JPS6130156Y2 - - Google Patents
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- JPS6130156Y2 JPS6130156Y2 JP7346282U JP7346282U JPS6130156Y2 JP S6130156 Y2 JPS6130156 Y2 JP S6130156Y2 JP 7346282 U JP7346282 U JP 7346282U JP 7346282 U JP7346282 U JP 7346282U JP S6130156 Y2 JPS6130156 Y2 JP S6130156Y2
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- 239000000725 suspension Substances 0.000 claims description 20
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- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 6
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims description 2
- JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N phencyclidine Chemical class C1CCCCN1C1(C=2C=CC=CC=2)CCCCC1 JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 30
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 6
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Landscapes
- Crucibles And Fluidized-Bed Furnaces (AREA)
- Furnace Details (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、セメント焼成用サスペンシヨンプレ
ヒータ、あるいは石灰、ドロマイト、アルミナ焼
成用プレヒータ等における原料供給用シユート
と、分散板の改良に係るものである。
ヒータ、あるいは石灰、ドロマイト、アルミナ焼
成用プレヒータ等における原料供給用シユート
と、分散板の改良に係るものである。
第1図は、従来一般に使用されているセメント
焼成装置を示し、サスペンシヨンプレヒータ1
は、通常4段のサイクロン2a,2b,2c,2
dを相互にガス管路3a,3b,3c,3d及び
原料供給用シユート4a,4b,4c,4dで連
結して上下に配列して構成され、ロータリキルン
5から出る1100℃程度の高温排ガスとセメント原
料との熱交換を行つて原料を加熱している。
焼成装置を示し、サスペンシヨンプレヒータ1
は、通常4段のサイクロン2a,2b,2c,2
dを相互にガス管路3a,3b,3c,3d及び
原料供給用シユート4a,4b,4c,4dで連
結して上下に配列して構成され、ロータリキルン
5から出る1100℃程度の高温排ガスとセメント原
料との熱交換を行つて原料を加熱している。
セメント原料は、原料供給用シユート4aから
プレヒータのガス管路3aに供給されて、同管路
3a内を流れるガスに搬送されかつガスと熱交換
を行ない、サイクロン2aに導入されて、同サイ
クロン2a内で遠心力によつて固気分離され、分
離されたセメント原料は、原料供給用シユート4
bによつて下方に配設されているガス管路3bに
供給される。
プレヒータのガス管路3aに供給されて、同管路
3a内を流れるガスに搬送されかつガスと熱交換
を行ない、サイクロン2aに導入されて、同サイ
クロン2a内で遠心力によつて固気分離され、分
離されたセメント原料は、原料供給用シユート4
bによつて下方に配設されているガス管路3bに
供給される。
このような排ガスとの接触による熱交換と分離
とを繰返して、セメント原料は最下段のサイクロ
ン2dよりロータリキルン5の窯尻Qに原料供給
用シユート4eを介して供給される。
とを繰返して、セメント原料は最下段のサイクロ
ン2dよりロータリキルン5の窯尻Qに原料供給
用シユート4eを介して供給される。
そして、上記したようなサイクロンを組合わせ
たセメントプラントの予熱器をサスペンシヨンプ
レヒータと称している。このサスペンシヨンプレ
