JPS6127428B2 - - Google Patents
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/42—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors
- G01J1/429—Photometry, e.g. photographic exposure meter using electric radiation detectors applied to measurement of ultraviolet light
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
- G01J1/48—Photometry, e.g. photographic exposure meter using chemical effects
- G01J1/50—Photometry, e.g. photographic exposure meter using chemical effects using change in colour of an indicator, e.g. actinometer
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
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- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
本発明は化学線で照射することにより像を造る
ことのできる媒体に関するものである。特に、本
発明は像−形成作業を逆にすることを可能にす
る、即ち記録した像を消去することが可能なホト
クロミック（photochromic）アジリジンをベー
スとした像を造りまたは記録するのに使用するこ
とができる物品に関するものである。 多くの通例の映像物質は化学線で照射される場
合には不可逆的変化を受ける。従つて、消去は像
それ自身の物理的破壊なしには行い得ない。それ
に加えて、多くの場合に、形成された像は潜在性
であり、従つて引続く現像が必要である。 ホトクロム類は化学線で照射した際に可逆的に
色が変化する化合物である。そのように直接発色
するホトクロミツク物質は、しかし、これらの物
質を含む系から生じる像が極めて少ない安定性し
か有さない、即ち、その像は室温においては数分
間または数時間以内に消えるであろうという限界
を伝統的に経験する。 特別に規定したホトクロミツクアジリジン化合
物は記録した像を消去することが可能でありそし
て情報の付加が可能であり、そのフイルムは再使
用が可能である等の像を造るのに利用できること
がここに確かめられた。 その上、この化合物を支持体上に蒸着させる場
合には、そのようなものは高分解能、長期間記録
に利用することができる。これらのフイルムはビ
デオ円盤またはマイクロフイツシユのようなデー
タ記録利用分野に、特に高密度データ記録に関連
して利用することができる。直接現像ができるほ
か、そのような媒体は新しくでき、または消去す
ることができる。フイルムは写真および／または
複写工程における中間体としておよび補強物質と
してさらに使用することができる。 この物品はまたスペクトルフイルターと共に化
学線に対する照射を監視するためにも使うことが
できる。 シユライ（Schleigh）等の米国特許第3894874
号中には光還元像形成におけるアジリジンの使用
を記載している。還元性の像−形成化合物が支持
体上で結合剤中にホトクロミツクアジリジンと組
合わされて放射線−敏感性層を形成する。化学線
で照射し、引続き加熱すると、像が得られる。さ
らに、米国特許第3964823号中には部分的に結晶
質でそして部分的に結晶学的に整列したホトクロ
ミツクアジリジンおよびオキシランはフロントガ
