JPS6135235A - 高分子チユ−ブ内面改質連続処理方法及びその処理装置 - Google Patents
高分子チユ−ブ内面改質連続処理方法及びその処理装置Info
- Publication number
- JPS6135235A JPS6135235A JP15527284A JP15527284A JPS6135235A JP S6135235 A JPS6135235 A JP S6135235A JP 15527284 A JP15527284 A JP 15527284A JP 15527284 A JP15527284 A JP 15527284A JP S6135235 A JPS6135235 A JP S6135235A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tube
- water tank
- cooling water
- polymer
- cut
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D23/00—Producing tubular articles
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、高分子チューブ成形加工時にチューブ内面に
表面改質処理を連続的に行なう高分子チューブ内面改質
連続処理方法及びその処理装置に関するものである。
表面改質処理を連続的に行なう高分子チューブ内面改質
連続処理方法及びその処理装置に関するものである。
高分子チューブのチューブ内面を改質する処理方法とし
て、特開昭５４−５６６７２に記載の方式が開示されて
いる。上記方式は塩化ビニールやポリプロピレン等の高
分子チューブ内面をグロー放電処理またはプラズマ重合
層からなる面に形成し、チューブ内面を改質処理するも
のであるが、上記先行技術には、高分子チューブ内面の
改質処理を工業的に行なう実用的な装置、即ち上記改質
処理を連続的に大量に行なう方法及びその処理装置につ
いては言及されていない。
て、特開昭５４−５６６７２に記載の方式が開示されて
いる。上記方式は塩化ビニールやポリプロピレン等の高
分子チューブ内面をグロー放電処理またはプラズマ重合
層からなる面に形成し、チューブ内面を改質処理するも
のであるが、上記先行技術には、高分子チューブ内面の
改質処理を工業的に行なう実用的な装置、即ち上記改質
処理を連続的に大量に行なう方法及びその処理装置につ
いては言及されていない。
本発明は高分子チューブの内面の改質処理を連続的に行
なう、大量生産に好適な高分子チューブ内面改質処理方
法及びその処理装置を提供することを目的とする。
なう、大量生産に好適な高分子チューブ内面改質処理方
法及びその処理装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため本発明は、高分子チューブの原
料を押出機にてチューブ状ダイスに押出し、ダイスヘッ
ドに連設された適宜長さの冷却水槽に高分子チューブを
挿入し、チューブの切断端をシールし、改質ガスをチュ
ーブ内に吹き込んだのち、チューブ内を低圧に保持し、
冷却水槽の両側に設けられた一対の電極に電圧を印加し
、チューブ内部をプラズマ処理して内面を改善し、改質
処理済みの適宜長さのチューブを冷却水槽より延出して
所定長さに切断すると共に、処理済みのチューブに連続
して押出される未処理チューブを上記冷却水槽に挿入し
、上記処理を連続して行なう構成を有す、また第２の発
明は高分子チューブ原料の押出機と、押出機に連設され
たチューブ状ダイスと、ダイスに連設されたヘッド部と
、軸方向にチューブ挿入孔を形成する適宜長さの冷却水
槽と、この水槽には両側部に上記挿入孔外周を覆う一対
のリング状の電極を備え、上記電極に電圧を印加する電
源装置と、冷却水槽の上記挿入孔に吹込み口を開口する
ガス吹込み装置と、上記冷却水槽の出口側に対向して配
置され、軸方向に走行する切断機と、この切断機は、テ
ーバ状のエツジ部を有する半割部材にて形成され、上記
一対の半割部材はチューブ切断端を密着保持する凹部と
、エツジ部は互いに密着する接触面と、冷却水槽側のエ