ヒータ1を通る排ガスは、吸引フアン6によつて
吸引され、全系統は負圧で運転さきる。またサイ
クロンの原料供給用シユート4a,4b,4c,
4d中には、これらシユート中のガスシールを目
的としてガスシールダンパ7が介装されている。
ロータリキルン5でセメント原料がバーナ8によ
つて最高1450℃まで加熱焼成されて生成したクリ
ンカは、クリンカクーラ9に送られ、同クリンカ
クーラ9では押込みフアン10によつて供給され
る常温の冷却用空気で冷却され、次のクリンカ粉
砕工程に送られて製品セメントとされる。
たセメントプラントの予熱器をサスペンシヨンプ
レヒータと称している。このサスペンシヨンプレ
ヒータ1を通る排ガスは、吸引フアン6によつて
吸引され、全系統は負圧で運転さきる。またサイ
クロンの原料供給用シユート4a,4b,4c,
4d中には、これらシユート中のガスシールを目
的としてガスシールダンパ7が介装されている。
ロータリキルン5でセメント原料がバーナ8によ
つて最高1450℃まで加熱焼成されて生成したクリ
ンカは、クリンカクーラ9に送られ、同クリンカ
クーラ9では押込みフアン10によつて供給され
る常温の冷却用空気で冷却され、次のクリンカ粉
砕工程に送られて製品セメントとされる。
第2図a,b,cは、上記従来のサスペンシヨ
ンプレヒータに用いられているセメント原料を、
ガス管路に供給する個所に関する従来の構造例を
示す。第2図aにおいて、103はガス管路(第
1図のガス管路3a)104は原料供給用シユー
ト、(第1図の原料供給用シユート4a)111
は分散板を示す。傾斜角θs(55〜60゜)を有す
る原料供給用シユート104中を流下してきたセ
メント原料112は、分散板111により、下位
のサイクロンからでてくる排ガスの施回気流11
3中に分散されて熱交換を行ない、固気二相流1
14となつてガス管路103中を施回上昇する。
従来のサスペンシヨンプレヒータの原料供給用シ
ユート104は、第2図bに示す如く円形で、そ
の直径dはガス管路直径Dの10〜20%であり、ま
た、分散板111の形状は、原料供給用シユート
104の直径dの約70%の幅W1(第2図c参
照)を有し、該分散板111をガス管路103内
に、該ガス管路103の直径Dの約20%程度突出
させており、その先端は水平からの角度θp1(約
30゜)程度ガスの下流側に曲げてある。
ンプレヒータに用いられているセメント原料を、
ガス管路に供給する個所に関する従来の構造例を
示す。第2図aにおいて、103はガス管路(第
1図のガス管路3a)104は原料供給用シユー
ト、(第1図の原料供給用シユート4a)111
は分散板を示す。傾斜角θs(55〜60゜)を有す
る原料供給用シユート104中を流下してきたセ
メント原料112は、分散板111により、下位
のサイクロンからでてくる排ガスの施回気流11
3中に分散されて熱交換を行ない、固気二相流1
14となつてガス管路103中を施回上昇する。
従来のサスペンシヨンプレヒータの原料供給用シ
ユート104は、第2図bに示す如く円形で、そ
の直径dはガス管路直径Dの10〜20%であり、ま
た、分散板111の形状は、原料供給用シユート
104の直径dの約70%の幅W1(第2図c参
照)を有し、該分散板111をガス管路103内
に、該ガス管路103の直径Dの約20%程度突出
させており、その先端は水平からの角度θp1(約
30゜)程度ガスの下流側に曲げてある。
ところで、最近省エネルギの観点から、サスペ
ンシヨンプレヒータの圧力損失低減による電力原
単位の低減が強く要求されている。したがつて、
サイクロンの入口風速の低減や、ガス管路の風速
低減が必要となり、特にガス管路の風速が低くな
つても、セメント原料の分散が良好な分散板を開
発する必要が生じている。しかしながら第2図
a、b,cに示すような従来の断面円形の原料供
給用シユート104による分散方式では、原料供
給用シユート104内を流下するガスセメント原
料の層厚が原料供給シユート104の中心部で厚
いので、施回気流113との衝突面が広い。した
がつて分散板111上に落下しれセメント原料
は、分散板111の側方のガス管路壁面に、大部
分が吹き飛ばされて、風速が非常に小さい部分で
あるガス管路壁面近傍に多量のセメント原料が存
在することになる。したがつてガス管路内の風速
を低くした場合には、上記の如くガス管路壁面近
傍に存在するセメント原料が落下し、このため、
排ガスとセメント原料との熱交換が十分でなくな
りセメント原料の焼成が十分でなく排ガス温度が
上昇するという欠点を上記従来のサスペンシヨン
プレヒータは有する。
ンシヨンプレヒータの圧力損失低減による電力原
単位の低減が強く要求されている。したがつて、
