JPS6137580B2 - - Google Patents
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- JPS6137580B2 JPS6137580B2 JP13855677A JP13855677A JPS6137580B2 JP S6137580 B2 JPS6137580 B2 JP S6137580B2 JP 13855677 A JP13855677 A JP 13855677A JP 13855677 A JP13855677 A JP 13855677A JP S6137580 B2 JPS6137580 B2 JP S6137580B2
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- sample gas
- corrosive
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Landscapes
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、試料ガス（例えば排ガス）中の特定
成分濃度等を測定するガス分析計の前処理装置に
関し、その目的は、ガス分析計に導入する試料ガ
ス中の腐蝕性ガスを確実に除去して分析計を長期
間安定に動作させ、かつ、正確な測定値が得られ
るようにすることにある。
成分濃度等を測定するガス分析計の前処理装置に
関し、その目的は、ガス分析計に導入する試料ガ
ス中の腐蝕性ガスを確実に除去して分析計を長期
間安定に動作させ、かつ、正確な測定値が得られ
るようにすることにある。
一般に、ガス分析計は、分析計に試料ガスを導
入するに先立つて、試料ガス中のダスト、ミス
ト、水分等の妨害物質及び干渉成分の全体又は一
部を予め除去するように、測定対象に応じた種々
の前処理装置と組合わせて使用されるものであ
る。殊に、煙道排ガスの分析計として最も一般的
である赤外線分析計や紫外線分析計は、測定対象
ガスの種類が非常に多岐にわたつており、試料ガ
ス中に種々の妨害物質が含まれているので前処理
装置が必要とされている。例えば、これらの分析
計によつてH2S、HCl、Cl2、HF、F2等を含む排
ガス（例えば、ガラス溶融炉排ガス、パルプ工場
排ガス、アルミ精錬排ガス）の測定を行なう場
合、試料ガスの前処理を施さないと、上記の妨害
物質が腐蝕性ガスとして測定装置各部を腐蝕さ
せ、その結果、ガス流路の閉塞、測定セルの汚れ
によるゼロドリフト、材質変化等を来たし、ガス
分析計の故障原因となるのである。
入するに先立つて、試料ガス中のダスト、ミス
ト、水分等の妨害物質及び干渉成分の全体又は一
部を予め除去するように、測定対象に応じた種々
の前処理装置と組合わせて使用されるものであ
る。殊に、煙道排ガスの分析計として最も一般的
である赤外線分析計や紫外線分析計は、測定対象
ガスの種類が非常に多岐にわたつており、試料ガ
ス中に種々の妨害物質が含まれているので前処理
装置が必要とされている。例えば、これらの分析
計によつてH2S、HCl、Cl2、HF、F2等を含む排
ガス（例えば、ガラス溶融炉排ガス、パルプ工場
排ガス、アルミ精錬排ガス）の測定を行なう場
合、試料ガスの前処理を施さないと、上記の妨害
物質が腐蝕性ガスとして測定装置各部を腐蝕さ
せ、その結果、ガス流路の閉塞、測定セルの汚れ
によるゼロドリフト、材質変化等を来たし、ガス
分析計の故障原因となるのである。
このため、従来では、所謂水洗方式の前処理装
置を使用して、これらの腐蝕性ガスを除去してい
るが、これによる場合は、腐蝕性ガスだけでな
く、測定対象物質（例えば、SO2、NOx、CO2、
CO1O2）も洗浄水に溶けるため、測定対象物質の
水への溶解による測定誤差が大きく、しかも、所
期の腐蝕性ガス除去が不完全であり、洗浄水の補
給等、保守に煩雑さを伴い、装置も大型化すると
いつた多くの欠点があつた。
置を使用して、これらの腐蝕性ガスを除去してい
るが、これによる場合は、腐蝕性ガスだけでな
く、測定対象物質（例えば、SO2、NOx、CO2、
CO1O2）も洗浄水に溶けるため、測定対象物質の
水への溶解による測定誤差が大きく、しかも、所
