JPS61281500A - 核融合装置の電流導入端子の製造方法 - Google Patents
核融合装置の電流導入端子の製造方法Info
- Publication number
- JPS61281500A JPS61281500A JP60121546A JP12154685A JPS61281500A JP S61281500 A JPS61281500 A JP S61281500A JP 60121546 A JP60121546 A JP 60121546A JP 12154685 A JP12154685 A JP 12154685A JP S61281500 A JPS61281500 A JP S61281500A
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Waveguides (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は核融合装置の高周波漏熱装置に係り。
特に大電力の高周波電流を結合系に導入するための同軸
電流導入端子の製造方法に関する。
電流導入端子の製造方法に関する。
一般に核融合装置のプラズマ加熱に用いラレル高周波加
熱装置は第5図に示す如く、高周波発振装置■、高周波
電流を核融合装置(10)に伝える伝送系(If)、高
周波電流を核融合装置(1o)に直接入射する結合系(
12)、伝送系(11)と結合系(12)を接続する電
流導入端子(13)およびそれらを制御する制御装置(
14)からなる、伝送系(11)には絶縁耐圧“を高め
るために内部にSF、等の絶縁気体を満たす。
熱装置は第5図に示す如く、高周波発振装置■、高周波
電流を核融合装置(10)に伝える伝送系(If)、高
周波電流を核融合装置(1o)に直接入射する結合系(
12)、伝送系(11)と結合系(12)を接続する電
流導入端子(13)およびそれらを制御する制御装置(
14)からなる、伝送系(11)には絶縁耐圧“を高め
るために内部にSF、等の絶縁気体を満たす。
一方、結合系(12)は核融合装置(1o)に接続され
ているため、内部10″″’torr以下の真空状態と
なる。
ているため、内部10″″’torr以下の真空状態と
なる。
したがって、伝送系(11)と結合系(12)とを接続
する電流導入端子(13)は、高周波電流を通りゃす゛
く、かつ数気圧もの圧力に対して気密を保持し得るもの
でなければならない、従って、伝送系(11)と結合系
(12)に同軸給電線(図示せず)を用いた時の電流導
入端子(13)は、例えば第6図に示すような縦断面の
構造とすることが考えられた。
する電流導入端子(13)は、高周波電流を通りゃす゛
く、かつ数気圧もの圧力に対して気密を保持し得るもの
でなければならない、従って、伝送系(11)と結合系
(12)に同軸給電線(図示せず)を用いた時の電流導
入端子(13)は、例えば第6図に示すような縦断面の
構造とすることが考えられた。
第6図の■は同軸給電線の内導体(図示せず)と接続す
る電流導入端子の内導体、■は同軸給電線の外導体と接
続する電流導入端子の外導体、■はコロナリング、■は
内導体■と外導体■とを電気的に絶縁し、かつ、真空部
と加圧気体部とを遮断するためのもので、高周波の誘電
損失を防ぐために誘電率の低いAg、0.などを焼結し
たセラミックス製の仕切部材である。内導体中および外
導体■はステンレス鋼等の機械強度の高い材料を用い。
る電流導入端子の内導体、■は同軸給電線の外導体と接
続する電流導入端子の外導体、■はコロナリング、■は
内導体■と外導体■とを電気的に絶縁し、かつ、真空部
と加圧気体部とを遮断するためのもので、高周波の誘電
損失を防ぐために誘電率の低いAg、0.などを焼結し
たセラミックス製の仕切部材である。内導体中および外
導体■はステンレス鋼等の機械強度の高い材料を用い。
内導体■の外表面及び外導体■の内表面には電気的性能
および経済性の観点から、銅メッキを施す。
および経済性の観点から、銅メッキを施す。
仕切部材■と内導体■および外導体■は銀ろう付する。
その際、銀ろうの一部がろう付部材(15)の外にはみ
出し、表面に突起物として残る可能性がある。との突起
物は高周波通電時に電界集中による絶縁破壊の原因とな
り、電流導入端子(13)の絶縁耐圧を劣化させる危険
がある。そこで、ろう付部(15)の近くにろう付部(