ラス、サングラス、および点滅スイツチ装置に有
用であると開示されている。 後文に規定するホトクロミツクアジリジンを支
持体上に適用することにより、そしてアジリジン
被膜を覆うために酸素遮断物質を利用することに
より、化学線に照射させることによつて形成され
る像の寿命を、酸素または空気中のホトクロミツ
クアジリジンの寿命よりも少なくとも千倍も増加
させうることがここに見出された。 本発明に従えば、その表面の少なくとも一つに
式： 〔式中R1およびR2は別々に水素、低級アルキ
ル、フエニル、またはオルトまたはパラ低級アル
キルまたは低級アルコキシ置換フエニルである
か、またはR1およびR2はこれらが結合する炭素
原子と一緒になつて４ないし７（４および７を含
む）個の炭素原子を有するアルキレンを表わす〕
のホトクロミツクアジリジンの少なくとも一つの
被膜またはフイルムを有し、そしてその被膜の上
に、またはある場合にはそれと一体となつて、化
学線に対して、そこを化学線が通過するに十分な
透過性を有する実質的に酸素−不透過性遮断被膜
が覆つている支持体を含む熱に安定で光学的に消
去可能な像を造りまたは記録する媒体が提供され
る。 この媒体は化学線に照射することによつて像を
造り、この像は光学的に消去でき、そして再び像
を造ることができ、その像は熱的消色に実質的に
耐える。 本明細書で使用する「化学線」なる用語は、被
照射体において或る様相で化学反応を生起させる
に十分な強度を有するいずれかの照射線を意味す
る。 本発明において利用されるホトクロミツクアジ
リジンは2R1，2R2−６（ｐ−ニトロフエニル）−
４−フエニル−１，３−ジアザビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−３−エンであり、これは構造的
に次のように示すことができる： 〔式中R1およびR2は別々に選ばれて水素、低
級アルキル、フエニル、またはオルトまたはパラ
低級アルキルまたは低級アルコキシ置換フエニル
（但し「低級」の術語は１ないし４個の炭素原子
を表わす）であり、そしてR1およびR2はこれら
が結合する炭素原子と一緒になつて４ないし７
（４および７を含む）個の炭素原子を有するアル
キレンである〕。これらの化合物はハイン
（Heine）等によつてJ.Org.Chem.32，2708−10
（1967）中および米国特許第3609165号中に開示さ
れた方法によつて合成することができる。この発
明に対して最も好ましい化合物はジメチル誘導
体、即ち２，2′−ジメチル−６（ｐ−ニトロフエ
ニル）−４−フエニル−１，３−ジアザビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−３−エンである。好ましいアル
キレン誘導体はシクロヘキシルおよびシクロペン
チル誘導体を含む。 これらのアジリジンは電子ビームまたは紫外線
で照射する前は無色であるが、照射されるとその
中に含まれているR1およびR2基に応じて化合物
は種々の濃度の青色に変る。もしもそのような化
合物を暗黒の中に置けば、それらは再び無色にな
る；それ故色の変化は可逆性になる。その上、そ
れらは熱的にまたは可射光線で照射することによ
つて消色することが可能である。即ち、そのよう
な方法の使用によつてそれらの無色状態に逆戻り
するであろう。従つて、ホトクロミツクアジリジ
ンの無色の形態は電子ビームまたは紫外線で照射
したときに無色形態に変換させることができ、そ
して無色形態へ戻る可逆反応はアジリジンを可視
光線で照射したときに、または暗黒中に置いたと
きに、または熱的に起すことができる。 このことは次のように描くことができる： Ａ ｈν１ Ｂ 暗黒 ｈν２ Δ 但しＡは無色の形態を、Ｂは着色形態を表わし、
ν１は紫外線までに限定される輻射線周波数であ
り、そしてν２は可視光線までに限定される輻射
線周波数である。 酸素が存在しない場合には、熱的消色反応は実