サイクロンの入口風速の低減や、ガス管路の風速
低減が必要となり、特にガス管路の風速が低くな
つても、セメント原料の分散が良好な分散板を開
発する必要が生じている。しかしながら第2図
a、b,cに示すような従来の断面円形の原料供
給用シユート104による分散方式では、原料供
給用シユート104内を流下するガスセメント原
料の層厚が原料供給シユート104の中心部で厚
いので、施回気流113との衝突面が広い。した
がつて分散板111上に落下しれセメント原料
は、分散板111の側方のガス管路壁面に、大部
分が吹き飛ばされて、風速が非常に小さい部分で
あるガス管路壁面近傍に多量のセメント原料が存
在することになる。したがつてガス管路内の風速
を低くした場合には、上記の如くガス管路壁面近
傍に存在するセメント原料が落下し、このため、
排ガスとセメント原料との熱交換が十分でなくな
りセメント原料の焼成が十分でなく排ガス温度が
上昇するという欠点を上記従来のサスペンシヨン
プレヒータは有する。
本考案は、上記従来のサスペンシヨンプレヒー
タの欠点を解消することを目的として提案された
もので、複数台のサイクロンを、それぞれガス管
路を介して複数段に配設し、それら各ガス管路内
に原料供給用シユートを介し粉粒体を導入して、
粉粒体を予熱あるいは焼成するサスペンシヨンプ
レヒータにおいて、上記各原料供給用シユートの
底面を平坦にするとともに、同原料供給用シユー
トのガス管路内への開口部に、上記原料供給用シ
ユートの底面の幅とほぼ等しい幅をもつ分散板
を、該ガス管路内に向つて突出させてなることを
特徴とするサスペンシヨンプレヒータに係るもの
である。
タの欠点を解消することを目的として提案された
もので、複数台のサイクロンを、それぞれガス管
路を介して複数段に配設し、それら各ガス管路内
に原料供給用シユートを介し粉粒体を導入して、
粉粒体を予熱あるいは焼成するサスペンシヨンプ
レヒータにおいて、上記各原料供給用シユートの
底面を平坦にするとともに、同原料供給用シユー
トのガス管路内への開口部に、上記原料供給用シ
ユートの底面の幅とほぼ等しい幅をもつ分散板
を、該ガス管路内に向つて突出させてなることを
特徴とするサスペンシヨンプレヒータに係るもの
である。
以下、第3図、第4図及び第5図に示す実施例
により、本考案につき具体的に説明する。なお図
示の例は、本考案をセメント原料の焼成用サスペ
ンシヨンプレヒータに適用した場合を示す。
により、本考案につき具体的に説明する。なお図
示の例は、本考案をセメント原料の焼成用サスペ
ンシヨンプレヒータに適用した場合を示す。
それらの図で、103は上記従来のサスペンシ
ヨンプレヒータと同様に構成されたガス管路。2
04は該ガス管103に接続された原料供給用シ
ユート、211は該シユート204のガス管路1
03への開口部に装着された分散板を示し、原料
供給用シユート204中を流下してきたセメント
原料112は、分散板211により、下段のサイ
クロンからでてくる排ガスの施回気流113中に
分散されて、固気二相流となり、第3図に示す如
くガス管路103内を施回上昇するようになつて
いる。本考案の原料供給用シユート204は、そ
の横断面形状が、第4図に示す如く角形に形成さ
れており、また、分散板211の形状は、原料供
給用シユート204の長辺b寸法の同一幅W2を
有し、ガス管路103内への水平突出部先端は、
水平から角度θp2(10゜〜50゜)程度、排ガスの
下流側に向つて曲げられている。なお、原料供給
用シユート204の横断面積の大きさは、従来の
円形横断面形状の原料供給用シユート相当の大き
さを有し、長辺bの寸法は、ガス管路103の直
径Dの約20〜50%に形成されており、また、分散
板211の長さL2は、ガス管路103の直径D
の10〜50%程度の範囲に形成されている。
ヨンプレヒータと同様に構成されたガス管路。2
04は該ガス管103に接続された原料供給用シ
ユート、211は該シユート204のガス管路1
03への開口部に装着された分散板を示し、原料
供給用シユート204中を流下してきたセメント
原料112は、分散板211により、下段のサイ
クロンからでてくる排ガスの施回気流113中に
分散されて、固気二相流となり、第3図に示す如
くガス管路103内を施回上昇するようになつて
いる。本考案の原料供給用シユート204は、そ
の横断面形状が、第4図に示す如く角形に形成さ
れており、また、分散板211の形状は、原料供
給用シユート204の長辺b寸法の同一幅W2を
有し、ガス管路103内への水平突出部先端は、
水平から角度θp2(10゜〜50゜)程度、排ガスの
下流側に向つて曲げられている。なお、原料供給