ツジ部近くに開口する排気孔を備え、上記排気孔に接続
する真空ポンプを設けてなる構成を有する。
料を押出機にてチューブ状ダイスに押出し、ダイスヘッ
ドに連設された適宜長さの冷却水槽に高分子チューブを
挿入し、チューブの切断端をシールし、改質ガスをチュ
ーブ内に吹き込んだのち、チューブ内を低圧に保持し、
冷却水槽の両側に設けられた一対の電極に電圧を印加し
、チューブ内部をプラズマ処理して内面を改善し、改質
処理済みの適宜長さのチューブを冷却水槽より延出して
所定長さに切断すると共に、処理済みのチューブに連続
して押出される未処理チューブを上記冷却水槽に挿入し
、上記処理を連続して行なう構成を有す、また第２の発
明は高分子チューブ原料の押出機と、押出機に連設され
たチューブ状ダイスと、ダイスに連設されたヘッド部と
、軸方向にチューブ挿入孔を形成する適宜長さの冷却水
槽と、この水槽には両側部に上記挿入孔外周を覆う一対
のリング状の電極を備え、上記電極に電圧を印加する電
源装置と、冷却水槽の上記挿入孔に吹込み口を開口する
ガス吹込み装置と、上記冷却水槽の出口側に対向して配
置され、軸方向に走行する切断機と、この切断機は、テ
ーバ状のエツジ部を有する半割部材にて形成され、上記
一対の半割部材はチューブ切断端を密着保持する凹部と
、エツジ部は互いに密着する接触面と、冷却水槽側のエ
ツジ部近くに開口する排気孔を備え、上記排気孔に接続
する真空ポンプを設けてなる構成を有する。
以下、本発明の一実施例を図面にもとづき説明する。第
１図は装置全体の構造図、第２図はスクリュー軸軸端の
ガス供給管路の接続構造を示す断面図、第３図（ａ）（
ｂ）は切断機兼中シール部材の構造を示す図、第４図は
装置全体を側面から見た構造図を示す、第１図において
、１は原料の供給管で、その下方にはホッパードライヤ
２が配置され、更にその下方にはスクリュー押出機３が
配置されている。このスクリュー押出機３は原動機４か
ら伝達機構４ａを介し駆動されるスクリュー軸３ａを内
装し、投入された原料を圧縮、混練し、出口側に押出す
、上記出口側にはダイス５が配設され、外型５ａ、内型
５ｂの隙間にてチューブ状原形５１が形成される。６は
ダイス５の先端に連設されたヘッドで、チューブの口径
の割り振りを行なう、７は冷却水槽で、上記ヘッド６の
出口側に連設されている。この冷却水槽７は軸方向に適
宜長さを有し、ベローズ８にて軸心部にチューブ挿入孔
９を形成している。１０は上記水槽７の両側部に配設さ
れ挿入孔９の外周を覆う一対のリング状の電極である。
１図は装置全体の構造図、第２図はスクリュー軸軸端の
ガス供給管路の接続構造を示す断面図、第３図（ａ）（
ｂ）は切断機兼中シール部材の構造を示す図、第４図は
装置全体を側面から見た構造図を示す、第１図において
、１は原料の供給管で、その下方にはホッパードライヤ
２が配置され、更にその下方にはスクリュー押出機３が
配置されている。このスクリュー押出機３は原動機４か
ら伝達機構４ａを介し駆動されるスクリュー軸３ａを内
装し、投入された原料を圧縮、混練し、出口側に押出す
、上記出口側にはダイス５が配設され、外型５ａ、内型
５ｂの隙間にてチューブ状原形５１が形成される。６は
ダイス５の先端に連設されたヘッドで、チューブの口径
の割り振りを行なう、７は冷却水槽で、上記ヘッド６の
出口側に連設されている。この冷却水槽７は軸方向に適
宜長さを有し、ベローズ８にて軸心部にチューブ挿入孔
９を形成している。１０は上記水槽７の両側部に配設さ
れ挿入孔９の外周を覆う一対のリング状の電極である。
１１は高周波電源で、！！１合回路１２を介し上記電極
１０に電圧を印加する。
１０に電圧を印加する。
１３はガス吹出し管で、前述のスクリュー軸３ａの軸心
に穿設されたガス供給孔３ｂの端部に接続され、ダイス
５及びヘッド６部を貫通して配置され、先端にノズル１
３ａを形成し、冷却水槽７の挿入孔９の軸心位置に開口
している。１４はスクリュー軸３ａのガス供給孔３ｂに
ガスを供給するガス発生ポンプまたはボンベで、管路１
４にて上記ガス供給孔３ｂに接続する。管路１４ａとガ
ス供給孔３ｂの接続は、第２図に示すようにシールリン
グ１５を介在して行なう、２０は切断機兼用シール装置
（以下シール装置と呼ぶ）で、この装置は、切断刃兼用
