JPS61295247A - 光フアイバ用ガラスの製造方法 - Google Patents
光フアイバ用ガラスの製造方法Info
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- JPS61295247A JPS61295247A JP13539285A JP13539285A JPS61295247A JP S61295247 A JPS61295247 A JP S61295247A JP 13539285 A JP13539285 A JP 13539285A JP 13539285 A JP13539285 A JP 13539285A JP S61295247 A JPS61295247 A JP S61295247A
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- JP
- Japan
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- sol
- fluorine
- gel body
- alkoxide
- porous
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/016—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD] by a liquid phase reaction process, e.g. through a gel phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/12—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with fluorine
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- General Chemical & Material Sciences (AREA)
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- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は光ファイバ用ガラスの製造方法、さらに詳細に
は、フッ素を添加した光ファイバ用ガラスの製造方法に
関するものである。
は、フッ素を添加した光ファイバ用ガラスの製造方法に
関するものである。
フッ素はガラスの屈折率を低下させることが知られてお
り、特に光ファイバ用タラッドガラスを製造する際ドー
パントとして用いられている。一般的にＶＡＤ法（Ｖａ
ｐｏｒ−ｐｈａｓｅ Ａｘｉａｌ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ法）またはＯＶＤ法（Ｏｕｔｓｉｄｅ Ｖａｐｏｒ
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）でフッ素を添加する方法とし
ては、多孔質ガラス母材を形成し、その後、高温処理し
てガラス化する際、フッ素を含有する雰囲気下に置くこ
とにより、ドープする方法が知られている。この方法で
は、はぼ均一にフッ素が多孔質内部に拡散し、一方、ガ
ラスの製造方法としては、「ゾル・ゲル法」と呼ばれ、
アルコキシドを原料とする方法が非常に収率が良好で、
大量生産に適していることより注目され、開発が進行し
ている。このようなゾル・ゲル法は、ガラスの低温合成
法の一つであり、下記の工程よりなる方法である。
り、特に光ファイバ用タラッドガラスを製造する際ドー
パントとして用いられている。一般的にＶＡＤ法（Ｖａ
ｐｏｒ−ｐｈａｓｅ Ａｘｉａｌ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏ
ｎ法）またはＯＶＤ法（Ｏｕｔｓｉｄｅ Ｖａｐｏｒ
Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）でフッ素を添加する方法とし