期の腐蝕性ガス除去が不完全であり、洗浄水の補
給等、保守に煩雑さを伴い、装置も大型化すると
いつた多くの欠点があつた。
本発明は、このような従来欠点に鑑みて開発さ
れたもので、その実施例を例示図に基づいて詳述
すると次の通りである。
れたもので、その実施例を例示図に基づいて詳述
すると次の通りである。
第１図は、赤外線式NO分析計により排ガス中
のNOx濃度を測定するシステムのフローシートで
あり、第２図に示された前処理装置の一使用例を
示している。
のNOx濃度を測定するシステムのフローシートで
あり、第２図に示された前処理装置の一使用例を
示している。
第１図に示す１は試料ガスを吸引するプロー
ブ、２は試料ガス中のダストを取り除く一次フイ
ルタ、３は一次フイルタ２を経た試料ガスからさ
らにダストを取り除くウエツトフイルタであり、
ウエツトフイルタ３で分離したドレンはドレンポ
ツト４に溜り、該ポツト４をオーバーフローした
ドレンは水封トラツプ５に溜り、これをオーバー
フローしたドレンはシステム外に排出されるよう
になつている。一方、前記ウエツトフイルタ３を
経た試料ガスは、ミストキヤツチヤー６、サンプ
リング用の吸引ポンプ７を経てセパレータ８に送
り込まれ、該セパーレタ８で分離したドレンはバ
ルブ９を経て外部に排出される。１０は前記セパ
レータ８を出た試料ガスの一部を排出するバル
ブ、１１は該バルブ１０にガスが流れているか否
かを確認するバイパス流量計である。前記セパレ
ータ８を出た試料ガスの他の一部は、前処理装置
１２によつて、腐蝕性ガスを除去された後、コン
バータ１３に導入され、該コンバータ１３によ
り、試料ガス中に含まれるNO2がNOに変換され
る。コンバータ１３を出た試料ガスは、フイルタ
１４により微細なダストを除去された後、電子冷
却器１５での冷却により一定の飽和水分ガスに調
整され、次いで、分析計１６へと導びかれる。１
７は、分析計１６のゼロ点校正、スパン校正に際
して、校正ガスを分析計１６に流すために使用さ
れる電磁バルブ、１８はキヤピラリであり、前記
水封トラツプ５と共に、分析計１６へのガス流量
を調整する作用を司る。
ブ、２は試料ガス中のダストを取り除く一次フイ
ルタ、３は一次フイルタ２を経た試料ガスからさ
らにダストを取り除くウエツトフイルタであり、
ウエツトフイルタ３で分離したドレンはドレンポ
ツト４に溜り、該ポツト４をオーバーフローした
ドレンは水封トラツプ５に溜り、これをオーバー
フローしたドレンはシステム外に排出されるよう
になつている。一方、前記ウエツトフイルタ３を
経た試料ガスは、ミストキヤツチヤー６、サンプ
リング用の吸引ポンプ７を経てセパレータ８に送
り込まれ、該セパーレタ８で分離したドレンはバ
ルブ９を経て外部に排出される。１０は前記セパ
レータ８を出た試料ガスの一部を排出するバル
ブ、１１は該バルブ１０にガスが流れているか否
かを確認するバイパス流量計である。前記セパレ
ータ８を出た試料ガスの他の一部は、前処理装置
１２によつて、腐蝕性ガスを除去された後、コン
バータ１３に導入され、該コンバータ１３によ
り、試料ガス中に含まれるNO2がNOに変換され
る。コンバータ１３を出た試料ガスは、フイルタ
１４により微細なダストを除去された後、電子冷
却器１５での冷却により一定の飽和水分ガスに調
整され、次いで、分析計１６へと導びかれる。１
７は、分析計１６のゼロ点校正、スパン校正に際
して、校正ガスを分析計１６に流すために使用さ
れる電磁バルブ、１８はキヤピラリであり、前記
水封トラツプ５と共に、分析計１６へのガス流量
を調整する作用を司る。
前記前処理装置１２は、次の通りに構成されて
いる。
いる。
第２図に示すように、金属ケース２０内に形成
された試料ガス通路の入口側と出口側とに、それ
ぞれフイルタ２１，２２が挿設され、これら両フ
イルタ２１，２２間の試料ガス通路部分には、後
述する如き腐蝕性ガス除去剤２３が、試料ガス流
通用間隙を形成する状態に充填されている。そし
て、前記金属ケース２０の外面には、該金属ケー
ス２０を加熱することにより、前記腐蝕性ガス除
去剤２３を、試料ガス中の水分が凝縮する温度以
上の温度（60〜150℃）に保温するヒータ２４が
付設されている。
された試料ガス通路の入口側と出口側とに、それ
ぞれフイルタ２１，２２が挿設され、これら両フ