シール部材と、この部材を作動するシリンダ部材、上記
シール部材とシリンダ部材を軸方向に走行させる走行部
材にて形成される。
に穿設されたガス供給孔３ｂの端部に接続され、ダイス
５及びヘッド６部を貫通して配置され、先端にノズル１
３ａを形成し、冷却水槽７の挿入孔９の軸心位置に開口
している。１４はスクリュー軸３ａのガス供給孔３ｂに
ガスを供給するガス発生ポンプまたはボンベで、管路１
４にて上記ガス供給孔３ｂに接続する。管路１４ａとガ
ス供給孔３ｂの接続は、第２図に示すようにシールリン
グ１５を介在して行なう、２０は切断機兼用シール装置
（以下シール装置と呼ぶ）で、この装置は、切断刃兼用
シール部材と、この部材を作動するシリンダ部材、上記
シール部材とシリンダ部材を軸方向に走行させる走行部
材にて形成される。
切断刃兼用シール部材は第３図（ａ）（ｂ）に詳細に示
すように、半割シール部材２１ａ、２１ｂにて形成され
、この部材２１ａ、２１ｂの冷却水槽側の側面はチュー
ブ５２の切断端が挿入されるように１円形の凹部２２を
有し、更に該凹部２２の内周面の位置には、テフロンゴ
ム等の弾性のシールリング２３を装着する環状攻防部２
４が形成さ九ている。またこの半割シール部材はその接
合面に向かいテーパ状２５に形成され、接合面はシャー
プなエツジ２６に成形され切断刃を形成すると共に、こ
のエツジ部２６は互いに密着する接触面をも有し、この
接触面を所定面圧で押し付ければ、エツジ部がシールさ
れるように形成されている。また半割シール部材の一方
２１ａにはエツジ部近くの凹部面に開口する排気孔２７
が穿設され、該排気孔２７は外部の真空ポンプ２８に伸
縮自在のフレキシブルホース２９にて接続されている。
すように、半割シール部材２１ａ、２１ｂにて形成され
、この部材２１ａ、２１ｂの冷却水槽側の側面はチュー
ブ５２の切断端が挿入されるように１円形の凹部２２を
有し、更に該凹部２２の内周面の位置には、テフロンゴ
ム等の弾性のシールリング２３を装着する環状攻防部２
４が形成さ九ている。またこの半割シール部材はその接
合面に向かいテーパ状２５に形成され、接合面はシャー
プなエツジ２６に成形され切断刃を形成すると共に、こ
のエツジ部２６は互いに密着する接触面をも有し、この
接触面を所定面圧で押し付ければ、エツジ部がシールさ
れるように形成されている。また半割シール部材の一方
２１ａにはエツジ部近くの凹部面に開口する排気孔２７
が穿設され、該排気孔２７は外部の真空ポンプ２８に伸
縮自在のフレキシブルホース２９にて接続されている。
上記一対の半割シール部材２１ａ、２１ｂはシリンダ３
１ａ、３１ｂに内装されたピストン３２ａ。
１ａ、３１ｂに内装されたピストン３２ａ。
３２ｂの先端に固着され、シリンダ３１ａ、３１ｂに油
圧を給排して一対の半割シール部材２１ａ。
圧を給排して一対の半割シール部材２１ａ。
２１ｂを両シリンダの軸方向に移動させる。即ち、該シ
ール部材にてチューブを両側から挟み付は切断すると共
に図示のようにチューブ端面をシールしたり、またチュ
ーブより離脱する位置に移動される。上記シリンダ３１
ａ、３１ｂには第４図に示すように脚部３３ａ、３３ｂ
が突設され、下端に車輪３４ａ、３４ｂを取付け、この
車輪３４ａ。
ール部材にてチューブを両側から挟み付は切断すると共
に図示のようにチューブ端面をシールしたり、またチュ
ーブより離脱する位置に移動される。上記シリンダ３１
ａ、３１ｂには第４図に示すように脚部３３ａ、３３ｂ
が突設され、下端に車輪３４ａ、３４ｂを取付け、この
車輪３４ａ。
３４ｂはレール３５ａ、３５ｂ上を走行する。即ち、レ
ール３５ａ、３５ｂはチューブ５２．５３の延出方向に
平行に敷設されており、シール部材２１ａ、２１ｂ及び
シリンダ部材３１ａ、３１ｂは実線で示す位置と鎖線で
示す位置３１ａ’。
ール３５ａ、３５ｂはチューブ５２．５３の延出方向に
平行に敷設されており、シール部材２１ａ、２１ｂ及び
シリンダ部材３１ａ、３１ｂは実線で示す位置と鎖線で
示す位置３１ａ’。
３１ｂ′とを往復走行する。第４図において。
３６ａ、３６ｂは走行用の駆動原動機を示す、またペー
ス４１の溝４２は切断されて落下したチューブ５３′の
収納空間を示す。
ス４１の溝４２は切断されて落下したチューブ５３′の
