JPS6129291B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPS6129291B2 JPS6129291B2 JP53145117A JP14511778A JPS6129291B2 JP S6129291 B2 JPS6129291 B2 JP S6129291B2 JP 53145117 A JP53145117 A JP 53145117A JP 14511778 A JP14511778 A JP 14511778A JP S6129291 B2 JPS6129291 B2 JP S6129291B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- control member
- discharge control
- distribution device
- outer periphery
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 19
- 239000008187 granular material Substances 0.000 claims description 17
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 claims description 6
- 238000007664 blowing Methods 0.000 claims description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 31
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 20
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 2
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 1
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
- B01J8/0015—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor
- B01J8/002—Feeding of the particles in the reactor; Evacuation of the particles out of the reactor with a moving instrument
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
- Basic Packing Technique (AREA)
- Auxiliary Methods And Devices For Loading And Unloading (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は粒状物分配装置に関する。詳しくは本
発明は粒状物をある範囲全体に均一に分散させる
ための装置に関する。
発明は粒状物をある範囲全体に均一に分散させる
ための装置に関する。
従来、石油精製工場や化学工場で多数使用され
ている接触反応塔に触媒粒を充填する際にはソツ
ク（sock）法と呼ばれる方法が採用されて来
た。この方法においては、ホツパーから反応塔上
面の開口を通して反応塔の底部又は触媒層表面ま
でホース（これをソツクと称する）を延ばし、ホ
ース内に触媒粒を満したのちホースを徐々に引き
上げることによつて充填作業が行なわれる。この
場合、ホースから放出された触媒粒は円錐状に堆
積することになるので時々表面をかきならす必要
がある。このかきならし作業は反応塔内に人が入
つて行なうものであり、場合により防塵マスクや
酸素マスクをつけて行なう必要がある危険な作業
である。もしもかきならし作業が全く行なわれな
かつたり、不十分であつたりすると、触媒層中に
は空隙や充填の不均一な部分が生じ、その結果、
反応塔の運転中に触媒層が沈下してクエンチノズ
ル、再分配器、温度検出端子などの塔内機器を破
損したり、触媒層内を通過する流体に偏流を生じ
て局部的な異常発熱や望ましくない副反応を惹起
することとなる。従つて反応塔中に触媒粒を均一
に充填するための簡単な手段が強く求められてい
た。上記ソツク法に代るものとしていくつかの分
配装置が提案されてきているが、いずれも、分配
が不均一であつたり、コントロールが困難である
などの欠点を有し、必ずしも十分なものとはいえ
なかつた。
ている接触反応塔に触媒粒を充填する際にはソツ
ク（sock）法と呼ばれる方法が採用されて来
た。この方法においては、ホツパーから反応塔上