イルタ２１，２２間の試料ガス通路部分には、後
述する如き腐蝕性ガス除去剤２３が、試料ガス流
通用間隙を形成する状態に充填されている。そし
て、前記金属ケース２０の外面には、該金属ケー
ス２０を加熱することにより、前記腐蝕性ガス除
去剤２３を、試料ガス中の水分が凝縮する温度以
上の温度（60〜150℃）に保温するヒータ２４が
付設されている。
前記腐蝕性ガス除去剤２３は、
H2SO4、H3PO4等の不揮発性酸(A)と、
H2S、HCl、Cl2、HF、F2等の腐蝕性ガスと反
応して不溶性又は難溶性の塩を形成するCu、
Ag、Pb、Hg等の金属と不揮発性酸（H2SO4、
H3PO4等）とで形成されるCuSO4、Ag2SO4、
Ag3PO4等の塩(B)との混合物（Ａ＋Ｂ）を、活性
炭、モリキユラシーブ、シリカゲル等に代表され
る粘結性の強い多孔性物質に含浸乾燥させて構成
されたものであり、粒状を呈する。
応して不溶性又は難溶性の塩を形成するCu、
Ag、Pb、Hg等の金属と不揮発性酸（H2SO4、
H3PO4等）とで形成されるCuSO4、Ag2SO4、
Ag3PO4等の塩(B)との混合物（Ａ＋Ｂ）を、活性
炭、モリキユラシーブ、シリカゲル等に代表され
る粘結性の強い多孔性物質に含浸乾燥させて構成
されたものであり、粒状を呈する。
上記の実施例によれば、金属ケース２１に導入
された試料ガスは、ヒータ２４により、金属ケー
ス２０を介して加熱保温された腐蝕性ガス除去剤
２３の間隙を経て流れる間に、腐蝕性ガスを除去
され、下流のガス分析計へと導びかれるのであ
る。この場合、腐蝕性ガス除去剤２３が、上述の
如き不揮発性酸(A)と塩(B)との混合物（Ａ＋Ｂ）
を、活性炭等の粘結性の強い多孔性物質に含浸乾
燥させて構成されているため、腐蝕性ガス除去剤
２３の体積の割に、該除去剤２３と試料ガスとの
接触面積が極端に大きく、かつ、多孔性物質の崩
壊により試料ガス流路が詰つて腐蝕性ガス除去剤
２３での圧損が不測に増大するような虞れがな
く、試料ガス中に含まれるH2S、HCl、Cl2、
HF、F2等の腐蝕性ガスを確実に吸着除去するこ
とができる。従つて、ガス分析計を長期にわたつ
安定に動作させ得る。
された試料ガスは、ヒータ２４により、金属ケー
ス２０を介して加熱保温された腐蝕性ガス除去剤
２３の間隙を経て流れる間に、腐蝕性ガスを除去
され、下流のガス分析計へと導びかれるのであ
る。この場合、腐蝕性ガス除去剤２３が、上述の
如き不揮発性酸(A)と塩(B)との混合物（Ａ＋Ｂ）
を、活性炭等の粘結性の強い多孔性物質に含浸乾
燥させて構成されているため、腐蝕性ガス除去剤
２３の体積の割に、該除去剤２３と試料ガスとの
接触面積が極端に大きく、かつ、多孔性物質の崩
壊により試料ガス流路が詰つて腐蝕性ガス除去剤
２３での圧損が不測に増大するような虞れがな
く、試料ガス中に含まれるH2S、HCl、Cl2、
HF、F2等の腐蝕性ガスを確実に吸着除去するこ
とができる。従つて、ガス分析計を長期にわたつ
安定に動作させ得る。
殊に、不揮発性酸(A)を使用しているため、試料
ガス中の測定対象物質（例えば、SO2、NOx、
CO2、CO、O2等である。）の吸着、反応による損
失が少なく、しかも、腐蝕性ガス除去剤２３を試
料ガス中に含まれる水（例えば、燃焼により生成
する水やその他の水分）が凝縮する温度以上に加
熱するため、上述した測定対象物質が凝縮した水
に溶解することがなく、溶解による損失がない。
従つて、ガス分析計による正確な測定値が得られ
るのである。
ガス中の測定対象物質（例えば、SO2、NOx、
CO2、CO、O2等である。）の吸着、反応による損
失が少なく、しかも、腐蝕性ガス除去剤２３を試
料ガス中に含まれる水（例えば、燃焼により生成
する水やその他の水分）が凝縮する温度以上に加
熱するため、上述した測定対象物質が凝縮した水
に溶解することがなく、溶解による損失がない。
従つて、ガス分析計による正確な測定値が得られ
るのである。
また、上記の通り、ドライ方式の前処理である
から、水洗方式のように、洗浄水の補給といつた
保守の煩雑さがなく、大がかりな装置も不要であ
る。殊に、腐蝕性ガス除去剤２３が固体であるた
め、カートリツジ式にして、該除去剤２３の装
填、交換を一層容易にすることが可能である。
