JPS6136901A - Ptc素子の製造方法 - Google Patents
Ptc素子の製造方法Info
- Publication number
- JPS6136901A JPS6136901A JP15724784A JP15724784A JPS6136901A JP S6136901 A JPS6136901 A JP S6136901A JP 15724784 A JP15724784 A JP 15724784A JP 15724784 A JP15724784 A JP 15724784A JP S6136901 A JPS6136901 A JP S6136901A
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- Japan
- Prior art keywords
- ptc element
- conductor
- resistance
- ptc
- resistivity
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
〔発明の技術分野〕
本発明は、電流制御、保護回路等に用いられるPTC素
子に関する。 〔発明の技術的背漿とその問題点〕 電流制御用、保護回路等に用い過大電流の通電時にジュ
ール熱による自己発熱を利用して素子のif上昇により
素子抵抗が上昇し、それにより過大′Ftff、を絞る
働きをするPTC素子としてBaTi0゜系半導体セラ
ミックス並びにポリマー中にカーボンを分散させた素子
が知られている。BaTiOs系サーミスタの場合通常
100〜126℃のキューリ一点以上で抵抗値の急増が
起り、3〜7桁抵抗傾が変化する。また室温での抵抗率
(まi o” (1cm6度であり、この値は添加する
酸1ヒ物の種類とk(こよって変化し、例えば添加物が
Pb酸(ヒ物の偽合尚抵抗側に変1ヒし、又Sr酸比物
の場合低抵抗側に変化する。モして13a’I”io、
サーミスタをより低い抵抗値にするためにSr酸化物を
添加することが試みられているが、室温抵抗率ρ=10
°〜10’<1cm程変が限界であった。 このよう1こ従来のBaTiO3系PT(、’サーミス
タでは、ρの十分低い値が得られないため、大電力での
使用ができないという欠薇かあった。 〔発明の目的〕 本発明は以上の点を考慮してなされ1こものであり、素
子のρを低下し、大醒力下でも使用できるPTC素子の
製造方法を提供することを目的とする。 〔発明の概要〕 発明者らはBaTi0.系PTCサーミスタのρを低下
させる方法を検討した結果、専心性物質と複合1ヒする
ことが有効であることを見い出した。しかも複合比の方
法としては多孔實体のBaTi0.糸セラミックスに専
心性物質を液体状に含浸させる方法が有効でしかもBa
Ti0.系セラミックスの特性を損なうことなく複合比
し得ることを見出した。 このことは、13ai’i0.糸に限らず、正を晶度係
数セラ2ツク抵抗体全般に適用できる。例えばLa。 Ce、Sr、Pbその他の酸化物をドープしたBaTl
0゜系、Cr、AA!、Fe、Cu、Ni、Co、Sn
等を含む■、0゜系等が挙げられる。 本発明による低抵抗PTC素子1ま、ρの値が10−1
〜10’Qcm&導taに漬れ、しかも導電体として金
属を用いれば、この導電体の存在により大電流印加時に
局部過熱の起ることが防止されたとえ起るとしてもクラ
ックの入ることが少なくなる。 また金属導電体量身の持つIFの(1(抗温度特性がP
TC効果に寄与することができる。 導電体として)ま、抵抗体自身の抵抗値よりも小さけれ
ば良い。しかしながら耐熱価11 Fj、等iIJ記効
果を発揮する1こめには、A11J、Cu、・Fe、N
l、Sn等の金属導体を用いることが好ましい。 導電体の含浸法としてIJl例えば有機溶剤中(こ分散
したものを用いても良いし、金属塩浴l洸を用いること
もできる。これらの溶液を吸引含u1こよりPTCセラ
ミック中に含浸させる特開昭58−28803号に示さ
れているようIこCu粉末と混合して焼結する方法も仮
合体を形成ず6が、金属の酸化を防止するため、不活性
雰囲気、真空、又は還元雰囲気中で焼成し、その後Ba
’l’101を酸化し1) T C効果を得なければな
らないという欠点を自しており、しかも焼rrYのため
に高い湛IJ[(〜1300℃)に保持しなければなら
ず複合可能な金鴫のi類が限られる。 これ1こ対し、本発明り法を用いることで、比較的低い
温度で摺合化が1丁能であり複@後の熱処理などを行う
必要がなく製造t41あり様々な導1匡体を用いること
が可能となり、特性的にも優イtている。 ここで含浸させる金属導電体量は室温抵抗の低下並びに
耐熱衝撃性の向上に効果がある。含浸量は5〜40 w
t%が好ましく、40%をこえると金属導電体粒子同士
が接続するこ七になりPTC効来が損われる恐れがある
。一方5%未満となると室温抵抗の低下が小さい。 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明によれば、ρが十分低下し、
しかも抵抗変[ヒ等を低下させることがないため、非常
lこ優れたPTC素子を得ることができる。 特に大市力用乏して好適である。 〔発明の冥癩例〕 以下本発明を実施例を挙げ説明する。 まずセラミックス正温度係数抵抗体吉してチタン酸バリ