面の開口を通して反応塔の底部又は触媒層表面ま
でホース（これをソツクと称する）を延ばし、ホ
ース内に触媒粒を満したのちホースを徐々に引き
上げることによつて充填作業が行なわれる。この
場合、ホースから放出された触媒粒は円錐状に堆
積することになるので時々表面をかきならす必要
がある。このかきならし作業は反応塔内に人が入
つて行なうものであり、場合により防塵マスクや
酸素マスクをつけて行なう必要がある危険な作業
である。もしもかきならし作業が全く行なわれな
かつたり、不十分であつたりすると、触媒層中に
は空隙や充填の不均一な部分が生じ、その結果、
反応塔の運転中に触媒層が沈下してクエンチノズ
ル、再分配器、温度検出端子などの塔内機器を破
損したり、触媒層内を通過する流体に偏流を生じ
て局部的な異常発熱や望ましくない副反応を惹起
することとなる。従つて反応塔中に触媒粒を均一
に充填するための簡単な手段が強く求められてい
た。上記ソツク法に代るものとしていくつかの分
配装置が提案されてきているが、いずれも、分配
が不均一であつたり、コントロールが困難である
などの欠点を有し、必ずしも十分なものとはいえ
なかつた。
本発明はこれら従来技術の欠点を解決し粒状物
をある領域上に均一に分配するための簡便な装置
を提供することを目的とし、 上部に装入部を、また下端に排出口を、それぞ
れ有する実質的に垂直の供給管と、 上記排出口に近接して垂直軸の周りに回転し得
るように、かつその垂直位置を変化させ得るよう
に支持されて設けられ、ガス圧を受けて該軸の周
りを回転するための羽根をその外周部下面に備
え、かつその円錐面に複数の開口を有する円錐形
の吐出制御部材と、 該吐出制御部材の下面近くに、上記羽根に衝突
しかつ上記円錐形の底面の中心部から外周部へ向
う方向にガスを吹き出すように設けられたガス吹
き出し器と、 から構成されていることを特徴とする粒状物分配
装置、 を要旨とするものである。
をある領域上に均一に分配するための簡便な装置
を提供することを目的とし、 上部に装入部を、また下端に排出口を、それぞ
れ有する実質的に垂直の供給管と、 上記排出口に近接して垂直軸の周りに回転し得
るように、かつその垂直位置を変化させ得るよう
に支持されて設けられ、ガス圧を受けて該軸の周
りを回転するための羽根をその外周部下面に備
え、かつその円錐面に複数の開口を有する円錐形
の吐出制御部材と、 該吐出制御部材の下面近くに、上記羽根に衝突
しかつ上記円錐形の底面の中心部から外周部へ向
う方向にガスを吹き出すように設けられたガス吹
き出し器と、 から構成されていることを特徴とする粒状物分配
装置、 を要旨とするものである。
以下に本発明の好適な実施例を例示する図面を
参照しながら本発明についてより具体的に説明す
る。
参照しながら本発明についてより具体的に説明す
る。
第１図は本発明の粒状物分配装置の一例を示す
縦断面図（但しガス吹き出し器及びその付随部分
は断面図ではない。）であり、第２図はその底面
図である。また第３図は本発明の粒状物分配装置
を反応塔に設置した状態を示す模式的破断図であ
る。
縦断面図（但しガス吹き出し器及びその付随部分
は断面図ではない。）であり、第２図はその底面
図である。また第３図は本発明の粒状物分配装置
を反応塔に設置した状態を示す模式的破断図であ
る。
図中、１は供給管であり、その上部には粒状物
の装入口２を、また下端には排出口３を、それぞ
れ有している。装入口２には、ホース等の導管を
経て、あるいは第３図に示すように直接に、粒状
物を貯蔵したホツパー４を接続する。
の装入口２を、また下端には排出口３を、それぞ
れ有している。装入口２には、ホース等の導管を
経て、あるいは第３図に示すように直接に、粒状
物を貯蔵したホツパー４を接続する。
排出口３に近接してそれを塞ぐように円錐形の
吐出制御部材５が設けられている。吐出制御部材
５は軸受６を介して垂直軸７の周りに回転し得る
ようになつている。吐出制御部材５の外周部下面
に多数の羽根８が取り付けられている。この実施
例においては羽根８の各々は吐出制御部材５の底
面の円の半径方向に対して一定の角度を有する邪
魔板からなつている。９は吐出制御部材５の下面
に取付けられた整流板である１０は吐出制御部材
５の円錐面に設けられた開口であり、円錐面上を
滑り落ちる粒状物がそこを通つて落下するように
なつている。開口１０は、互に独立した円形又は
矩形の孔であつてもよく、また円錐面の頂部から
底部に至る範囲に設けられた連続的または断続的
なスリツトであつてもよい。開口１０の大きさ及
び位置（特に円錐面における高さ分布）は該開口
を通つて落下する粒状物が円錐の底面円上に均一
に分布するように適当に定めることができる。後
述するように吐出制御部材５は粒状物の分配操作
中にガス圧によつて回転し、粒状物はこの回転す