質的に減少させることができ、そしてホトクロミ
ツク物質は暗黒−安定にすることができることが
ここに確かめられた、即ち Ａ ｈν１ Ｂ ｈν２ この現像を説明するために、ジメチル誘導体の蒸
着フイルムを石英支持体上に塗被しそして僅かに
濁つてくるまで24時間空気中に静置し、そして次
に照射して濃青色を発生させた。この試料を雰囲
気を管理しうる光学的容器中に入れた。 室温における窒素雰囲気下で、着色フイルムの
透過性光学濃度（620nmで測定して）は７日間本
質的に一定であつた；しかし、酸素を導入したと
きに、着色は急速に消色された。これらの結果は
第１図に示される。 別法として、同一の構成物フイルムを空気中で
使用し、但し60℃において、紫外線により照射す
るとフイルムは瞬間的に着色しそして次に極めて
急速に熱的に消色された。この着色−消色サイク
ルは６回繰返され、次いで雰囲気を空気から窒素
に変更し、なお温度は60℃に維持した。窒素雰囲
気中でフイルムを紫外線により照射すると安定な
着色を与えこれは180分以上に亘つて消色を示さ
なかつた。これらの驚くべき結果は第２図中に例
解される。 ホトクロミツク化合物に対する酸素雰囲気の結
果をさらに例解するために、濾紙条片を上式の種
種のアジリジンのベンゼン溶液で飽和させそして
乾かした。条片を次いで紫外線で照射して青色形
態を生じさせた。これらの照射させた条片の一組
を暗黒中で窒素雰囲気中に保ち、そして別の一組
を酸素雰囲気中に保つた。両方の組を室温で暗黒
中に保つた。当初の光学濃度の1/2が消色される
のに要した時間を目視により評価しそして第表
中に記録した。周期的読み取り中光線に対する試
料の照射を最小にするために非常に注意を払つ
た。
ことのできる媒体に関するものである。特に、本
発明は像−形成作業を逆にすることを可能にす
る、即ち記録した像を消去することが可能なホト
クロミック（photochromic）アジリジンをベー
スとした像を造りまたは記録するのに使用するこ
とができる物品に関するものである。 多くの通例の映像物質は化学線で照射される場
合には不可逆的変化を受ける。従つて、消去は像
それ自身の物理的破壊なしには行い得ない。それ
に加えて、多くの場合に、形成された像は潜在性
であり、従つて引続く現像が必要である。 ホトクロム類は化学線で照射した際に可逆的に
色が変化する化合物である。そのように直接発色
するホトクロミツク物質は、しかし、これらの物
質を含む系から生じる像が極めて少ない安定性し
か有さない、即ち、その像は室温においては数分
間または数時間以内に消えるであろうという限界
を伝統的に経験する。 特別に規定したホトクロミツクアジリジン化合
物は記録した像を消去することが可能でありそし
て情報の付加が可能であり、そのフイルムは再使
用が可能である等の像を造るのに利用できること
がここに確かめられた。 その上、この化合物を支持体上に蒸着させる場
合には、そのようなものは高分解能、長期間記録
に利用することができる。これらのフイルムはビ
デオ円盤またはマイクロフイツシユのようなデー
タ記録利用分野に、特に高密度データ記録に関連
して利用することができる。直接現像ができるほ
か、そのような媒体は新しくでき、または消去す
ることができる。フイルムは写真および／または
複写工程における中間体としておよび補強物質と
してさらに使用することができる。 この物品はまたスペクトルフイルターと共に化
学線に対する照射を監視するためにも使うことが
できる。 シユライ（Schleigh）等の米国特許第3894874
号中には光還元像形成におけるアジリジンの使用
を記載している。還元性の像−形成化合物が支持
体上で結合剤中にホトクロミツクアジリジンと組
合わされて放射線−敏感性層を形成する。化学線
で照射し、引続き加熱すると、像が得られる。さ
らに、米国特許第3964823号中には部分的に結晶
質でそして部分的に結晶学的に整列したホトクロ