収納空間を示す。
次にその作用について説明する。
高分子材料の原料（通常、樹脂状のペレット）は顔料、
安定剤、配合剤等を調合されて供給管１よりホッパード
ライヤ２に供給され乾燥される。
安定剤、配合剤等を調合されて供給管１よりホッパード
ライヤ２に供給され乾燥される。
乾燥後、原動機４により駆動されるスクリュー押出機３
に充填され、圧縮、混線され、ダイス５に押出される。
に充填され、圧縮、混線され、ダイス５に押出される。
ダイス５により偏肉調整ボルト（図示せず）にてチュー
ブ肉厚が均等になるよう調整され、ヘッド６にてチュー
プロ径の割り振りが行なわれる０次いで高分子チューブ
５２は冷却水槽７の挿入孔９に挿入され、冷却され乍ら
左方に伸びていき先端は冷却水槽７らより延出した所定
位置にて、後述の切断機兼用シール装置２０の半割シー
ル部材２１ａ、２１ｂにてシールされる１次いでチュー
ブ５２内に、プラズマ処理の如き内面改質処理に必要な
ガス（例えばアルゴンガス、窒素ガス等）を、ガス発生
ポンプまたはボンベ１４より管路１４ａ、ガス供給孔３
６．ガス吹出し管１３を介しノズル１３ａより吹き込み
チューブ５２を膨らませて所定口径に仕上成形する０次
いでチューブ５２内を真空ポンプ２８にて引いて低圧（
通常大気圧より若干低い真空度）にしたのち。
ブ肉厚が均等になるよう調整され、ヘッド６にてチュー
プロ径の割り振りが行なわれる０次いで高分子チューブ
５２は冷却水槽７の挿入孔９に挿入され、冷却され乍ら
左方に伸びていき先端は冷却水槽７らより延出した所定
位置にて、後述の切断機兼用シール装置２０の半割シー
ル部材２１ａ、２１ｂにてシールされる１次いでチュー
ブ５２内に、プラズマ処理の如き内面改質処理に必要な
ガス（例えばアルゴンガス、窒素ガス等）を、ガス発生
ポンプまたはボンベ１４より管路１４ａ、ガス供給孔３
６．ガス吹出し管１３を介しノズル１３ａより吹き込み
チューブ５２を膨らませて所定口径に仕上成形する０次
いでチューブ５２内を真空ポンプ２８にて引いて低圧（
通常大気圧より若干低い真空度）にしたのち。
リング状の一対の電極１０に高周波電圧が印加されると
、チューブ５２内にプラズマ放電が行われる０通常、電
極の加熱作用で過熱状態になるチューブは冷却水槽７の
冷却作用で適温に保たれ、上記プラズマ放電は安定して
行なわれる。上記放電作用が終了すればチューブ５２は
更に左方に延長すると共に、切断機兼用シール装置２０
は半割シール部材２１ａ、２１ｂでチューブ先端をつか
んだままレール３５ａ、３５ｂを左方に走行する。
、チューブ５２内にプラズマ放電が行われる０通常、電
極の加熱作用で過熱状態になるチューブは冷却水槽７の
冷却作用で適温に保たれ、上記プラズマ放電は安定して
行なわれる。上記放電作用が終了すればチューブ５２は
更に左方に延長すると共に、切断機兼用シール装置２０
は半割シール部材２１ａ、２１ｂでチューブ先端をつか
んだままレール３５ａ、３５ｂを左方に走行する。
チューブが所定長さ延出し、且つ、上記シール装置！２
０が鎖線で示す所定位１ｉ３１ａ’ 、３１ｂ’
−に至れば、半割シール部材２１ａ、２１ｂはシリンダ
３１ａ、３１ｂ、・ピストン３２ ａ ｔ ３２ ｂを
介しチューブを離し、上記シール装置２０は早送り機構
の原理で高速で右方に走行し、冷却水槽７の出口部の所
定の図示位置に戻る０次いでシリンダ３１ａ、３１ｂに
油圧を供給し、ピストン３２ａ。
０が鎖線で示す所定位１ｉ３１ａ’ 、３１ｂ’
−に至れば、半割シール部材２１ａ、２１ｂはシリンダ
３１ａ、３１ｂ、・ピストン３２ ａ ｔ ３２ ｂを
介しチューブを離し、上記シール装置２０は早送り機構
の原理で高速で右方に走行し、冷却水槽７の出口部の所
定の図示位置に戻る０次いでシリンダ３１ａ、３１ｂに
油圧を供給し、ピストン３２ａ。
３２ｂを押し出し、一対の半割シール部材２１ａ。
２１ｂのエツジ部２６でチューブを切断すると共に、冷
却水槽７より延出しているチューブ５２の上記切断端は
半割シール部材２１ａ、２１ｂの円形の凹部２２と密着
状態を保持すると共に、外周部はテフロンゴム等の弾性
のシールリング２３にて密着され、チューブ５２の切断
端は半割シール部材２１ａ、２１ｂにてシールされ、次