る円錐面上の開口１０から落下するので、開口分
布の多少の不均一はならされることとなるから、
開口分布の決定は厳密性を要しない。
吐出制御部材５が設けられている。吐出制御部材
５は軸受６を介して垂直軸７の周りに回転し得る
ようになつている。吐出制御部材５の外周部下面
に多数の羽根８が取り付けられている。この実施
例においては羽根８の各々は吐出制御部材５の底
面の円の半径方向に対して一定の角度を有する邪
魔板からなつている。９は吐出制御部材５の下面
に取付けられた整流板である１０は吐出制御部材
５の円錐面に設けられた開口であり、円錐面上を
滑り落ちる粒状物がそこを通つて落下するように
なつている。開口１０は、互に独立した円形又は
矩形の孔であつてもよく、また円錐面の頂部から
底部に至る範囲に設けられた連続的または断続的
なスリツトであつてもよい。開口１０の大きさ及
び位置（特に円錐面における高さ分布）は該開口
を通つて落下する粒状物が円錐の底面円上に均一
に分布するように適当に定めることができる。後
述するように吐出制御部材５は粒状物の分配操作
中にガス圧によつて回転し、粒状物はこの回転す
る円錐面上の開口１０から落下するので、開口分
布の多少の不均一はならされることとなるから、
開口分布の決定は厳密性を要しない。
ガス吹き出し器１１は吐出制御部材５の外周部
下面近くに設けられた環状管であり、外側に多数
のガス吹き出し孔１２を有している。ガス吹き出
し器１１は輻１３によつて垂直軸７に固定され、
垂直軸７はその上部の螺子部１４によつて供給管
１上部の螺子部１５に螺合して支えられている。
吐出制御部材５は軸受６によつて垂直軸７上に支
えられているので、上記螺子部の回転によつてそ
の垂直位置が変化させられ、それに応じて排出口
３と吐出制御部材５との間隙の大きさが調節され
る。本実施例においてはガス吹き出し器１１に続
く輻１３及び垂直軸７はいずれも中空となつてお
り、垂直軸７の上端は弁１６を経てガス供給ライ
ン１７に接続されている。ガス源（図示せず）か
ら供給されるガスは、ガス供給ライン１７、弁１
６、垂直軸７、及び輻１３を経てガス吹き出し器
１１のガス吹出し孔１２から半径方向に吹き出
し、羽根８に衝突して吐出制御部材５を回転させ
ながらさらに外側に吹き出すこととなる。１８は
垂直軸７を供給管１内に心出しするための支持板
である。また１９は供給管１を例えば反応塔開口
等の支持台上に載置するための支持フランジであ
る。
下面近くに設けられた環状管であり、外側に多数
のガス吹き出し孔１２を有している。ガス吹き出
し器１１は輻１３によつて垂直軸７に固定され、
垂直軸７はその上部の螺子部１４によつて供給管
１上部の螺子部１５に螺合して支えられている。
吐出制御部材５は軸受６によつて垂直軸７上に支
えられているので、上記螺子部の回転によつてそ
の垂直位置が変化させられ、それに応じて排出口
３と吐出制御部材５との間隙の大きさが調節され
る。本実施例においてはガス吹き出し器１１に続
く輻１３及び垂直軸７はいずれも中空となつてお
り、垂直軸７の上端は弁１６を経てガス供給ライ
ン１７に接続されている。ガス源（図示せず）か
ら供給されるガスは、ガス供給ライン１７、弁１
６、垂直軸７、及び輻１３を経てガス吹き出し器
１１のガス吹出し孔１２から半径方向に吹き出
し、羽根８に衝突して吐出制御部材５を回転させ
ながらさらに外側に吹き出すこととなる。１８は
垂直軸７を供給管１内に心出しするための支持板
である。また１９は供給管１を例えば反応塔開口
等の支持台上に載置するための支持フランジであ
る。
次に本発明の粒状物分配装置を用いて反応塔に
触媒粒を充填する方法につき第３図を参照しなが
な説明する。供給管１はその支持フランジ１９に
よつて反応塔３０の開口３１上に載置される。供
給管の装入部２は支持枠２５上に固定されたホツ
パー４に直接接続されている。垂直軸７上部の螺
子部によつて吐出制御部材５の垂直高さ、従つて
供給管の排出口３を吐出制御部材５との間隙の大
きさ、が調節される。ガス供給ライン１７から弁
１６を経てガスが供給され、このガスはガス吹き
出し器１１から外周へ向つて吹き出し、羽根８に
衝突して吐出制御部材５を回転させ、さらにその
外側へと吹き出す。触媒粒はホツパー４から装入
部２を経て供給管１内に供給され、さらに排出口
３と吐出制御部材５との間隙から吐出して、吐出
制御部材５の円錐面上を滑りまたは転がりながら
落下する。触媒粒子の一部は円錐面上の開口１０
から落下し、円錐面の回転による力を受けながら
弧を描いて触媒層３２の表面に到達する。円錐面
の下端に到達した触媒粒はそれ自身の重力並びに
円錐面の回転による接線方向の力及び遠心力を受
けながら円錐面から飛び出し、さらにガス吹き出
し器１１から羽根８を通過して吹き出してきたガ
スの圧力をも受けて飛散し、弧を描いて落下して