ては、多孔質ガラス母材を形成し、その後、高温処理し
てガラス化する際、フッ素を含有する雰囲気下に置くこ
とにより、ドープする方法が知られている。この方法で
は、はぼ均一にフッ素が多孔質内部に拡散し、一方、ガ
ラスの製造方法としては、「ゾル・ゲル法」と呼ばれ、
アルコキシドを原料とする方法が非常に収率が良好で、
大量生産に適していることより注目され、開発が進行し
ている。このようなゾル・ゲル法は、ガラスの低温合成
法の一つであり、下記の工程よりなる方法である。
■ シリコンアルコキシドなどの金属アルコキシドに水
、溶媒としてアルコールなどの有機溶媒を添加し、該ア
ルコキシドを加水分解させ、寒天状ゲルを得る、 ■ その後、該ゲルをゆっくり乾燥し、多孔質ゲルを作
製する、 ■ さらに１０００℃以上の高温まで加熱し、ガラス体
を得る。
、溶媒としてアルコールなどの有機溶媒を添加し、該ア
ルコキシドを加水分解させ、寒天状ゲルを得る、 ■ その後、該ゲルをゆっくり乾燥し、多孔質ゲルを作
製する、 ■ さらに１０００℃以上の高温まで加熱し、ガラス体
を得る。
従来、上述のようなゾル・ゲル法を用いて各種添加物を
高純度石英ガラスに添加し、屈折率を制御する方法とし
て種々のものが提案されている。
高純度石英ガラスに添加し、屈折率を制御する方法とし
て種々のものが提案されている。
ンアルコキシドと同時に添加する方法（特開昭５８−１
３５１５０号）およびゲル化後、乾燥した多孔質ゲル内
部へ拡散させる方法（特開昭５７−１０６５３４号、特
願昭５８−１４２５７９号）が提案されている。
３５１５０号）およびゲル化後、乾燥した多孔質ゲル内
部へ拡散させる方法（特開昭５７−１０６５３４号、特
願昭５８−１４２５７９号）が提案されている。
しかしながら、フッ素のように金属アルコキシドの形で
導入できないものについては、添加方法は未だ確立され
ていないのが現状である。
導入できないものについては、添加方法は未だ確立され
ていないのが現状である。
本発明は上述の点に鑑みなされたものであり、フッ素を
制御性よく添加可能なゾル・ゲル法を用いた光ファイバ
用ガラスの製造方法を提供することを目的とする。
制御性よく添加可能なゾル・ゲル法を用いた光ファイバ
用ガラスの製造方法を提供することを目的とする。
したがって、本発明による光ファイバ用ガラスの製造方
法は、アルコキシドを加水分解し、ゾルを生成させた後
、前記ゾルをゲル化し多孔質ゲル体を形成させ、その後
フッ素またはフッ素を含む化合物ガス雰囲気中で高温処
理して透明ガラス化することを特徴とするものである。
法は、アルコキシドを加水分解し、ゾルを生成させた後
、前記ゾルをゲル化し多孔質ゲル体を形成させ、その後
フッ素またはフッ素を含む化合物ガス雰囲気中で高温処
理して透明ガラス化することを特徴とするものである。
本発明によれば、フ・ン素を制御性よく添加できるとい
う利点がある。
う利点がある。
本発明による光ファイバ用ガラスの製造方法によれば、
まずアルコキシドを加水分解し、ゾル溶液を生成させる
。
まずアルコキシドを加水分解し、ゾル溶液を生成させる
。
このような本発明において用いられるアルコキシドは、
基本的に限定されるものではなく、従来この種のガラス
を製造するために用いられるアルコキシドを有効に用い
ることができる。たとえばＳｉ （ＯＲ） ａ （た
だしＰはメチル、エチル、プロピル、ブチルなどのアル
キル基を示す）などの一種以上のアルコキシドに水およ
び必要ならばメタノール、エタノール、プロパツール、
ブタノールなどのアルコール系溶媒の一種以上、さらに
は酸、アンモニアなどの塩基を添加したアルコキシド原
料であることができる。
基本的に限定されるものではなく、従来この種のガラス
を製造するために用いられるアルコキシドを有効に用い
ることができる。たとえばＳｉ （ＯＲ） ａ （た
だしＰはメチル、エチル、プロピル、ブチルなどのアル
キル基を示す）などの一種以上のアルコキシドに水およ
び必要ならばメタノール、エタノール、プロパツール、
ブタノールなどのアルコール系溶媒の一種以上、さらに
は酸、アンモニアなどの塩基を添加したアルコキシド原
料であることができる。