いで前述のガス吹き込み作用が再び行なわれる。一方所
定長さに切断されたチューブ５３は溝４２に落下し収納
される。上記作用は連続して行なわれ、内面が改質され
た所定長さの高分子チューブは連続して生産される。
却水槽７より延出しているチューブ５２の上記切断端は
半割シール部材２１ａ、２１ｂの円形の凹部２２と密着
状態を保持すると共に、外周部はテフロンゴム等の弾性
のシールリング２３にて密着され、チューブ５２の切断
端は半割シール部材２１ａ、２１ｂにてシールされ、次
いで前述のガス吹き込み作用が再び行なわれる。一方所
定長さに切断されたチューブ５３は溝４２に落下し収納
される。上記作用は連続して行なわれ、内面が改質され
た所定長さの高分子チューブは連続して生産される。
以上説明したように、本発明によれば、高分子チューブ
を押出成形後、移動させながら、プラズマ処理の如き表
面改質処理を連続的に行なうことができるので、大量生
産方法として経済的で安価であり、かつ成形加工速度と
同じ速度で高効率に表面改質処理ができる。又、プラズ
マ処理に特有の電極加熱によるバイブ過熱を冷却水槽部
による冷却効果で防止することができ、熱歪の少ない良
質なパイプを得ることができる。更に、従来の高分子チ
ューブ成形加工設備を使って、新たにプラズマ処理の如
き表面改質処理を行なおうとする場合でも従来設備の一
部即ち水槽部に電極を追加することを切断機にシール機
構、走行機構をもたせる変更を加えるだけで、極めて容
易にかつ廉価に実現可能である。
を押出成形後、移動させながら、プラズマ処理の如き表
面改質処理を連続的に行なうことができるので、大量生
産方法として経済的で安価であり、かつ成形加工速度と
同じ速度で高効率に表面改質処理ができる。又、プラズ
マ処理に特有の電極加熱によるバイブ過熱を冷却水槽部
による冷却効果で防止することができ、熱歪の少ない良
質なパイプを得ることができる。更に、従来の高分子チ
ューブ成形加工設備を使って、新たにプラズマ処理の如
き表面改質処理を行なおうとする場合でも従来設備の一
部即ち水槽部に電極を追加することを切断機にシール機
構、走行機構をもたせる変更を加えるだけで、極めて容
易にかつ廉価に実現可能である。
第１図は本発明の一実施例を示す高分子チューブ製造装
置兼内面改質連続処理装置の全体構造図、第２図はスク
リュー押出機のスクリュー軸軸端のガス供給管路との接
続構造を示す断面図、第３図は切断機兼用シール部材の
構造を示す図で、（ａ）図は正面図、（ｂ）図は縦断面
図、第４図は全体装置の切断機側から見た側面図である
。 ３・・・スクリュー押出機、３ａ・・・スクリュー軸、
３ｂ・・・ガス供給孔、５・・・ダイス、６・・・ヘッ
ド、７・・・冷却水槽、９・・・挿入孔、１０・・・一
対の電極、１１・・・高周波電源、１２・・・整合回路
、１３・・・ガス吹出管、１３ａ・・・ノズル、１４・
・・ガス発生ポンプ、２０・・・切断機兼用シール装置
、２１ａ、２１ｂ・・・半割部材、２２・・・円形の凹
部、２３・・・シールリング、２４・・・環状段部、２
５・・・テーバ、２６・・・エツジ部、２７・・・排気
孔、３８・・・真空ポンプ、３１ａ＊３１ｂ・・・シリ
ンダ、３２ａ、３２ｂ・・・ピストン、３３ａ、３３ｂ
＝脚部、３４ ａ 、 ３４ ｂ−車輪、３５ａ、３５
ｂ”・レール、３６ａ、３６ｂ＝原動機、４１・・・ベ
ース、４２・・・溝、５１・・・チューブ状原形、５２
・・・チューブ、５３・・・チューブ。 第 Ｚ 図 ７、．３図
置兼内面改質連続処理装置の全体構造図、第２図はスク
リュー押出機のスクリュー軸軸端のガス供給管路との接
続構造を示す断面図、第３図は切断機兼用シール部材の
構造を示す図で、（ａ）図は正面図、（ｂ）図は縦断面
図、第４図は全体装置の切断機側から見た側面図である
。 ３・・・スクリュー押出機、３ａ・・・スクリュー軸、
３ｂ・・・ガス供給孔、５・・・ダイス、６・・・ヘッ
ド、７・・・冷却水槽、９・・・挿入孔、１０・・・一
対の電極、１１・・・高周波電源、１２・・・整合回路
、１３・・・ガス吹出管、１３ａ・・・ノズル、１４・
・・ガス発生ポンプ、２０・・・切断機兼用シール装置
、２１ａ、２１ｂ・・・半割部材、２２・・・円形の凹
部、２３・・・シールリング、２４・・・環状段部、２