触媒層３２の表面上に到達する。
触媒粒を充填する方法につき第３図を参照しなが
な説明する。供給管１はその支持フランジ１９に
よつて反応塔３０の開口３１上に載置される。供
給管の装入部２は支持枠２５上に固定されたホツ
パー４に直接接続されている。垂直軸７上部の螺
子部によつて吐出制御部材５の垂直高さ、従つて
供給管の排出口３を吐出制御部材５との間隙の大
きさ、が調節される。ガス供給ライン１７から弁
１６を経てガスが供給され、このガスはガス吹き
出し器１１から外周へ向つて吹き出し、羽根８に
衝突して吐出制御部材５を回転させ、さらにその
外側へと吹き出す。触媒粒はホツパー４から装入
部２を経て供給管１内に供給され、さらに排出口
３と吐出制御部材５との間隙から吐出して、吐出
制御部材５の円錐面上を滑りまたは転がりながら
落下する。触媒粒子の一部は円錐面上の開口１０
から落下し、円錐面の回転による力を受けながら
弧を描いて触媒層３２の表面に到達する。円錐面
の下端に到達した触媒粒はそれ自身の重力並びに
円錐面の回転による接線方向の力及び遠心力を受
けながら円錐面から飛び出し、さらにガス吹き出
し器１１から羽根８を通過して吹き出してきたガ
スの圧力をも受けて飛散し、弧を描いて落下して
触媒層３２の表面上に到達する。
このように本発明の分配装置を用いて粒状物を
分配する場合には、粒状物は、自身の重力による
垂直方向の力のみではなく、吐出制御部材の回転
による接線方向及び半径方向の力、さらにはガス
吹き出し器からのガス圧を含む複雑な力を受けて
分散し落下するので、広い範囲に渉る均一な分配
が達成される。
分配する場合には、粒状物は、自身の重力による
垂直方向の力のみではなく、吐出制御部材の回転
による接線方向及び半径方向の力、さらにはガス
吹き出し器からのガス圧を含む複雑な力を受けて
分散し落下するので、広い範囲に渉る均一な分配
が達成される。
ガス吹き出し器１１に供給されるガスは通常、
空気を使用して支障はないが、粒状物の性質によ
り必要に応じて窒素、水素等を使用することもで
きる。弁１６の調節によりガス吹き出し器１１か
らのガスの吹き出し圧が変化し、それによつて吐
出制御部材５の回転速度が変化するので粒状物の
飛散距離を変化させることができる。粒状物の吐
出速度は、前記螺子部の調節により排出口３と吐
出制御部材５との間隙を変化させることによつて
変化させることができる。
空気を使用して支障はないが、粒状物の性質によ
り必要に応じて窒素、水素等を使用することもで
きる。弁１６の調節によりガス吹き出し器１１か
らのガスの吹き出し圧が変化し、それによつて吐
出制御部材５の回転速度が変化するので粒状物の
飛散距離を変化させることができる。粒状物の吐
出速度は、前記螺子部の調節により排出口３と吐
出制御部材５との間隙を変化させることによつて
変化させることができる。
本発明の粒状物分配装置を用いて粒状物の分配
を行なう場合には、粒状物は重力、回転による力
及びガス圧を含む複雑な力を受けて分配させられ
るので、分配の均一性が特に優れている。また分
配の速度も大きく、かつ種々の形状の粒状物の分
配に使用することができる。
を行なう場合には、粒状物は重力、回転による力
及びガス圧を含む複雑な力を受けて分配させられ
るので、分配の均一性が特に優れている。また分
配の速度も大きく、かつ種々の形状の粒状物の分
配に使用することができる。
特に本発明の粒状物分配装置を使用して反応塔
に触媒粒を充填する場合について考えると、触媒
粒は均一かつ高密度に充填されることとなるの
で、前述した触媒層沈下による内部機器の破損、
あるいは偏流及び空隙の発生を原因とする異常反
応が低減される。また触媒粒が高密度で充填され
るので、反応条件が同一であれば反応原料の供給
量を増大することによつて増産が可能となるし、
供給量を同一とすれば反応条件が緩和されること
によつて燃料の節約あるいは触媒寿命の延長とい
つた効果が達成される。
に触媒粒を充填する場合について考えると、触媒
粒は均一かつ高密度に充填されることとなるの
で、前述した触媒層沈下による内部機器の破損、
あるいは偏流及び空隙の発生を原因とする異常反
応が低減される。また触媒粒が高密度で充填され
るので、反応条件が同一であれば反応原料の供給
量を増大することによつて増産が可能となるし、
供給量を同一とすれば反応条件が緩和されること
によつて燃料の節約あるいは触媒寿命の延長とい
つた効果が達成される。
本発明の粒状物分配装置はこのような種々の利
点を有する粒状物の均一分配を達成する簡便な手
段を提供するものであり、工業上益するところ多
大である。
点を有する粒状物の均一分配を達成する簡便な手
段を提供するものであり、工業上益するところ多
大である。
第１図は本発明の粒状物分配装置の一例を示す
縦断面図であり、第２図はその底面図である。第