このようなアルコキシドを加水分解し、ゾル溶液を生成
させたのち、このゾル溶液の水（溶媒が添加されている
ときには水と溶媒）を蒸発させてゲル化し、多孔質ゲル
体を形成させる。
させたのち、このゾル溶液の水（溶媒が添加されている
ときには水と溶媒）を蒸発させてゲル化し、多孔質ゲル
体を形成させる。
このように製造された多孔質ゲル体をフッ素またはフッ
素を含む化合物ガス中で高温処理し、透明なガラス体と
するものである。ＶＡＤ法により作製した多孔質母材の
場合、フッ素のドープ量は多孔質ゲル体の嵩密度に依存
することが、明らかになっている。
素を含む化合物ガス中で高温処理し、透明なガラス体と
するものである。ＶＡＤ法により作製した多孔質母材の
場合、フッ素のドープ量は多孔質ゲル体の嵩密度に依存
することが、明らかになっている。
第１図は多孔質母材の嵩密度に対して、得られる透明ガ
ラス中のフッ素ドープ量をフッ素により生じる比屈折率
差で示したものである。この第１図より明らかなように
、嵩密度が小さいほどドープ量は増加し、はぼ０．３
ｇ ７ｃｍ３で比屈折率差Δｎ＝−０，３％が得られる
ことがわかる。もちろん処理するガスの流量比（たとえ
ば希釈用ガスである不活性ガスとフッ素ガスおよび／ま
たはフッ素を含む化合物ガス）によって比屈折率が変化
するため、制御可能な範囲はさらに拡がる。
ラス中のフッ素ドープ量をフッ素により生じる比屈折率
差で示したものである。この第１図より明らかなように
、嵩密度が小さいほどドープ量は増加し、はぼ０．３
ｇ ７ｃｍ３で比屈折率差Δｎ＝−０，３％が得られる
ことがわかる。もちろん処理するガスの流量比（たとえ
ば希釈用ガスである不活性ガスとフッ素ガスおよび／ま
たはフッ素を含む化合物ガス）によって比屈折率が変化
するため、制御可能な範囲はさらに拡がる。
このような事実に基づき、多孔質ゲルを用いた第１表は
出発母材の比表面積および嵩密度と得られた透明ガスの
比屈折率を示す。両者のフッ素雰囲気中での処理条件は
全く同一である。
出発母材の比表面積および嵩密度と得られた透明ガスの
比屈折率を示す。両者のフッ素雰囲気中での処理条件は
全く同一である。
第１表
ゾル・ゲル法で作製し、フッ素をドープしたガスの屈折
率分布を第２図に示す。ここでΔｎ＝０の部分は本発明
による方法で製造したフッ素ドープガラスの周囲に比較
のため設けた純石英ガラスの屈折率１．４５８に相当す
る部分である。ここでフッ素雰囲気中でのガラス化にお
いてはゆっくりと昇温しでおり、均一に屈折率が低下し
ていることがわかる。
率分布を第２図に示す。ここでΔｎ＝０の部分は本発明
による方法で製造したフッ素ドープガラスの周囲に比較
のため設けた純石英ガラスの屈折率１．４５８に相当す
る部分である。ここでフッ素雰囲気中でのガラス化にお
いてはゆっくりと昇温しでおり、均一に屈折率が低下し
ていることがわかる。
さらにドープ量は比表面積依存が小さく、嵩密度によっ
てほぼ決定されることが、前記第１表および第１図より
明らかである。ここでは、比較のため同じ温度、同一雰
囲気で透明ガラス化を行ったが、比表面積が第１表のよ
うに異なるため、ゾル・ゲル法による多孔質体は約１３
５０℃で、ＶＡＤ法による多孔質母材は約１５００℃で
透明なガラスになることが、他の実験でわかった。
てほぼ決定されることが、前記第１表および第１図より
明らかである。ここでは、比較のため同じ温度、同一雰
囲気で透明ガラス化を行ったが、比表面積が第１表のよ
うに異なるため、ゾル・ゲル法による多孔質体は約１３
５０℃で、ＶＡＤ法による多孔質母材は約１５００℃で
透明なガラスになることが、他の実験でわかった。
上述のように、多孔質ゲル体にドープされるフッ素量は
ゲル体の嵩密度に依存する。したがって、本発明による
方法においては、嵩密度の異なる部分を有する多孔質ゲ
ル体を形成し、このゲル体をフッ素雰囲気中で処理し、
フッ素をドープすることにより、嵩密度に対応する屈折
率分布を形成することが可能になる。
ゲル体の嵩密度に依存する。したがって、本発明による
方法においては、嵩密度の異なる部分を有する多孔質ゲ
ル体を形成し、このゲル体をフッ素雰囲気中で処理し、