ウムを作成した。基本成分であるチタン酸バリウムセリ
ウA (Ba 0999 Ceooox)TiOaにな
るように炭酸バリウム、酸rヒセリウム、酸化チタンを
秤E1しボールミルにより湿式混合粉砕する。 次にこれらを乾慄11100℃で1時間仮焼し再びボー
トミルにより粉砕し調合粉末とする。この粉末を適当な
形状のルツボに入れ13’ 00〜1400℃1時間焼
成しP T C多孔質体を得る。一方市販の銀ペースト
を専用の希しゃく用溶剤で適当な粘性に調整した液体を
多孔質の一方を負の圧力にして含浸させる。こうして得
られた多孔質含浸材を所定の温度に保持しペーストを焼
きつける。この焼成体の重量から第1表に示すような含
浸漬を得た。 この焼成体の両+nllを金属板ではさみ1[ffiと
して四端子法測定用サンプルとし1こ。 このようiこして得られたそれぞれのPTC素子につい
て室温から300℃話での見かけの抵抗率を測定した結
果を第1図に示す。J>4下?’fB第1表 第1図から実施例1〜4のPTC素子は比較例1に比べ
子に関する。 〔発明の技術的背漿とその問題点〕 電流制御用、保護回路等に用い過大電流の通電時にジュ
ール熱による自己発熱を利用して素子のif上昇により
素子抵抗が上昇し、それにより過大′Ftff、を絞る
働きをするPTC素子としてBaTi0゜系半導体セラ
ミックス並びにポリマー中にカーボンを分散させた素子
が知られている。BaTiOs系サーミスタの場合通常
100〜126℃のキューリ一点以上で抵抗値の急増が
起り、3〜7桁抵抗傾が変化する。また室温での抵抗率
(まi o” (1cm6度であり、この値は添加する
酸1ヒ物の種類とk(こよって変化し、例えば添加物が
Pb酸(ヒ物の偽合尚抵抗側に変1ヒし、又Sr酸比物
の場合低抵抗側に変化する。モして13a’I”io、
サーミスタをより低い抵抗値にするためにSr酸化物を
添加することが試みられているが、室温抵抗率ρ=10
°〜10’<1cm程変が限界であった。 このよう1こ従来のBaTiO3系PT(、’サーミス
タでは、ρの十分低い値が得られないため、大電力での
使用ができないという欠薇かあった。 〔発明の目的〕 本発明は以上の点を考慮してなされ1こものであり、素
子のρを低下し、大醒力下でも使用できるPTC素子の
製造方法を提供することを目的とする。 〔発明の概要〕 発明者らはBaTi0.系PTCサーミスタのρを低下
させる方法を検討した結果、専心性物質と複合1ヒする
ことが有効であることを見い出した。しかも複合比の方
法としては多孔實体のBaTi0.糸セラミックスに専
心性物質を液体状に含浸させる方法が有効でしかもBa
Ti0.系セラミックスの特性を損なうことなく複合比
し得ることを見出した。 このことは、13ai’i0.糸に限らず、正を晶度係
数セラ2ツク抵抗体全般に適用できる。例えばLa。 Ce、Sr、Pbその他の酸化物をドープしたBaTl
0゜系、Cr、AA!、Fe、Cu、Ni、Co、Sn
等を含む■、0゜系等が挙げられる。 本発明による低抵抗PTC素子1ま、ρの値が10−1
〜10’Qcm&導taに漬れ、しかも導電体として金
属を用いれば、この導電体の存在により大電流印加時に
局部過熱の起ることが防止されたとえ起るとしてもクラ
ックの入ることが少なくなる。 また金属導電体量身の持つIFの(1(抗温度特性がP
TC効果に寄与することができる。 導電体として)ま、抵抗体自身の抵抗値よりも小さけれ
ば良い。しかしながら耐熱価11 Fj、等iIJ記効
果を発揮する1こめには、A11J、Cu、・Fe、N
l、Sn等の金属導体を用いることが好ましい。 導電体の含浸法としてIJl例えば有機溶剤中(こ分散
したものを用いても良いし、金属塩浴l洸を用いること
もできる。これらの溶液を吸引含u1こよりPTCセラ
ミック中に含浸させる特開昭58−28803号に示さ
れているようIこCu粉末と混合して焼結する方法も仮
合体を形成ず6が、金属の酸化を防止するため、不活性
雰囲気、真空、又は還元雰囲気中で焼成し、その後Ba
’l’101を酸化し1) T C効果を得なければな
らないという欠点を自しており、しかも焼rrYのため
に高い湛IJ[(〜1300℃)に保持しなければなら
ず複合可能な金鴫のi類が限られる。 これ1こ対し、本発明り法を用いることで、比較的低い
温度で摺合化が1丁能であり複@後の熱処理などを行う
必要がなく製造t41あり様々な導1匡体を用いること
が可能となり、特性的にも優イtている。 ここで含浸させる金属導電体量は室温抵抗の低下並びに
耐熱衝撃性の向上に効果がある。含浸量は5〜40 w
t%が好ましく、40%をこえると金属導電体粒子同士
が接続するこ七になりPTC効来が損われる恐れがある
。一方5%未満となると室温抵抗の低下が小さい。 〔発明の効果〕 以上説明したように本発明によれば、ρが十分低下し、
しかも抵抗変[ヒ等を低下させることがないため、非常
lこ優れたPTC素子を得ることができる。 特に大市力用乏して好適である。 〔発明の冥癩例〕 以下本発明を実施例を挙げ説明する。 まずセラミックス正温度係数抵抗体吉してチタン酸バリ
ウムを作成した。基本成分であるチタン酸バリウムセリ
ウA (Ba 0999 Ceooox)TiOaにな
るように炭酸バリウム、酸rヒセリウム、酸化チタンを
秤E1しボールミルにより湿式混合粉砕する。 次にこれらを乾慄11100℃で1時間仮焼し再びボー