３図は本発明の粒状物分配装置を反応塔に設置し
て使用する状態を示す模式破断図である。 １：供給管、４：ホツパー、５：吐出制御部
材、７：垂直軸、８：羽根、１０：開口、１１：
ガス吹き出し器、１６：弁、１７：ガス供給ライ
ン、３０：反応塔、３２：触媒層。
縦断面図であり、第２図はその底面図である。第
３図は本発明の粒状物分配装置を反応塔に設置し
て使用する状態を示す模式破断図である。 １：供給管、４：ホツパー、５：吐出制御部
材、７：垂直軸、８：羽根、１０：開口、１１：
ガス吹き出し器、１６：弁、１７：ガス供給ライ
ン、３０：反応塔、３２：触媒層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 上部に装入部を、また下端に排出口を、それ
ぞれ有する実質的に垂直の供給管と、 上記排出口に近接して垂直軸の周りに回転し得
るように、かつその垂直位置を変化させ得るよう
に支持されて設けられ、ガス圧を受けて該軸の周
りを回転するための羽根をその外周部下面に備
え、かつその円錐面に複数の開口を有する、円錐
形の吐出制御部材と、 該吐出制御部材の下面近くに、上記羽根に衝突
しかつ上記円錐形の底面の中心部から外周部へ向
う方向にガスを吹き出すように設けられたガス吹
き出し器と、 から構成されていることを特徴とする粒状物分配
装置。 ２ 特許請求の範囲第１項に記載の粒状物分配装
置において、該ガス吹き出し器は吐出制御部材の
外周部下面近くに設けられた外側にガス吹き出し
孔を有する環状管であることを特徴とする装置。 ３ 特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の粒
状物分配装置において、該装入部にホツパーが取
り付けられていることを特徴とする装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14511778A JPS5570641A (en) | 1978-11-24 | 1978-11-24 | Powder distributor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14511778A JPS5570641A (en) | 1978-11-24 | 1978-11-24 | Powder distributor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5570641A JPS5570641A (en) | 1980-05-28 |
| JPS6129291B2 true JPS6129291B2 (ja) | 1986-07-05 |
Family
ID=15377776
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14511778A Granted JPS5570641A (en) | 1978-11-24 | 1978-11-24 | Powder distributor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5570641A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63172877A (ja) * | 1987-01-13 | 1988-07-16 | 日本建鐵株式会社 | 冷凍冷蔵クロ−ズドシヨ−ケ−スの加湿方法 |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2872497B1 (fr) * | 2004-07-02 | 2007-11-30 | Total France Sa | Dispositif et procede pour le chargement d'une enceinte avec un solide divise comprenant un arbre de rotation creux |
| ITBO20090446A1 (it) * | 2009-07-10 | 2011-01-11 | Balistreri Gianni Domenico Augusto | Macchina per la distribuzione di catalizzatore all'interno di un reattore. |
| JP6383679B2 (ja) * | 2015-02-12 | 2018-08-29 | ソフタード工業株式会社 | 触媒充填装置および触媒充填方法 |
| WO2023112111A1 (ja) * | 2021-12-14 | 2023-06-22 | ソフタード工業株式会社 | 触媒充填方法および触媒充填装置 |