から、水洗方式のように、洗浄水の補給といつた
保守の煩雑さがなく、大がかりな装置も不要であ
る。殊に、腐蝕性ガス除去剤２３が固体であるた
め、カートリツジ式にして、該除去剤２３の装
填、交換を一層容易にすることが可能である。
不揮発性酸(A)及び塩(B)としては、上述した各物
質を採用した場合であつても、種々の組合せが可
能であるが、説明の煩雑さを避けるために、代表
的な具体例を列挙する。
質を採用した場合であつても、種々の組合せが可
能であるが、説明の煩雑さを避けるために、代表
的な具体例を列挙する。
具体例 １
Ａ：H2SO4
Ｂ：Ag2SO4（AgとH2SO4とで形成される塩）
Ａ＋Ｂ：H2SO4とAg2SO4
具体例 ２
Ａ：H2SO4
Ｂ：CuSO4（CuとH2SO4とで形成される塩）
Ａ＋Ｂ：H2SO4とCuSO4
具体例 ３
Ａ：H3PO4
Ｂ：Ag3PO4（AgとH3PO4とで形成される塩）
Ａ＋Ｂ：H3PO4とAg3PO4
具体例 ４
Ａ：H3PO4
Ｂ：Ag2SO4（AgとH2SO4で形成される塩）
Ａ＋Ｂ：H3SO4とAg2SO4
具体例 ５
Ａ：H2SO4
Ｂ：Ag2SO4とCuSO4（AgとH2SO4とで形成され
る塩とCuとH2SO4とで形成される塩とを併
用） Ａ＋Ｂ：H2SO4とAg2SO4及びCuSO4 具体例 ６ Ａ：H2SO4 Ｂ：Ag3PO4とCuSO4（AgとH3PO4とで形成され
る塩とCuとH2SO4とで形成される塩とを併
用） Ａ＋Ｂ：H2SO4とAg3PO4及びCuSO4 尚、Pb、Hg等を使用した場合、これらの金属
により二次公害を起こさないように配慮する必要
があるため、具体例１〜６の通りに、Cu、Ag等
を使用することが望ましいのである。
る塩とCuとH2SO4とで形成される塩とを併
用） Ａ＋Ｂ：H2SO4とAg2SO4及びCuSO4 具体例 ６ Ａ：H2SO4 Ｂ：Ag3PO4とCuSO4（AgとH3PO4とで形成され
る塩とCuとH2SO4とで形成される塩とを併
用） Ａ＋Ｂ：H2SO4とAg3PO4及びCuSO4 尚、Pb、Hg等を使用した場合、これらの金属
により二次公害を起こさないように配慮する必要
があるため、具体例１〜６の通りに、Cu、Ag等
を使用することが望ましいのである。
本発明は、以上の構成よりなるから、次の如き
効果を奏し得る。
効果を奏し得る。
ドライ方式による前処理（腐蝕性ガスの除
去）を行なうので、水洗方式による場合によう
に、洗浄水の補給等、保守の煩雑さがなく、か
つ、装置の大型化を招かない。
去）を行なうので、水洗方式による場合によう
に、洗浄水の補給等、保守の煩雑さがなく、か
つ、装置の大型化を招かない。
腐蝕性ガス除去剤の体積の割に、該除去剤と
試料ガスとの接触面積が大きく、かつ、粘結性
の強い多孔性物質を用いるので多孔性物質の崩
壊により試料ガス流路が詰つて腐蝕性ガス除去
剤での圧損が不測に増大するような虞れがな
く、これらによつて、試料ガス中の腐蝕性ガス
を確実に吸着、除去することができる。従つ
て、ガス分析計を長期間安定に動作させ得る。
試料ガスとの接触面積が大きく、かつ、粘結性
の強い多孔性物質を用いるので多孔性物質の崩
壊により試料ガス流路が詰つて腐蝕性ガス除去
剤での圧損が不測に増大するような虞れがな
く、これらによつて、試料ガス中の腐蝕性ガス
を確実に吸着、除去することができる。従つ
て、ガス分析計を長期間安定に動作させ得る。
ドライ方式であるが故に、水洗方式による場
合のような試料ガス中の測定対象物質の洗浄水
への溶解損失がないことは勿論、不揮発性酸を
使用しているため、酸との吸着反応による損失
も少なく、ガス腐蝕性ガス除去剤を、試料ガス
に含まれる水分が凝縮しない温度に加熱するた
め、凝縮水への溶解損失がない、従つて、ガス
分析計による正確な測定値が得られるのであ
る。
合のような試料ガス中の測定対象物質の洗浄水
への溶解損失がないことは勿論、不揮発性酸を
使用しているため、酸との吸着反応による損失
も少なく、ガス腐蝕性ガス除去剤を、試料ガス
に含まれる水分が凝縮しない温度に加熱するた
め、凝縮水への溶解損失がない、従つて、ガス
分析計による正確な測定値が得られるのであ
る。
図面は本発明の一実施例を示し、第１図は赤外