ミツクアジリジンおよびオキシランはフロントガ
ラス、サングラス、および点滅スイツチ装置に有
用であると開示されている。 後文に規定するホトクロミツクアジリジンを支
持体上に適用することにより、そしてアジリジン
被膜を覆うために酸素遮断物質を利用することに
より、化学線に照射させることによつて形成され
る像の寿命を、酸素または空気中のホトクロミツ
クアジリジンの寿命よりも少なくとも千倍も増加
させうることがここに見出された。 本発明に従えば、その表面の少なくとも一つに
式： 〔式中R1およびR2は別々に水素、低級アルキ
ル、フエニル、またはオルトまたはパラ低級アル
キルまたは低級アルコキシ置換フエニルである
か、またはR1およびR2はこれらが結合する炭素
原子と一緒になつて４ないし７（４および７を含
む）個の炭素原子を有するアルキレンを表わす〕
のホトクロミツクアジリジンの少なくとも一つの
被膜またはフイルムを有し、そしてその被膜の上
に、またはある場合にはそれと一体となつて、化
学線に対して、そこを化学線が通過するに十分な
透過性を有する実質的に酸素−不透過性遮断被膜
が覆つている支持体を含む熱に安定で光学的に消
去可能な像を造りまたは記録する媒体が提供され
る。 この媒体は化学線に照射することによつて像を
造り、この像は光学的に消去でき、そして再び像
を造ることができ、その像は熱的消色に実質的に
耐える。 本明細書で使用する「化学線」なる用語は、被
照射体において或る様相で化学反応を生起させる
に十分な強度を有するいずれかの照射線を意味す
る。 本発明において利用されるホトクロミツクアジ
リジンは2R1，2R2−６（ｐ−ニトロフエニル）−
４−フエニル−１，３−ジアザビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−３−エンであり、これは構造的
に次のように示すことができる： 〔式中R1およびR2は別々に選ばれて水素、低
級アルキル、フエニル、またはオルトまたはパラ
低級アルキルまたは低級アルコキシ置換フエニル
（但し「低級」の術語は１ないし４個の炭素原子
を表わす）であり、そしてR1およびR2はこれら
が結合する炭素原子と一緒になつて４ないし７
（４および７を含む）個の炭素原子を有するアル
キレンである〕。これらの化合物はハイン
（Heine）等によつてJ.Org.Chem.32，2708−10
（1967）中および米国特許第3609165号中に開示さ
れた方法によつて合成することができる。この発
明に対して最も好ましい化合物はジメチル誘導
体、即ち２，2′−ジメチル−６（ｐ−ニトロフエ
ニル）−４−フエニル−１，３−ジアザビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−３−エンである。好ましいアル
キレン誘導体はシクロヘキシルおよびシクロペン
チル誘導体を含む。 これらのアジリジンは電子ビームまたは紫外線
で照射する前は無色であるが、照射されるとその
中に含まれているR1およびR2基に応じて化合物
は種々の濃度の青色に変る。もしもそのような化
合物を暗黒の中に置けば、それらは再び無色にな
る；それ故色の変化は可逆性になる。その上、そ
れらは熱的にまたは可射光線で照射することによ
つて消色することが可能である。即ち、そのよう
な方法の使用によつてそれらの無色状態に逆戻り
するであろう。従つて、ホトクロミツクアジリジ
ンの無色の形態は電子ビームまたは紫外線で照射
したときに無色形態に変換させることができ、そ
して無色形態へ戻る可逆反応はアジリジンを可視
光線で照射したときに、または暗黒中に置いたと
きに、または熱的に起すことができる。 このことは次のように描くことができる： Ａ ｈν１ Ｂ 暗黒 ｈν２ Δ 但しＡは無色の形態を、Ｂは着色形態を表わし、
ν１は紫外線までに限定される輻射線周波数であ
り、そしてν２は可視光線までに限定される輻射