| CN115215052B (zh) * | 2022-06-21 | 2023-11-03 | 立达超微科技(安徽青阳)有限公司 | 一种颗粒料输送转运装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS484758U (ja) * | 1971-06-17 | 1973-01-19 |
-
1978
- 1978-11-24 JP JP14511778A patent/JPS5570641A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS484758U (ja) * | 1971-06-17 | 1973-01-19 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63172877A (ja) * | 1987-01-13 | 1988-07-16 | 日本建鐵株式会社 | 冷凍冷蔵クロ−ズドシヨ−ケ−スの加湿方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5570641A (en) | 1980-05-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4972884A (en) | Method and apparatus for uniformly loading particulate material into cylindrical beds | |
| CA1254720A (en) | Method and apparatus for uniformly loading particulate material into cylindrical beds | |
| US5296202A (en) | Apparatus for uniformly loading particulate material into cylindrical beds | |
| JPH0617173B2 (ja) | 粒状固体によるケ−シング充填装置 | |
| US4624059A (en) | Method and plant for cooling pellets | |
| CN102264463B (zh) | 用于将固体颗粒装载到封装物内的设备 | |
| US20040025966A1 (en) | Method and apparatus for uniform particle loading of vessels | |
| US4584000A (en) | Liquid spraying | |
| US3804273A (en) | Catalyst distribution apparatus | |
| US2468712A (en) | Heat exchanger | |
| JPS6129291B2 (ja) | ||
| US3576262A (en) | Rotary particle distributor for minimizing particle size segregation in a bin | |
| JPS643774B2 (ja) | ||
| CA1216139A (en) | Liquid spraying | |
| US3607993A (en) | Method of prilling | |
| JPH0133521B2 (ja) | ||
| US3259998A (en) | Device for the fluidization of powdered materials | |
| US3347620A (en) | Process for carrying out a reaction between a plurality of reactants on rotating surfaces | |
| EP0142377B1 (en) | Spray device and method of spraying a slurry | |
| CA1204276A (en) | Gas distributor for fluidized beds | |
| JP3950497B2 (ja) | 触媒充填方法および装置 | |
| JPH0445839A (ja) | 触媒充填方法及び触媒充填装置 | |
| US3038482A (en) | Dust handling apparatus | |
| GB2287016A (en) | Charging a container with particulate solids material | |
| US6805171B2 (en) | Method for loading a chamber with solid particles |