用シユート204の横断面積の大きさは、従来の
円形横断面形状の原料供給用シユート相当の大き
さを有し、長辺bの寸法は、ガス管路103の直
径Dの約20〜50%に形成されており、また、分散
板211の長さL2は、ガス管路103の直径D
の10〜50%程度の範囲に形成されている。
本考案のサスペンシヨンプレヒータの原料供給
用シユート204及び分散板211は上記のよう
に構成されており本考案の原料供給用シユート2
04は、横断面形状が角形に形成されており、底
面が平坦で、かつその幅bがガス管路103の直
径Dの20〜50%に形成されているため、従来の横
断面形状が円形の原料シユートのものに比し、原
料供給用シユート内を流下するセメント原料は、
均一な薄層となつて流下する。そのため、ガス管
路103内の施回気流113との衝突面が小さく
なり、該施回気流113による分散板211の側
方への吹き飛ばし作用が弱くなり、その結果、セ
メント原料が、分散板211に沿つてガス管路1
03内部まで流れやすくなるので、セメント原料
はガス管路103の中央近傍まで均一に分散され
る。従つてセメント原料と排ガスとの熱交換は効
率的に行なわれ、セメント原料は十分に焼成され
る。
用シユート204及び分散板211は上記のよう
に構成されており本考案の原料供給用シユート2
04は、横断面形状が角形に形成されており、底
面が平坦で、かつその幅bがガス管路103の直
径Dの20〜50%に形成されているため、従来の横
断面形状が円形の原料シユートのものに比し、原
料供給用シユート内を流下するセメント原料は、
均一な薄層となつて流下する。そのため、ガス管
路103内の施回気流113との衝突面が小さく
なり、該施回気流113による分散板211の側
方への吹き飛ばし作用が弱くなり、その結果、セ
メント原料が、分散板211に沿つてガス管路1
03内部まで流れやすくなるので、セメント原料
はガス管路103の中央近傍まで均一に分散され
る。従つてセメント原料と排ガスとの熱交換は効
率的に行なわれ、セメント原料は十分に焼成され
る。
第6図は、分散板上方におけるセメント原料の
濃度分布の計測例を示すが、同図で、カーブAは
本考案による場合は、Bは従来のものの場合のも
のを示し、同図から本考案による場合の方が従来
のものよりも、セメント原料の濃度が均一である
ことが伴る。また、第7図はセメント原料の供給
を一定とし、風量を下げた場合のセメント原料の
下方への落下率(落下量/供給量)の比較例を示
すが、同図でカーブCは本考案の場合カーブEは
従来のものの場合を示しておりこの図から同一風
量、同一粉体供給量では、従来のものよりも、本
考案の場合の方が落下率が小さいことが判り、本
考案の方が平均的にみると、同一風速によつて運
ばれる粉体の集団が小さく、すなわち分散効果が
よいことを意味している。
濃度分布の計測例を示すが、同図で、カーブAは
本考案による場合は、Bは従来のものの場合のも
のを示し、同図から本考案による場合の方が従来
のものよりも、セメント原料の濃度が均一である
ことが伴る。また、第7図はセメント原料の供給
を一定とし、風量を下げた場合のセメント原料の
下方への落下率(落下量/供給量)の比較例を示
すが、同図でカーブCは本考案の場合カーブEは
従来のものの場合を示しておりこの図から同一風
量、同一粉体供給量では、従来のものよりも、本
考案の場合の方が落下率が小さいことが判り、本
考案の方が平均的にみると、同一風速によつて運
ばれる粉体の集団が小さく、すなわち分散効果が
よいことを意味している。
なお、この実験結果では、ガス管路の圧損は、
従来のものと、本考案の場合とは同じであつた。
従来のものと、本考案の場合とは同じであつた。
なお、上記実施例においては、原料シユートの
横断面形状が長方形のものについて説明したが、
この実施例にのみ限定されるものではなく、正方
形でもよく、また、底辺が直線で他が円弧状ある
いは多角形状のものでもよく、要は少なくとも底
辺が比較的長く、すなわちガス管路直径の20〜50
%の長さを有し、かつ底辺が水平方向に沿つたも
のであれば他の辺の長さ、形状の如何は問わな
い。
横断面形状が長方形のものについて説明したが、
この実施例にのみ限定されるものではなく、正方
形でもよく、また、底辺が直線で他が円弧状ある
いは多角形状のものでもよく、要は少なくとも底
辺が比較的長く、すなわちガス管路直径の20〜50
%の長さを有し、かつ底辺が水平方向に沿つたも
のであれば他の辺の長さ、形状の如何は問わな
い。
なおまた、上記実施例において、原料供給用シ
ユートは複数個でもよく、また、ガス管路も円形
断面に限るものではなく、角形断面形状ものもの
でもよい。