トミルにより粉砕し調合粉末とする。この粉末を適当な
形状のルツボに入れ13’ 00〜1400℃1時間焼
成しP T C多孔質体を得る。一方市販の銀ペースト
を専用の希しゃく用溶剤で適当な粘性に調整した液体を
多孔質の一方を負の圧力にして含浸させる。こうして得
られた多孔質含浸材を所定の温度に保持しペーストを焼
きつける。この焼成体の重量から第1表に示すような含
浸漬を得た。 この焼成体の両+nllを金属板ではさみ1[ffiと
して四端子法測定用サンプルとし1こ。 このようiこして得られたそれぞれのPTC素子につい
て室温から300℃話での見かけの抵抗率を測定した結
果を第1図に示す。J>4下?’fB第1表 第1図から実施例1〜4のPTC素子は比較例1に比べ
【氏抗の変化率(最大抵抗率/室幅抵抗率)ははきんど
変1ヒしていないにもかかわらず室温での抵抗率は3〜
4桁低い値となっている。 またこうして得られたPTC素子lこ】K&の一流を5
分!tJ] J ;t したところ、すべてクラックは
発生せ−i s クラックの発生した比較1flJ1+
こくらべて著しく耐熱衝撃性が向上していることが確認
された。
変1ヒしていないにもかかわらず室温での抵抗率は3〜
4桁低い値となっている。 またこうして得られたPTC素子lこ】K&の一流を5
分!tJ] J ;t したところ、すべてクラックは
発生せ−i s クラックの発生した比較1flJ1+
こくらべて著しく耐熱衝撃性が向上していることが確認
された。
第1図は本発明によるPTC素子の実施例及び比較例に
おける抵抗率一温度特性を示す曲線図。
おける抵抗率一温度特性を示す曲線図。
Claims (2)
- (1)正温変係数セラミツク抵抗体からなる多孔質体に
、導電体を含浸することを特徴とするPTC素子の製造
方法。 - (2)前記導電体は素子全体の5〜40重量%であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載のPTC素子
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15724784A JPS6136901A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | Ptc素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15724784A JPS6136901A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | Ptc素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6136901A true JPS6136901A (ja) | 1986-02-21 |
Family
ID=15645458
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15724784A Pending JPS6136901A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | Ptc素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6136901A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0678709A3 (en) * | 1994-04-22 | 1996-10-09 | Isuzu Ceramics Res Inst | Device with self-regulation of the electric current. |
JP2011216637A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Murata Mfg Co Ltd | 積層正特性サーミスタ及び積層正特性サーミスタの製造方法 |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP15724784A patent/JPS6136901A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0678709A3 (en) * | 1994-04-22 | 1996-10-09 | Isuzu Ceramics Res Inst | Device with self-regulation of the electric current. |
US5834736A (en) * | 1994-04-22 | 1998-11-10 | Isuzu Ceramics Research Institute Co., Ltd. | Glow plug with porous PTC element impregnated with metal therein |
JP2011216637A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Murata Mfg Co Ltd | 積層正特性サーミスタ及び積層正特性サーミスタの製造方法 |
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