線周波数である。 酸素が存在しない場合には、熱的消色反応は実
質的に減少させることができ、そしてホトクロミ
ツク物質は暗黒−安定にすることができることが
ここに確かめられた、即ち Ａ ｈν１ Ｂ ｈν２ この現像を説明するために、ジメチル誘導体の蒸
着フイルムを石英支持体上に塗被しそして僅かに
濁つてくるまで24時間空気中に静置し、そして次
に照射して濃青色を発生させた。この試料を雰囲
気を管理しうる光学的容器中に入れた。 室温における窒素雰囲気下で、着色フイルムの
透過性光学濃度（620nmで測定して）は７日間本
質的に一定であつた；しかし、酸素を導入したと
きに、着色は急速に消色された。これらの結果は
第１図に示される。 別法として、同一の構成物フイルムを空気中で
使用し、但し60℃において、紫外線により照射す
るとフイルムは瞬間的に着色しそして次に極めて
急速に熱的に消色された。この着色−消色サイク
ルは６回繰返され、次いで雰囲気を空気から窒素
に変更し、なお温度は60℃に維持した。窒素雰囲
気中でフイルムを紫外線により照射すると安定な
着色を与えこれは180分以上に亘つて消色を示さ
なかつた。これらの驚くべき結果は第２図中に例
解される。 ホトクロミツク化合物に対する酸素雰囲気の結
果をさらに例解するために、濾紙条片を上式の種
種のアジリジンのベンゼン溶液で飽和させそして
乾かした。条片を次いで紫外線で照射して青色形
態を生じさせた。これらの照射させた条片の一組
を暗黒中で窒素雰囲気中に保ち、そして別の一組
を酸素雰囲気中に保つた。両方の組を室温で暗黒
中に保つた。当初の光学濃度の1/2が消色される
のに要した時間を目視により評価しそして第表
中に記録した。周期的読み取り中光線に対する試
料の照射を最小にするために非常に注意を払つ
た。
【表】
フエニル
しかし、窒素のような無作用雰囲気中において
さえ、当初は光学的に透明なアジリジン化合物の
薄い蒸着フイルムはある時間、例えば24時間後に
は濁りまたは曇るようになることがさらに測定さ
れた。そのような状態は化合物の結晶の成長に因
るものと信じられる。 当初光学的に透明なフイルムを付着後１時間以
内に走査電子顕微鏡で検査した。その結果得られ
た顕微鏡写真は非結晶性小山の均質な配列を示
し、その小山の基部の最長寸法は１マイクロメー
ターより小さかつた。同様の試料を窒素中で24時
間貯蔵しそして透明なフイルムから濁つたフイル
ムへと目に見える変化を受けた。濁つたフイルム
の走査顕微鏡写真は小山が実質的に成長しそして
小山の基部は不規則になつたことを示した。多く
の小山は一緒に結合して三つまたはそれ以上の頂
点を形成した。規則的な配列は本質的に消滅し
た。従つて、ホトクロミツク被膜の周辺を窒素、
アルゴン、ネオン、等無作用雰囲気に保つことは
着色形態の熱的消色を抑制するのに約立つが、し
かし当初の透明フイルムが濁つてくるのを防が
ず、これは像の分解能を減じるであろう。そのよ
うな状態は望ましいものではないけれども、その
ように濁つたフイルムでさえ像を造る媒体として
有用性がある。 薄いアジリジンフイルムの上に実質的に酸素を
透過しないフイルム形成遮断被膜を利用すること
によつて、像の安定性、即ち、熱消色に対する抵
抗、およびフイルムの透明性、即ち、像分解能
力、は効果的に維持されることが判明した。薄い
フイルムとしてホトクロミツクフイルムの上から
適用した実質的に酸素不透過性でありそしてアジ
リジンに対して無作用の、即ち結晶成長を防止す
る、ポリビニルアルコールまたはゼラチンのよう
な例示のそして望ましい物質は効果的な結晶成長
を妨げそしてまた消色を最小にするための酸素遮
断物として働く。例えばポリビニルアルコールで
塗被した像を造つたフイルムは１年を越える期間
その透明性と像の濃度を維持した。 アジリジンが溶剤溶液から単純に塗被される場
合には、乾燥した被膜は本来微晶であろう。明ら
かに、その瞬間には混濁、結晶成長、等は重要で