５・・・テーバ、２６・・・エツジ部、２７・・・排気
孔、３８・・・真空ポンプ、３１ａ＊３１ｂ・・・シリ
ンダ、３２ａ、３２ｂ・・・ピストン、３３ａ、３３ｂ
＝脚部、３４ ａ 、 ３４ ｂ−車輪、３５ａ、３５
ｂ”・レール、３６ａ、３６ｂ＝原動機、４１・・・ベ
ース、４２・・・溝、５１・・・チューブ状原形、５２
・・・チューブ、５３・・・チューブ。 第 Ｚ 図 ７、．３図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、高分子チューブの原料を押出機にてチューブ状ダイ
スに押出し、ダイスヘッドに連設された適宜長さの冷却
水槽に高分子チューブを挿入し、チューブの切断端をシ
ールし、改質ガスをチューブ内に吹き込んだのち、チュ
ーブ内を低圧に保持し、冷却水槽の両側に設けられた一
対の電極に電圧を印加し、チューブ内部をプラズマ処理
して内面を改質し、改質処理済みの適宜長さのチューブ
を冷却水槽より延出して所定長さに切断すると共に、処
理済みのチューブに連続して押出される未処理チューブ
を上記冷却水槽に挿入し、上記処理を連続して行なうこ
とを特徴とする高分子チューブ内面改質連続処理方法。 ２、高分子チューブ原料の押出機と、押出機に連設され
たチューブ状ダイスと、ダイスに連設されたヘッド部と
、軸方向にチューブ挿入孔を形成する適宜長さの冷却水
槽と、この水槽には両側部に上記挿入孔外周を覆う一対
のリング状の電極を備え、上記電極に電圧を印加する電
源装置と、冷却水槽の上記挿入孔に吹込み口を開口する
ガス吹込み装置を、上記冷却水槽の出口側に対向して配
置され、軸方向に走行する切断機と、この切断機はテー
パ状のエッジ部を有する半割部材にて形成され、上記一
対の半割部材は、チューブ切断端を密着保持する凹部と
、エッジ部は互いに密着する接触面と、冷却水槽側のエ
ッジ部近くに開口する排気孔を備え、上記排気孔に接続
する真空ポンプを設けてなることを特徴とする高分子チ
ューブ内面改質連続処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15527284A JPS6135235A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 高分子チユ−ブ内面改質連続処理方法及びその処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15527284A JPS6135235A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 高分子チユ−ブ内面改質連続処理方法及びその処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6135235A true JPS6135235A (ja) | 1986-02-19 |
Family
ID=15602273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15527284A Pending JPS6135235A (ja) | 1984-07-27 | 1984-07-27 | 高分子チユ−ブ内面改質連続処理方法及びその処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6135235A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62187752A (ja) * | 1986-02-14 | 1987-08-17 | Hitachi Ltd | 耐熱性樹脂組成物及び樹脂封止型半導体装置 |
| WO1999059185A1 (en) * | 1998-05-08 | 1999-11-18 | Asten, Inc. | Structures and components thereof having a desired surface characteristic together with methods and apparatuses for producing the same |