15)を挟んで、それぞれ2個ずつ並列にコロナリング
■を設け、ろう付部での電界強度を弱め、前述のような
絶縁耐圧の劣化を未然に防いでいる。ところで、電流導
入端子の内導体■及び外導体■の外、内表面に銅メッキ
を施す場合、内、外導体■、■を単品で銅メッキした後
、仕切部材■と銀ろう付すると、その際の温度が850
℃以上になるため、銅メッキの健全性が保たれない、そ
のため銅メッキは銀ろう付部。
出し、表面に突起物として残る可能性がある。との突起
物は高周波通電時に電界集中による絶縁破壊の原因とな
り、電流導入端子(13)の絶縁耐圧を劣化させる危険
がある。そこで、ろう付部(15)の近くにろう付部(
15)を挟んで、それぞれ2個ずつ並列にコロナリング
■を設け、ろう付部での電界強度を弱め、前述のような
絶縁耐圧の劣化を未然に防いでいる。ところで、電流導
入端子の内導体■及び外導体■の外、内表面に銅メッキ
を施す場合、内、外導体■、■を単品で銅メッキした後
、仕切部材■と銀ろう付すると、その際の温度が850
℃以上になるため、銅メッキの健全性が保たれない、そ
のため銅メッキは銀ろう付部。
内、外導体■、■および仕切部材■を一体で行なうが、
その際、前述のようなコロナリング■を設けなければな
らないような、銀ろうのはみ出し部があると、その部分
には銅メッキがうまくつかない、とのため、銀ろう付部
近傍だけ、電気伝導度が低くなり、高周波通電時の表面
電流による発熱により、銀ろう付部近傍のみは他の部分
より温度上昇が大きくなる1通電する高周波電力が小さ
いうちは、温度上昇の差は小さく、第7図に示すように
、内導体■を中空にして冷却するとか、外導体■に冷却
用ジャケット(16)を設けたりすれば、開運は生じな
いが、数MW以上の大電力となると、冷却に限界が生じ
、メッキの無い銀ろう付部近傍と他のメッキのある部分
との温度差が大きくなり、そのため、大きな熱応力が生
じ、仕切部材■が破壊される恐れが生じる。従って、せ
っかくコロナリングで絶縁耐圧を向上させても、銀ろう
付部に生じる熱応力のために大電力の高周波を通電でき
なくなるという問題が生じる。また、銀ろう付部近傍で
の伝導損失が増加することにより、核融合装置に伝送し
得る高周波の電力が減少し、加熱効率の劣化につながる
恐れも生じる。
その際、前述のようなコロナリング■を設けなければな
らないような、銀ろうのはみ出し部があると、その部分
には銅メッキがうまくつかない、とのため、銀ろう付部
近傍だけ、電気伝導度が低くなり、高周波通電時の表面
電流による発熱により、銀ろう付部近傍のみは他の部分
より温度上昇が大きくなる1通電する高周波電力が小さ
いうちは、温度上昇の差は小さく、第7図に示すように
、内導体■を中空にして冷却するとか、外導体■に冷却
用ジャケット(16)を設けたりすれば、開運は生じな
いが、数MW以上の大電力となると、冷却に限界が生じ
、メッキの無い銀ろう付部近傍と他のメッキのある部分
との温度差が大きくなり、そのため、大きな熱応力が生
じ、仕切部材■が破壊される恐れが生じる。従って、せ
っかくコロナリングで絶縁耐圧を向上させても、銀ろう
付部に生じる熱応力のために大電力の高周波を通電でき
なくなるという問題が生じる。また、銀ろう付部近傍で
の伝導損失が増加することにより、核融合装置に伝送し
得る高周波の電力が減少し、加熱効率の劣化につながる
恐れも生じる。
本発明は絶縁耐圧を向上させるためにコロナリングを設
けても、仕切部材の銀ろう付部近傍での電気伝導度が劣
化しないような核融合装置の電流導入端子の製造方法を
提供することを目的とする。
けても、仕切部材の銀ろう付部近傍での電気伝導度が劣
化しないような核融合装置の電流導入端子の製造方法を
提供することを目的とする。
本発明においては、端子の内導体および端子の外導体と
コロナリングおよびセラミックス製の仕切部材との銀ろ
う付部を、セラミックスはメタライズし、他はあらかじ
め金メッキを施し、これらを銀ろう付することにより、
金メッキが崩壊することなく、銀ろう付部近傍での電気
伝導度が劣化しないようにするものである。
コロナリングおよびセラミックス製の仕切部材との銀ろ
う付部を、セラミックスはメタライズし、他はあらかじ
め金メッキを施し、これらを銀ろう付することにより、
金メッキが崩壊することなく、銀ろう付部近傍での電気
