厳密に限定したのは次の理由による。
乗した値であり、本発明でその誘電損失の値を32 X
10−8以下と厳密に限定したのは次の理由による。
誘電損失の異なる種々の結晶化ガラスを電子レンジ内に
設置し、空焚きしてホットスポットが発生する時間を調
べる実験を行い、その結果を添付図面に示す。図面より
誘電損失が高いものは短時間のうちにホットスポットが
発生し、誘電損失が低くなるt′jどホットスポット発
生時間は長くなり、32 X 10−3以下になると全
くホットスポットが発生しないことがわかる。従って、
本発明者等は、電子レンジに用いられる結晶化ガラスに
おいてホットスポットを発生させないためには、R45
GH2における誘電損失を32 X 10−3以下にす
る必要があるという判断に至った。
設置し、空焚きしてホットスポットが発生する時間を調
べる実験を行い、その結果を添付図面に示す。図面より
誘電損失が高いものは短時間のうちにホットスポットが
発生し、誘電損失が低くなるt′jどホットスポット発
生時間は長くなり、32 X 10−3以下になると全
くホットスポットが発生しないことがわかる。従って、
本発明者等は、電子レンジに用いられる結晶化ガラスに
おいてホットスポットを発生させないためには、R45
GH2における誘電損失を32 X 10−3以下にす
る必要があるという判断に至った。
本発明の結晶化ガラスにおける誘電損失を32 X 1
0−”以下にするには、組成が先記の範囲に限定される
ことは勿論のこと、熱処理条件及び析出結晶相の種類も
限定されなければならない。即ちSin、−Alオo、
−Li、O系結晶化ガラスは、通常、結晶化温度が81
〜950°Cでは、誘電損失が非常に高いβ−石石英固
体体型結晶相が析出するが、1000℃以上になると誘
電損失の低いβ−スボジュメンの結晶相に転移する。し
かしながら1200’C以上になるとβ−スボジュメン
以外の析出結晶相が多くなり、誘電損失が高くなり好ま
しくない。
0−”以下にするには、組成が先記の範囲に限定される
ことは勿論のこと、熱処理条件及び析出結晶相の種類も
限定されなければならない。即ちSin、−Alオo、
−Li、O系結晶化ガラスは、通常、結晶化温度が81
〜950°Cでは、誘電損失が非常に高いβ−石石英固
体体型結晶相が析出するが、1000℃以上になると誘
電損失の低いβ−スボジュメンの結晶相に転移する。し
かしながら1200’C以上になるとβ−スボジュメン
以外の析出結晶相が多くなり、誘電損失が高くなり好ま
しくない。
電子レンジ材料として使用される誘電損失の低い結晶化
ガラスを得るためには、β−石石英固体体型らβ−スボ
ジ。メンへの転移速度が速く且つ転移う8度が低い程好
ましい。ガラス組成中、その転移速度、転移1度に特に
影響を与える成分は、アルカリ金属酸化物及びMgO・
ZnO等であり、本発明では、これらの成分の含有量を
制御することによって、β−石石英固体体型らβ−スボ
ジーメンヘの転移を速くしかも確実にしたので、通常、
ガラス成形物を熱処理して結晶化させる時に使用される
トンネル窯、ローラーハスキルンを用いて、誘電損失の
低い結晶化ガラスを安定して大量に供給することが可能
である。
ガラスを得るためには、β−石石英固体体型らβ−スボ
ジ。メンへの転移速度が速く且つ転移う8度が低い程好
ましい。ガラス組成中、その転移速度、転移1度に特に
影響を与える成分は、アルカリ金属酸化物及びMgO・
ZnO等であり、本発明では、これらの成分の含有量を
制御することによって、β−石石英固体体型らβ−スボ
ジーメンヘの転移を速くしかも確実にしたので、通常、
ガラス成形物を熱処理して結晶化させる時に使用される
トンネル窯、ローラーハスキルンを用いて、誘電損失の
低い結晶化ガラスを安定して大量に供給することが可能
である。
さらに本発明における結晶化ガラスは、β−スポジュメ
ン以外にもTioz、zaO・A1403等の結晶相を
微量析出するが、誘電損失に影響を及ぼす程ではない。
ン以外にもTioz、zaO・A1403等の結晶相を
微量析出するが、誘電損失に影響を及ぼす程ではない。
本発明の結晶化ガラスの組成範囲を先記のように限定し
たのは次の理由による。
たのは次の理由による。
S10.が50%より少ない場合は、結晶物の化学耐久
性が悪くなり、結晶化度も下り、誘電損失が高くなると
共に強度も低下する。70%より多い場合は、ガラスが
溶解し難くなり、板状に成形し難くなる。
性が悪くなり、結晶化度も下り、誘電損失が高くなると
共に強度も低下する。70%より多い場合は、ガラスが
溶解し難くなり、板状に成形し難くなる。
A、1.O,が12%より少ない場合は、ガラスが成形
中失透しやすく、作業性に支障をきたす。35%より多
い場合は、ガラスが溶解し難く、結晶物の誘電損失が高
くなる。
中失透しやすく、作業性に支障をきたす。35%より多