| US6287687B1 (en) | 1998-05-08 | 2001-09-11 | Asten, Inc. | Structures and components thereof having a desired surface characteristic together with methods and apparatuses for producing the same |
| ITVR20100181A1 (it) * | 2010-09-16 | 2012-03-17 | Gomma Tubi | Metodo ed apparecchiatura per il trattamento superficiale di sottostrati tubolari collassabili destinati alla realizzazione di tubi multistrato |
| WO2017108001A1 (zh) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 杜崇铭 | 智能化物料塑化双线生产系统 |
-
1984
- 1984-07-27 JP JP15527284A patent/JPS6135235A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62187752A (ja) * | 1986-02-14 | 1987-08-17 | Hitachi Ltd | 耐熱性樹脂組成物及び樹脂封止型半導体装置 |
| WO1999059185A1 (en) * | 1998-05-08 | 1999-11-18 | Asten, Inc. | Structures and components thereof having a desired surface characteristic together with methods and apparatuses for producing the same |
| US6146462A (en) * | 1998-05-08 | 2000-11-14 | Astenjohnson, Inc. | Structures and components thereof having a desired surface characteristic together with methods and apparatuses for producing the same |
| US6287687B1 (en) | 1998-05-08 | 2001-09-11 | Asten, Inc. | Structures and components thereof having a desired surface characteristic together with methods and apparatuses for producing the same |
| ITVR20100181A1 (it) * | 2010-09-16 | 2012-03-17 | Gomma Tubi | Metodo ed apparecchiatura per il trattamento superficiale di sottostrati tubolari collassabili destinati alla realizzazione di tubi multistrato |
| EP2431643A1 (en) * | 2010-09-16 | 2012-03-21 | MANIFATTURA TUBI GOMMA S.p.A. | Method and apparatus for the surface treatment of collapsible tubular sub-layers intended for the production of multy-layer tubes |
| WO2017108001A1 (zh) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | 杜崇铭 | 智能化物料塑化双线生产系统 |
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