はない。 遮断被膜は化学線に対して適度に透過性であ
る、すなわち化学線がそこを通過するに十分に透
過性であるべきことはもちろんである。ホトクロ
ミツクアジリジンの結晶化従つて混濁を最小にす
るためには、アジリジン付着後可及的速やかにそ
して像を造る前に遮断塗被を施すべきである。 アジリジンの着色を引き起こす波長を選択する
ために遮断被膜に染料を加えることができる。例
えば、白熱室内照明からの背景着色を最小にする
ためにアリザリン黄染料をポリビニルアルコール
塗料に添加することができるが、しかしなお、例
えばヘリウム−カドミウムレーザーからの325nm
線によつて像を造ることが可能である。 湿分はポリビニルアルコールの酸素遮断性質に
逆効果を与えるであろうから実際の記録器におい
ては輌射線透過性で湿気遮断物例えば塩化ビニリ
デンと塩化ビニルのコポリマーのフイルムを協同
させてその物品と密接に接触させるかまたはそれ
を取囲むことが望ましいであろう。 高分解能像を造るための蒸着の場合には、その
上にホトクロミツクアジリジンが凝縮するための
受容支持体の温度は決定的である。もしも支持体
が冷たすぎるかまたは暖かすぎる場合には、不均
斉な被膜が付着しそして薄いアジリジンフイルム
は濁つておよび／またはしみだらけに見えるであ
ろう。これに反して、もしも受容支持体の温度が
約−120゜ないし−140℃である場合には、透明
な、均斉な被膜が得られる。 しみだらけフイルムの走査電子顕微鏡による
100倍率拡大検査によればアジリジンは島の形で
付着することを示した。清澄な透明フイルムおよ
び濁つたフイルムを7000倍ないし10000倍の拡大
で走査顕微鏡でさらに検査した。清澄で透明なフ
イルムは粒状化しない小山の均斉配置を例示し
た。小山の間の谷は小山の部分と比べると最小の
面積であつた；そして小山の最長寸法は１μｍよ
りも小さかつた。フイルムの厚味は約0.6μｍで
あつた。小山は円い頂部を有していたが、小山の
基部は必ずしも円くはなかつた。あるものは卵
形、長円形および幾分不規則に見えたが、しかし
それらは大部分は円形であつた。 濁つたフイルムの走査顕微鏡写真は同様の小山
構造を示した、しかし小山は一緒に成長して明ら
かに樹枝状構造を示した。樹枝状構造は10ないし
12マイクロメーターまたはそれ以上の枝を持つた
であろう。 濁つたおよび／またはしみだらけに見える外観
は光の散乱を与え従つてそのようなフイルムでは
像の分解能に著しい減少を来たす。これに反し
て、清澄な透明フイルムは最小の光散乱と像の高
い分解能を与える。 下表は示された昇華条件を含み、その際物質は
石英の顕微鏡スライド上に付着させられる。第
表中には、ジメチルアジリジン誘導体、即ち、そ
の際R1＝R2＝CH3のものを用いた。第表に対
してはR1＝ＨおよびR2＝ｎ−C3H7のアジリジン
を用いた。第表には、R1＋R2＝シクロヘキシ
ルのアジリジンを用いた。
しかし、窒素のような無作用雰囲気中において
さえ、当初は光学的に透明なアジリジン化合物の
薄い蒸着フイルムはある時間、例えば24時間後に
は濁りまたは曇るようになることがさらに測定さ
れた。そのような状態は化合物の結晶の成長に因
るものと信じられる。 当初光学的に透明なフイルムを付着後１時間以
内に走査電子顕微鏡で検査した。その結果得られ
た顕微鏡写真は非結晶性小山の均質な配列を示
し、その小山の基部の最長寸法は１マイクロメー
ターより小さかつた。同様の試料を窒素中で24時
間貯蔵しそして透明なフイルムから濁つたフイル
ムへと目に見える変化を受けた。濁つたフイルム
の走査顕微鏡写真は小山が実質的に成長しそして
小山の基部は不規則になつたことを示した。多く
の小山は一緒に結合して三つまたはそれ以上の頂
点を形成した。規則的な配列は本質的に消滅し
た。従つて、ホトクロミツク被膜の周辺を窒素、
アルゴン、ネオン、等無作用雰囲気に保つことは
着色形態の熱的消色を抑制するのに約立つが、し