フッ素をドープすることにより、嵩密度に対応する屈折
率分布を形成することが可能になる。
このような嵩密度の部分的に異なる多孔質ゲル体を製造
する方法は、本発明において基本的に限定されるもので
はない。たとえば、ゲル体を製造するに先立ち、前記ゾ
ル溶液を熟成し、この熟成したゾル溶液をゲル化するこ
とにより嵩密度を調整できる。この場合、熟成の期間あ
るいは後述のアンモニア濃度などによって形成される多
孔質ゲル体の嵩密度および比表面積が変化させることが
可能になる。すなわちアルコキシドに水および０゜００
１〜０．０１ｍｏｌ ／ １のアンモニアを添加したア
ルコキシド溶液を加水分解してゾル液を形成させるとと
もに、５０℃以上の温度で所定期間（たとえば４日以上
）熟成させ、この熟成ゾル液をゲル化し、多孔質ゲル体
を製造する際、前記熟成時間および／またはアンモニア
濃度を調整することにより所望の嵩密度および比表面積
を有する多孔質ゲル体を製造することができる（特願昭
５９−２２８６７８号）。
する方法は、本発明において基本的に限定されるもので
はない。たとえば、ゲル体を製造するに先立ち、前記ゾ
ル溶液を熟成し、この熟成したゾル溶液をゲル化するこ
とにより嵩密度を調整できる。この場合、熟成の期間あ
るいは後述のアンモニア濃度などによって形成される多
孔質ゲル体の嵩密度および比表面積が変化させることが
可能になる。すなわちアルコキシドに水および０゜００
１〜０．０１ｍｏｌ ／ １のアンモニアを添加したア
ルコキシド溶液を加水分解してゾル液を形成させるとと
もに、５０℃以上の温度で所定期間（たとえば４日以上
）熟成させ、この熟成ゾル液をゲル化し、多孔質ゲル体
を製造する際、前記熟成時間および／またはアンモニア
濃度を調整することにより所望の嵩密度および比表面積
を有する多孔質ゲル体を製造することができる（特願昭
５９−２２８６７８号）。
上記のような方法によれば、同一の多孔質ゲル体におい
て、部分的に嵩密度の異なる多孔質ゲル体を製造可能で
ある。このように多孔質ゲル体の嵩密度を部分的に変化
させることにより、前記嵩密度に対応した屈折率分布を
有するガラス体を得ることが可能になる。
て、部分的に嵩密度の異なる多孔質ゲル体を製造可能で
ある。このように多孔質ゲル体の嵩密度を部分的に変化
させることにより、前記嵩密度に対応した屈折率分布を
有するガラス体を得ることが可能になる。
このように多孔質ゲル体を高温処理する際に用いられる
フッ素を含む化合物は、高温においてフッ素ガスを出す
ものであれば、本発明において限定されるものではない
。たとえば、ＳＦ６、ＣＣ１ｔＦｔ、ｃ３Ｆ６などの一
種以上の化合物を使用することができる。
フッ素を含む化合物は、高温においてフッ素ガスを出す
ものであれば、本発明において限定されるものではない
。たとえば、ＳＦ６、ＣＣ１ｔＦｔ、ｃ３Ｆ６などの一
種以上の化合物を使用することができる。
実施例１
コア部とクラッド部で嵩密度の異なる２重構造を有する
ゲル体を第３図に示す方法に基づき作製した０図中、１
はクラッド部、２はコア部用ゾル液、３は形成されたコ
ア部である。この図においては、単純化するため容器な
どの細かい点は省略しである。
ゲル体を第３図に示す方法に基づき作製した０図中、１
はクラッド部、２はコア部用ゾル液、３は形成されたコ
ア部である。この図においては、単純化するため容器な
どの細かい点は省略しである。
まず、クラッド用ゾル溶液を容器外側部に入れて中心部
が空隙となるようにゲル化（固化）してクラッド部１を
形成する。その後、前記空隙にコア用ゾル溶液２を流し
込み、固化せしめる。ここでは両ゾル溶液としてＳｉの
アルコキシドを加水分解したものを用いているが、その
性質は下記の第２表に示したように異なっている。
が空隙となるようにゲル化（固化）してクラッド部１を
形成する。その後、前記空隙にコア用ゾル溶液２を流し
込み、固化せしめる。ここでは両ゾル溶液としてＳｉの
アルコキシドを加水分解したものを用いているが、その
性質は下記の第２表に示したように異なっている。
このように性質のことなるゲル体は、まず０２ＨｓＯＨ
で希釈したＳｊ （ＯＣｅ Ｈｔ ） ａ溶液にアンモ