い場合は、ガラスが溶解し難く、結晶物の誘電損失が高
くなる。
Lj、10が2%より少ない場合は、ガラスの溶解温度
が高くなりすぎて均一なガラスが得難くなり、結晶物の
膨張係数も高くなる。35%より多い場合は、結晶物の
誘電損失が32 X 10−8を超え、ホットスポット
が発生し易くなる。
が高くなりすぎて均一なガラスが得難くなり、結晶物の
膨張係数も高くなる。35%より多い場合は、結晶物の
誘電損失が32 X 10−8を超え、ホットスポット
が発生し易くなる。
MgOが1%より少ない場合は、ガラスの溶解湿度が高
くなりすぎて均一なガラスが得難くなり、結晶化も遅く
なる。4%より多い場合は、結晶物の誘電損失が32
X 10−’を超え、ホットスポットが発生し易くなる
。
くなりすぎて均一なガラスが得難くなり、結晶化も遅く
なる。4%より多い場合は、結晶物の誘電損失が32
X 10−’を超え、ホットスポットが発生し易くなる
。
ZnOが05%より少ない場合は、結晶化速度が遅くな
り、誘電損失が高くなる。2%より多い場合は結晶物の
誘電損失が32 X 10−3を超える。
り、誘電損失が高くなる。2%より多い場合は結晶物の
誘電損失が32 X 10−3を超える。
T10.が3.5%より少ない場合は、結晶化速度が遅
くなると共に機械的強度が低く、誘電損失が高くなる。
くなると共に機械的強度が低く、誘電損失が高くなる。
7%より多い場合は、カラスの溶解性が悲くなるととも
に結晶化が不均一・になる。
に結晶化が不均一・になる。
Nape、K、oは、ガラスの溶解性を良くするために
使用できるが、各々0.5%或いは合量でα8%を超え
ると結晶物の誘電損失が32 X 10−’を超え、ホ
ットスポットが発生し易くなる。
使用できるが、各々0.5%或いは合量でα8%を超え
ると結晶物の誘電損失が32 X 10−’を超え、ホ
ットスポットが発生し易くなる。
上記必須成分以外にP、 O,、PbO、、BaOを各
々3%以下含イ]させることによってガラスの溶解性、
作業性、均一性を向上させることができるが、前記範囲
を超える含有は、結晶化後のマトリックスガラス量を増
大させ、誘電損失を高めることになり好ましくない。他
に、ガラス製造上の通常の清澄剤としてAI3.0.、
Sb、Oδの中から1種又は2種を2%以下添加され得
る。
々3%以下含イ]させることによってガラスの溶解性、
作業性、均一性を向上させることができるが、前記範囲
を超える含有は、結晶化後のマトリックスガラス量を増
大させ、誘電損失を高めることになり好ましくない。他
に、ガラス製造上の通常の清澄剤としてAI3.0.、
Sb、Oδの中から1種又は2種を2%以下添加され得
る。
下表に、本発明の結晶化ガラスの実施例及びこれと比較
される従来の結晶化ガラスの例を示す。
される従来の結晶化ガラスの例を示す。
試料j≦1〜5が本発明品であり、j66.7が従来品
である。
である。
表
手配表のA’1〜7のガラス試料は、次のように調製し
た。
た。
試料1〜7の各ガラス組成になるように調合した原料バ
ッチを1600”Cで]6時間溶解した後、300X2
50X3.8 mmの板状ガラスを成形した。次いてこ
の板状ガラスを電気炉に入れ750°Cて1〜2時間保
持し、その後80°C/時間で]]00°Cまで昇温後
】100°Cで1時間保持する結晶化ガラスを行なった
。その後得られた結晶化ガラスの試料を電子レンジ内に
設置し、ポットスポットが発生するかどうか確認すると
同時に各試料の誘電損失を測定した。
ッチを1600”Cで]6時間溶解した後、300X2
50X3.8 mmの板状ガラスを成形した。次いてこ
の板状ガラスを電気炉に入れ750°Cて1〜2時間保
持し、その後80°C/時間で]]00°Cまで昇温後
】100°Cで1時間保持する結晶化ガラスを行なった
。その後得られた結晶化ガラスの試料を電子レンジ内に
設置し、ポットスポットが発生するかどうか確認すると
同時に各試料の誘電損失を測定した。
この結果、本発明品と従来品とを比較すると、本発明品
はいずれも誘電損失が32 X 10−3以下で、ホッ
トスポットが発生しないが、従来品は、誘電損失が32
X 1o−a以上と高く、短時間にホットスポットが
発生することがわかった。
はいずれも誘電損失が32 X 10−3以下で、ホッ
トスポットが発生しないが、従来品は、誘電損失が32
X 1o−a以上と高く、短時間にホットスポットが
発生することがわかった。
以」−の様に本発明の結晶化ガラスは、2.45 GH
7における誘電損失が32×】叶3以下であるためホッ
トスポットが発生せず、特に電子レンジ用材料として有
用である。
7における誘電損失が32×】叶3以下であるためホッ
トスポットが発生せず、特に電子レンジ用材料として有
用である。
更に、本発明の結晶化ガラスは、従来の5iO1−A1
.○、−Li20系結晶化ガラスの有する低膨張、高強