かし当初の透明フイルムが濁つてくるのを防が
ず、これは像の分解能を減じるであろう。そのよ
うな状態は望ましいものではないけれども、その
ように濁つたフイルムでさえ像を造る媒体として
有用性がある。 薄いアジリジンフイルムの上に実質的に酸素を
透過しないフイルム形成遮断被膜を利用すること
によつて、像の安定性、即ち、熱消色に対する抵
抗、およびフイルムの透明性、即ち、像分解能
力、は効果的に維持されることが判明した。薄い
フイルムとしてホトクロミツクフイルムの上から
適用した実質的に酸素不透過性でありそしてアジ
リジンに対して無作用の、即ち結晶成長を防止す
る、ポリビニルアルコールまたはゼラチンのよう
な例示のそして望ましい物質は効果的な結晶成長
を妨げそしてまた消色を最小にするための酸素遮
断物として働く。例えばポリビニルアルコールで
塗被した像を造つたフイルムは１年を越える期間
その透明性と像の濃度を維持した。 アジリジンが溶剤溶液から単純に塗被される場
合には、乾燥した被膜は本来微晶であろう。明ら
かに、その瞬間には混濁、結晶成長、等は重要で
はない。 遮断被膜は化学線に対して適度に透過性であ
る、すなわち化学線がそこを通過するに十分に透
過性であるべきことはもちろんである。ホトクロ
ミツクアジリジンの結晶化従つて混濁を最小にす
るためには、アジリジン付着後可及的速やかにそ
して像を造る前に遮断塗被を施すべきである。 アジリジンの着色を引き起こす波長を選択する
ために遮断被膜に染料を加えることができる。例
えば、白熱室内照明からの背景着色を最小にする
ためにアリザリン黄染料をポリビニルアルコール
塗料に添加することができるが、しかしなお、例
えばヘリウム−カドミウムレーザーからの325nm
線によつて像を造ることが可能である。 湿分はポリビニルアルコールの酸素遮断性質に
逆効果を与えるであろうから実際の記録器におい
ては輌射線透過性で湿気遮断物例えば塩化ビニリ
デンと塩化ビニルのコポリマーのフイルムを協同
させてその物品と密接に接触させるかまたはそれ
を取囲むことが望ましいであろう。 高分解能像を造るための蒸着の場合には、その
上にホトクロミツクアジリジンが凝縮するための
受容支持体の温度は決定的である。もしも支持体
が冷たすぎるかまたは暖かすぎる場合には、不均
斉な被膜が付着しそして薄いアジリジンフイルム
は濁つておよび／またはしみだらけに見えるであ
ろう。これに反して、もしも受容支持体の温度が
約−120゜ないし−140℃である場合には、透明
な、均斉な被膜が得られる。 しみだらけフイルムの走査電子顕微鏡による
100倍率拡大検査によればアジリジンは島の形で
付着することを示した。清澄な透明フイルムおよ
び濁つたフイルムを7000倍ないし10000倍の拡大
で走査顕微鏡でさらに検査した。清澄で透明なフ
イルムは粒状化しない小山の均斉配置を例示し
た。小山の間の谷は小山の部分と比べると最小の
面積であつた；そして小山の最長寸法は１μｍよ
りも小さかつた。フイルムの厚味は約0.6μｍで
あつた。小山は円い頂部を有していたが、小山の
基部は必ずしも円くはなかつた。あるものは卵
形、長円形および幾分不規則に見えたが、しかし
それらは大部分は円形であつた。 濁つたフイルムの走査顕微鏡写真は同様の小山
構造を示した、しかし小山は一緒に成長して明ら
かに樹枝状構造を示した。樹枝状構造は10ないし
12マイクロメーターまたはそれ以上の枝を持つた
であろう。 濁つたおよび／またはしみだらけに見える外観
は光の散乱を与え従つてそのようなフイルムでは
像の分解能に著しい減少を来たす。これに反し
て、清澄な透明フイルムは最小の光散乱と像の高
い分解能を与える。 下表は示された昇華条件を含み、その際物質は
石英の顕微鏡スライド上に付着させられる。第
表中には、ジメチルアジリジン誘導体、即ち、そ
の際R1＝R2＝CH3のものを用いた。第表に対
してはR1＝ＨおよびR2＝ｎ−C3H7のアジリジン