ニア水溶液を徐々に添加し、均一なゲル溶液を形成し、
これを密封容器中に保存し、適当な温度（たとえば５０
〜７０℃）で長時間にわたって加水分解および重合反応
を進行させて種々の熟成溶液を形成する（特願昭５９−
２２８６７８号参照）、下記の第２表に示したコア用ゾ
ル液は比較的まだ熟成が進行していない状態の溶液に相
当し、クラッド用ゾル液は非常に熟成の進んだ状態の溶
液に相当している。もちろんこれらの熟成は出発ゾル液
の組成、特にアンモニア水溶液の濃度によって異なるた
め沈澱や分離が生じないように、しかも熟成が適当なス
ピードで進行するように出発ゾル液の組成を選択する。
で希釈したＳｊ （ＯＣｅ Ｈｔ ） ａ溶液にアンモ
ニア水溶液を徐々に添加し、均一なゲル溶液を形成し、
これを密封容器中に保存し、適当な温度（たとえば５０
〜７０℃）で長時間にわたって加水分解および重合反応
を進行させて種々の熟成溶液を形成する（特願昭５９−
２２８６７８号参照）、下記の第２表に示したコア用ゾ
ル液は比較的まだ熟成が進行していない状態の溶液に相
当し、クラッド用ゾル液は非常に熟成の進んだ状態の溶
液に相当している。もちろんこれらの熟成は出発ゾル液
の組成、特にアンモニア水溶液の濃度によって異なるた
め沈澱や分離が生じないように、しかも熟成が適当なス
ピードで進行するように出発ゾル液の組成を選択する。
第２表
まず、二重構造をした乾燥ゲル体を１２５０℃で加熱処
理し、その際、塩素系脱水材によって脱水処理も同時に
行った。このとき、コア部は比表面積がほぼ零になり、
孔が閉じたことがわかり、クラッド部では１００ ｒｒ
ｒ／ｇ以下の値になり、まだ多孔質の状態にあった。次
ぎに約１５００℃でフッ素系ガス（ＳＦｓ ）を含有す
る不活性ガラス雰囲気で再度高温処理してフッ素をドー
プしながら完全ガラス化を行った。
理し、その際、塩素系脱水材によって脱水処理も同時に
行った。このとき、コア部は比表面積がほぼ零になり、
孔が閉じたことがわかり、クラッド部では１００ ｒｒ
ｒ／ｇ以下の値になり、まだ多孔質の状態にあった。次
ぎに約１５００℃でフッ素系ガス（ＳＦｓ ）を含有す
る不活性ガラス雰囲気で再度高温処理してフッ素をドー
プしながら完全ガラス化を行った。
この方法によってコア部は純石英コア、クラット部はフ
ッ素ドープ石英ガラスとして光ファイバ母材（比屈折率
差Δｎ ＝０．２５％のシングルモード用）を作製する
ことができた。
ッ素ドープ石英ガラスとして光ファイバ母材（比屈折率
差Δｎ ＝０．２５％のシングルモード用）を作製する
ことができた。
実施例２
実施例１と同様に、Ｓｔ Ｃ０Ｃｔ Ｈ２） ａを主成
分とするアルコキシド溶液よりコア部およびクラッド部
に異なる性質を有する二重構造の乾燥ゲル体を形成した
。この性質を下記の第３表に示す。
分とするアルコキシド溶液よりコア部およびクラッド部
に異なる性質を有する二重構造の乾燥ゲル体を形成した
。この性質を下記の第３表に示す。
第３表
これをフッ素ガスを含有する不活性ガス雰囲気下で約１
４５０℃で一度透明ガラス化した。得られた屈折率分布
を第４図に示す。第３表の性質に従ってフッ素がクラッ
ド部、コア部に異なる量ドープされた。クラッド部で−
０，３７％、コア部で−０，２５％屈折率が低下し、Δ
＝０．１２％の屈折率分布が形成された。
４５０℃で一度透明ガラス化した。得られた屈折率分布
を第４図に示す。第３表の性質に従ってフッ素がクラッ
ド部、コア部に異なる量ドープされた。クラッド部で−
０，３７％、コア部で−０，２５％屈折率が低下し、Δ
＝０．１２％の屈折率分布が形成された。
実施例３
Ｓｔ （ＯＣ２Ｈｓ ） ４を用いてゾル・ゲル法によ
り、まずパイプ状の多孔質ゲル体を作製した。これを乾
燥して溶媒であるアルコールや水分を蒸発させたのち、
ＳＦ、を含有する不活性ガス雰囲気下で１４００℃まで
高温処理し、透明なガラスパイプを得た。この場合、特
に脱水処理を行わなかったが、フッ素の作用により完全
な脱水（０，１ｐｐｍ以下）が実現されていることが確
認された。このパイプはフッ素によって屈折率が純石英
ガラスよりも低下・しており、純石英をコアとする場合