度、白色等の特性を兼備しており、電子レンジ用材料の
みでなく、電磁調理器のトッププレート、食器等多くの
工業用材料として使用することも可能である。
.○、−Li20系結晶化ガラスの有する低膨張、高強
度、白色等の特性を兼備しており、電子レンジ用材料の
みでなく、電磁調理器のトッププレート、食器等多くの
工業用材料として使用することも可能である。
図面は、誘電損失の異なる結晶化ガラスを電子レンジ内
に設置し、空焚きしたときのホットスポット発生時間を
示したグラフである。 特許出願人 日本、′電気硝jJ−腺式へ社($;、
+4 :i 、E時車− 嬬一奪駕
に設置し、空焚きしたときのホットスポット発生時間を
示したグラフである。 特許出願人 日本、′電気硝jJ−腺式へ社($;、
+4 :i 、E時車− 嬬一奪駕
Claims (2)
- (1)重量百分率で、SiO_255〜75%Al_2
O_312〜30% Li_2O2〜3.5% MgO1〜40% ZnO0.5〜2.0% TiO_23.5〜7.0% {Na_2O0〜0.5% K_2O0〜0.5%}0〜0.8% P_2O_50〜3% PbO0〜3% BaO0〜3% の組成を有し、主結晶層がβ−スポジュメンであり、2
.45GHZにおける誘電損失が32×10^−^3以
下であることを特徴とする結晶化ガラス。 - (2)重量百分率で、SiO_255〜75%Al_2
O_312〜30% Li_2O2〜3.5% MgO1〜4.0% ZnO0.5〜2.0% TiO_23.5〜7.0% {Na_2O0〜0.5% K_2O0〜0.5%}0〜0.8% P_2O_50〜3% PbO0〜3% BaO0〜3% の組成を有するガラス成形物を1000〜1200℃で
熱処理することによって、主結晶相としてβ−スポジュ
メンを析出させ、2.45GHZにおける誘電損失が3
2×10^−^3以下の結晶化ガラスを製造することを
特徴とする方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16215784A JPS6140840A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 結晶化ガラスおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16215784A JPS6140840A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 結晶化ガラスおよびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6140840A true JPS6140840A (ja) | 1986-02-27 |
JPH0157057B2 JPH0157057B2 (ja) | 1989-12-04 |
Family
ID=15749116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP16215784A Granted JPS6140840A (ja) | 1984-07-31 | 1984-07-31 | 結晶化ガラスおよびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6140840A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03197333A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-08-28 | E I Du Pont De Nemours & Co | 結晶化可能なガラス及びその厚膜組成物 |
JP2016108180A (ja) * | 2014-12-05 | 2016-06-20 | 京セラメディカル株式会社 | ガラスセラミックス |
-
1984
- 1984-07-31 JP JP16215784A patent/JPS6140840A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03197333A (ja) * | 1989-11-17 | 1991-08-28 | E I Du Pont De Nemours & Co | 結晶化可能なガラス及びその厚膜組成物 |
JP2016108180A (ja) * | 2014-12-05 | 2016-06-20 | 京セラメディカル株式会社 | ガラスセラミックス |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0157057B2 (ja) | 1989-12-04 |
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