ユートは複数個でもよく、また、ガス管路も円形
断面に限るものではなく、角形断面形状ものもの
でもよい。
本考案のサスペンシヨンプレヒータは、上記の
ような構成、作用を具有するものであるから、本
考案によれば、上記従来のサスペンシヨンプレヒ
ータの欠点を解消したサスペンシヨンプレヒータ
を実現できるという実用的効果的効果を拳げるこ
とができる。
ような構成、作用を具有するものであるから、本
考案によれば、上記従来のサスペンシヨンプレヒ
ータの欠点を解消したサスペンシヨンプレヒータ
を実現できるという実用的効果的効果を拳げるこ
とができる。
第1図は、従来一般に使用されているセメント
焼成装置の略示的説明図、第2図aは、第1図の
X部拡大断面図、第2図bは、第2図aのイ−イ
断面図、第2図cは第2図aのロ−ロ線断面図、
第3図、第4図及び第5図は、本考案の一実施例
の概略説明図、第3図は第2図aに相当する断面
図、第4図は第3図のハ−ハ線断面図、第5図は
第3図のニニ線断面図、第6図、第7図は従来の
サスペンシヨンプレヒータと本考案のものとを対
比して示す実験結果のグラフである。第3図乃至
第5図において、 103……ガス導管、204……原料供給用シ
ユート、211……分散板。
焼成装置の略示的説明図、第2図aは、第1図の
X部拡大断面図、第2図bは、第2図aのイ−イ
断面図、第2図cは第2図aのロ−ロ線断面図、
第3図、第4図及び第5図は、本考案の一実施例
の概略説明図、第3図は第2図aに相当する断面
図、第4図は第3図のハ−ハ線断面図、第5図は
第3図のニニ線断面図、第6図、第7図は従来の
サスペンシヨンプレヒータと本考案のものとを対
比して示す実験結果のグラフである。第3図乃至
第5図において、 103……ガス導管、204……原料供給用シ
ユート、211……分散板。
Claims (1)
- 複数台のサイクロンを、それぞれガス管路を介
して複数段に配設し、それら各ガス管路内に原料
供給用シユートを介し粉粒体を導入して、粉粒体
を予熱あるいは焼成するサスペンシヨンプレヒー
タにおいて、上記各原料供給用シユートの底面を
平坦に形成するとともに、同原料供給用シユート
のガス管路内への開口部に、上記原料供給用シユ
ートの底面の幅とほぼ等しい幅をもつ分散板を、
該ガス管路内に向つて突出させてなることを特徴
とするサスペンシヨンプレヒータ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7346282U JPS58177799U (ja) | 1982-05-21 | 1982-05-21 | サスペンシヨンプレヒ−タ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7346282U JPS58177799U (ja) | 1982-05-21 | 1982-05-21 | サスペンシヨンプレヒ−タ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58177799U JPS58177799U (ja) | 1983-11-28 |
JPS6130156Y2 true JPS6130156Y2 (ja) | 1986-09-04 |
Family
ID=30082970
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7346282U Granted JPS58177799U (ja) | 1982-05-21 | 1982-05-21 | サスペンシヨンプレヒ−タ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58177799U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014034417A1 (ja) | 2012-08-28 | 2014-03-06 | 三菱マテリアル株式会社 | セメント製造装置 |
-
1982
- 1982-05-21 JP JP7346282U patent/JPS58177799U/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2014034417A1 (ja) | 2012-08-28 | 2014-03-06 | 三菱マテリアル株式会社 | セメント製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58177799U (ja) | 1983-11-28 |
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