JPS6138933U - 半導体ウエ−ハの洗浄装置 - Google Patents

半導体ウエ−ハの洗浄装置

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JPS6138933U
JPS6138933U JP12170984U JP12170984U JPS6138933U JP S6138933 U JPS6138933 U JP S6138933U JP 12170984 U JP12170984 U JP 12170984U JP 12170984 U JP12170984 U JP 12170984U JP S6138933 U JPS6138933 U JP S6138933U
Authority
JP
Japan
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semiconductor wafer
cleaning
cleaning tank
utility
wafer cleaning
Prior art date
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Pending
Application number
JP12170984U
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English (en)
Inventor
博美 小中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPS6138933U publication Critical patent/JPS6138933U/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来の半導体ウエーハの洗浄装置の斜視図、第
２図はこの考案の一実施例による半導体ウエーハの洗浄
装置の斜視図である。 １・・・・・・洗浄槽、２・・・・・・棚、４・・・・
・・供給管、５・・・・・・半導体ウエーハ、６・・・
・・・収納容器、１２・・・・・・紫外線殺菌灯、１３
・・・・・・過熱防止器。 なお、図中同一符号は同一又は相当部分を示す。

Claims (4)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）複数枚の半導体ウエーハを収容した収納容器を、
    洗浄槽内に底部から間隔をあけて載置し、この洗浄槽内
    の下部に洗浄水を送り込み上昇させて上記各半導体ウエ
    ーハを洗浄する装置において、紫外線殺菌灯を配設し、
    上記洗浄槽内の洗浄水の水中微生物を殺菌するようにし
    たことを特徴とする半導体ウエーハの洗浄装置。
  2. （２）紫外線殺菌灯を洗浄槽内の下部に配設したことを
    特徴とする実用新案登録請求の範囲第１項記載の半導体
    ウエーハの洗浄装置。
  3. （３）紫外線を透過する材竺により洗浄槽を構成し、こ
    の洗浄槽の外部に紫外線殺菌灯を配設したことを特徴と
    する実用新案登録請求の範囲第１項記載の半導体ウエー
    ハの洗浄装置。
  4. （４）洗浄槽内に過熱防止器を配置し、洗浄水が所定温
    度を超えると作動し紫外線殺菌灯の点灯を停止させるよ
    うにした実用新案登録請求の範囲第１項ないし第３項の
    いづれかに記載の半導体ウエーハの洗浄装置。
JP12170984U 1984-08-06 1984-08-06 半導体ウエ−ハの洗浄装置 Pending JPS6138933U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02110687U (ja) * 1989-02-17 1990-09-04

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5316277U (ja) * 1976-07-23 1978-02-10
JPS5754442B2 (ja) * 1976-07-28 1982-11-18
JPS58220000A (ja) * 1982-06-17 1983-12-21 Toshiba Corp 超純水製造システム

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5316277U (ja) * 1976-07-23 1978-02-10
JPS5754442B2 (ja) * 1976-07-28 1982-11-18
JPS58220000A (ja) * 1982-06-17 1983-12-21 Toshiba Corp 超純水製造システム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02110687U (ja) * 1989-02-17 1990-09-04

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