線式NO分析計により排ガス中のNOx濃度を測定
するシステムのフロシート、第２図は本発明に係
る前処理装置を例示する断面図である。 ２３……腐蝕性ガス除去剤、２４……ヒータ。
線式NO分析計により排ガス中のNOx濃度を測定
するシステムのフロシート、第２図は本発明に係
る前処理装置を例示する断面図である。 ２３……腐蝕性ガス除去剤、２４……ヒータ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 試料ガス通路中に充填する腐蝕性ガス除去剤
として、腐蝕性ガスと反応して不溶性又は難溶性
の塩を形成する金属と不揮発性酸とで形成される
塩と、不揮発性酸との混合物を、粘結性の強い多
孔性物質に含浸乾燥させたものを用いると共に、 前記試料ガス通路中に充填された腐蝕性ガス除
去剤を、試料ガス中の水分が凝縮しない温度以上
に加熱するように構成してある、 ことを特徴とするガス分析計の前処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13855677A JPS5471690A (en) | 1977-11-17 | 1977-11-17 | Previous treatment device for gas analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13855677A JPS5471690A (en) | 1977-11-17 | 1977-11-17 | Previous treatment device for gas analyzer |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5471690A JPS5471690A (en) | 1979-06-08 |
| JPS6137580B2 true JPS6137580B2 (ja) | 1986-08-25 |
Family
ID=15224894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13855677A Granted JPS5471690A (en) | 1977-11-17 | 1977-11-17 | Previous treatment device for gas analyzer |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5471690A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01271894A (ja) * | 1988-03-12 | 1989-10-30 | Harting Elektron Gmbh | 自動販売機 |
| JP2005238081A (ja) * | 2004-02-25 | 2005-09-08 | Horiba Ltd | スクラバ |
| JP2006010555A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Horiba Ltd | ガス分析用前処理装置 |
| JP2011247682A (ja) * | 2010-05-25 | 2011-12-08 | Umg Abs Ltd | ガス測定装置ならびに成形品の製造装置および製造方法 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1977
- 1977-11-17 JP JP13855677A patent/JPS5471690A/ja active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2011247682A (ja) * | 2010-05-25 | 2011-12-08 | Umg Abs Ltd | ガス測定装置ならびに成形品の製造装置および製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5471690A (en) | 1979-06-08 |
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