のクラフト用パイプとして使用できる。
り、まずパイプ状の多孔質ゲル体を作製した。これを乾
燥して溶媒であるアルコールや水分を蒸発させたのち、
ＳＦ、を含有する不活性ガス雰囲気下で１４００℃まで
高温処理し、透明なガラスパイプを得た。この場合、特
に脱水処理を行わなかったが、フッ素の作用により完全
な脱水（０，１ｐｐｍ以下）が実現されていることが確
認された。このパイプはフッ素によって屈折率が純石英
ガラスよりも低下・しており、純石英をコアとする場合
のクラフト用パイプとして使用できる。
以上説明したように本発明による光ファイバ用ガラスの
製造方法によれば、ゾル・ゲル法により作製した多孔質
ゲル体を用い、比表面積および嵩密度を制御してフッ素
を添加するので、フッ素の添加量を良好に制御でき、所
望の屈折率分布を有する光ファイバ用ガラスを製造でき
るという利点がある。
製造方法によれば、ゾル・ゲル法により作製した多孔質
ゲル体を用い、比表面積および嵩密度を制御してフッ素
を添加するので、フッ素の添加量を良好に制御でき、所
望の屈折率分布を有する光ファイバ用ガラスを製造でき
るという利点がある。
第１図はＶＡＤ法で作製した多孔質母材に対しての嵩密
度とフッ素ドープ量（比屈折率）に関係を示す図、第２
図はフッ素をドープしたガラスの屈折率分布を示す図、
第３図は本発明による方法の一例を説明するための説明
図、第４図は実施例２で得られた光ファイバ用ガラスの
屈折率分布を示す図である。 １ ・・・クラッド部、２ ・・・コア部用ゾル液、３
・・・コア部。 出願人代理人 雨 宮 正 季 第３図
度とフッ素ドープ量（比屈折率）に関係を示す図、第２
図はフッ素をドープしたガラスの屈折率分布を示す図、
第３図は本発明による方法の一例を説明するための説明
図、第４図は実施例２で得られた光ファイバ用ガラスの
屈折率分布を示す図である。 １ ・・・クラッド部、２ ・・・コア部用ゾル液、３
・・・コア部。 出願人代理人 雨 宮 正 季 第３図
Claims (2)
- （１）アルコキシドを加水分解し、ゾルを生成させた後
、前記ゾルをゲル化し多孔質ゲル体を形成させ、その後
フッ素またはフッ素を含む化合物ガス雰囲気中で高温処
理して透明ガラス化することを特徴とする光ファイバ用
ガラスの製造方法。 - （２）前記ゾルをゲル化するに際し、形成される多孔質
ゲル体の嵩密度を部分的に異ならしめることを特徴とす
る特許請求の範囲第１項による光ファイバ用ガラスの製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13539285A JPS61295247A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 光フアイバ用ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13539285A JPS61295247A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 光フアイバ用ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61295247A true JPS61295247A (ja) | 1986-12-26 |
Family
ID=15150637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13539285A Pending JPS61295247A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 光フアイバ用ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61295247A (ja) |
-
1985
- 1985-06-21 JP JP13539285A patent/JPS61295247A/ja active Pending
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