伝導度が劣化しないようにするものである。
実施例1
以下、本発明の第1の実施例について、第1図および第
2図(a) = (b) 、 (c)を参照して説明す
る。
2図(a) = (b) 、 (c)を参照して説明す
る。
電流導入端子(13)の内導体(ト)、外導体■、コロ
ナリング■の各単品の被銀ろう付部に)に金メッキを施
す。セラミックス製の仕切部材0は円筒部(5a)の−
右端に内向はフランジ(5b)を設け、他方端には外向
はフランジ(5c)を設けた形状にし、との仕切部材■
の被銀ろう付部に)はメタライズした後、金メッキを施
す、コロナリング■は端子の内導体■と、端子の外導体
■とにそれぞれ2個ずつ並列に配設し、その間を仕切る
ように仕切部材■を配置して銀ろう付する。その後内導
体■と外導体■との金メッキ部以外の電流通過面0とコ
ロナリング0の銀ろう付しない部分に銅メッキを施す。
ナリング■の各単品の被銀ろう付部に)に金メッキを施
す。セラミックス製の仕切部材0は円筒部(5a)の−
右端に内向はフランジ(5b)を設け、他方端には外向
はフランジ(5c)を設けた形状にし、との仕切部材■
の被銀ろう付部に)はメタライズした後、金メッキを施
す、コロナリング■は端子の内導体■と、端子の外導体
■とにそれぞれ2個ずつ並列に配設し、その間を仕切る
ように仕切部材■を配置して銀ろう付する。その後内導
体■と外導体■との金メッキ部以外の電流通過面0とコ
ロナリング0の銀ろう付しない部分に銅メッキを施す。
次に作用について説明する。
金メツキ部は銀ろう付の温度では破壊されない。
そして銀ろう材部の常温においては、電流通過面■ノ銅
メッキも破壊されない。従って銀ろう材部は金メツキ部
を通過するから、電気伝導度が劣化しない電流導入端子
を製造することができる。
メッキも破壊されない。従って銀ろう材部は金メツキ部
を通過するから、電気伝導度が劣化しない電流導入端子
を製造することができる。
実施例2
第3図に示す第2の実施例は、仕切部材■の内。
外導体■、■への銀ろう材部の背部の肉厚を大にした厚
肉部■を設けたもので、他は実施例1と同様である。
肉部■を設けたもので、他は実施例1と同様である。
とのようにすると、金メツキ部(イ)の伝導損失を少な
くして、銅メツキ部(へ)の温度上昇と近似して熱歪を
均等にする他、実施例1と同様な作用効果が得られる。
くして、銅メツキ部(へ)の温度上昇と近似して熱歪を
均等にする他、実施例1と同様な作用効果が得られる。
実施例3
第4図に示す第3の実施例は、内、外導体■。
■にベロー状の伸縮部■を設けたもので、他は実施例1
と同様である。
と同様である。
とのようにすると、熱応力、熱歪を緩和する他、実施例
1と同様な作用効果が得られる。
1と同様な作用効果が得られる。
尚、実施例1の銅メツキ部を銀メッキ、金メッキ等にし
てもよい。又、セラミックス製仕切部材■の銀ろう材部
はメタライズしただけでもよい。
てもよい。又、セラミックス製仕切部材■の銀ろう材部
はメタライズしただけでもよい。
さらに又、銀ろうの代りに金ろうを用いてもよい。
以上説明したように1本発明によれば、ろう材部の電気
伝導度の著しい劣化がないため、大電力の高周波を通電
してもろう材部で伝導損失が著しく増加することがない
、従ってろう材部と他の部分での温度上昇の差は小さく
なり、ろう材部に発生する熱歪が小さくなり。仕切部材
が破壊される危険性が少なく、大容量に適した核融合装
置の電流導入端子を製造することができる。
伝導度の著しい劣化がないため、大電力の高周波を通電
してもろう材部で伝導損失が著しく増加することがない
、従ってろう材部と他の部分での温度上昇の差は小さく
なり、ろう材部に発生する熱歪が小さくなり。仕切部材
が破壊される危険性が少なく、大容量に適した核融合装
置の電流導入端子を製造することができる。
第1図は本発明の第1の実施例の方法にて製造した核融
合装置の電流導入端子を示す縦断面図2第2図(a)
、 (b) 、 (c)は第1図のそれぞ′れ異なる単
品を示す縦断面図、第3図および第41i!ilIは第
2および第3の実施例の方法にて製造した電流導入端子
の縦断面図、第5図は核融合装置と高周波加熱装置との
関係を示す模式図、第6図および第7@はそれぞれ異な
る方法で製造した従来の電流導入端子を示す縦断面図で
ある。 1・・・端子の内導体 2・・・端子の外導体3
・・・コロナリング 4・・・金メツキ部5・・
・仕切部材 6・・・鋼メッキ部9・・・高
周波発振装置f 10・・・核融合装置11・・
・伝送系 12・・・結合系13・・・電
流導入端子
合装置の電流導入端子を示す縦断面図2第2図(a)
、 (b) 、 (c)は第1図のそれぞ′れ異なる単
品を示す縦断面図、第3図および第41i!ilIは第
2および第3の実施例の方法にて製造した電流導入端子
の縦断面図、第5図は核融合装置と高周波加熱装置との
関係を示す模式図、第6図および第7@はそれぞれ異な
る方法で製造した従来の電流導入端子を示す縦断面図で
ある。 1・・・端子の内導体 2・・・端子の外導体3
・・・コロナリング 4・・・金メツキ部5・・
・仕切部材 6・・・鋼メッキ部9・・・高
周波発振装置f 10・・・核融合装置11・・
・伝送系 12・・・結合系13・・・電
流導入端子
Claims (2)
- (1)核融合装置へ高周波発振装置から高周波電流を導
入する経路の結合系と伝送系との間に介在させてセラミ
ックス製の仕切部材にて両側を気密に仕切る構造の電流
導入端子の製造方法において、端子の内導体および端子
の外導体とコロナリングおよび仕切部材との銀ろう付部
を、仕切部材はメタライズし、他はあらかじめ金メッキ
を施し、これらを銀ろう付したことを特徴とする核融合
装置の電流導入端子の製造方法。 - (2)コロナリングは端子の内導体と端子の外導体とに
それぞれ2個ずつ並列に配設し、その間を仕切るように
仕切部材を配置し、電流通過面を銅、銀又は金のメッキ
を施したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
核融合装置の電流導入端子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60121546A JPS61281500A (ja) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | 核融合装置の電流導入端子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60121546A JPS61281500A (ja) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | 核融合装置の電流導入端子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61281500A true JPS61281500A (ja) | 1986-12-11 |
Family
ID=14813923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60121546A Pending JPS61281500A (ja) | 1985-06-06 | 1985-06-06 | 核融合装置の電流導入端子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61281500A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62163300A (ja) * | 1986-01-13 | 1987-07-20 | 日本原子力研究所 | 同軸給電線 |
WO2011132454A1 (ja) * | 2010-04-20 | 2011-10-27 | シャープ株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法および半導体素子の製造方法 |
-
1985
- 1985-06-06 JP JP60121546A patent/JPS61281500A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62163300A (ja) * | 1986-01-13 | 1987-07-20 | 日本原子力研究所 | 同軸給電線 |
WO2011132454A1 (ja) * | 2010-04-20 | 2011-10-27 | シャープ株式会社 | プラズマ処理装置、プラズマ処理方法および半導体素子の製造方法 |
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