を用いた。第表には、R1＋R2＝シクロヘキシ
ルのアジリジンを用いた。
【表】
つた樹枝状構造が支
配的である。
配的である。
【表】
【表】
【表】
接着せず
前掲の諸表から、中間物の凝縮温度は、少なく
ともジメチル誘導体を用いる場合には望ましくは
約−120℃ないし約−140℃の範囲に現われるもの
と思われる。この凝縮温度は第および表中に
示されるように、フイルムを形成するために用い
る個々のアジリジンに応じて幾分変化するであろ
う。 記録用媒体を造るのに蒸着を必要としない場合
には、アジリジンは単に有機溶剤、例えばベンゼ
ン中に、均質な微結晶被膜を与えるのに十分な濃
度で溶かし、支持体表面に適用し、そして乾か
す。この場合には多孔質支持体、例えば紙上の着
色を極大にするために飽和溶液を使用することが
望ましい。次いで、フイルム−形成酸素遮断物質
を微結晶アジリジン層の上に一回の塗被操作でま
たは、望ましくは像の安定性を極大にするために
多重塗被によつて塗被することができる。 別法として、硝酸セルロース、ポリアクリロニ
トリル、ポリビニルアルコール等のようなフイル
ム−形成結合物質を伴つた分散物からアジリジン
を塗被することができる。この場合には、本発明
における機能を果すためにアジリジンは支持体上
で微結晶形であることが肝要であつて、従つて結
合剤物質はその中にアジリジンが可溶なものは避
けるべきである。分散物中の粒状アジリジンの濃
度は支持体上に均質な微結晶アジリジン被膜を与
えるのに十分なものでなければならない。 この後者の場合、別の酸素遮断保護被膜は不必
要になつてくるので、それ自身が酸素を実質的に
透過しないフイルム−形成結合物質、例えば、ポ
リビニルアルコールを用いることが望ましい。 本発明において使用する受容支持体は可撓性ま
たは剛性であつてよく、そして反射性、不透明、
または透明であつてよく、そして単なる溶液塗被
の場合には多孔質も同様によい。ガラス、石英、
ポリカルボジイミド−下塗りのポリエステルフイ
ルム、酸化錫−塗被石英およびガラス、およびア
ルミニウムを蒸着させたポリエステルのようなア
ジリジン−塗被支持体上に良質の像を生じさせる
ことができる。支持体表面の物理的性質はもちろ
ん、薄いホトクロミツクフイルムの組織に影響を
与えるであろう。もしも、例えば、粗い研磨きず
のある石英支持体上に蒸着を企図する場合には、
そのような研磨に基づく細縞がフイルム上に明ら
かに観察される。 比較的低強度の紫外線照射によつて読みやすい
像が生じる。例えば、ジメチル誘導体を用いる場
合、約10ないし約20ミリジユール／cm2（325nm
で）の範囲の照射は優れた分解能を有する像を生
じるであろう。５ミリジユール／cm2もの低い照射
によつて読みやすい像が得られる。 支持体としてコダツク（Kodak）KTFRフオト
レジスト（photoresist）および電子ビームレジ
スト、例えばエポキシド化ポリブタジエンおよび
ポリメチルメタクリレートを使用してホトクロミ
ツク記録媒体の試料を造つた。これらの支持体は
ホトクロミツクアジリジンを単に蒸着塗被しそし
て引続きポリビニルアルコールで保護塗被した。
この構造は、例えば、誤り−訂正コードを記録す
る必要のある録画デイスク原型のような物品を作
る場合の情報の「記録−後−読む」即時検査を可
能にする。この構造はまた最終浮彫り像の現像前
の石版刷および印刷版における像の質を検査する
のに有用である。アジリジンおよびポリビニルア
ルコール層は検査工程に引続いて未重合耐蝕膜物
質と一緒に単純に除去することができる。 本発明の実体を下記の非限定的実施例の助けを
借りてここでより特別に記載するが、そこでは別
記しない限り総ての部は重量による。総ての場
合、ホトクロミツクフイルムの調製は無関係の紫
外線照射を除くために黄色安全光を取付けた実験
室内で行つた。 昇華はガラス製実験室用装置内で行つた。この
装置は肉厚の外部の部屋で三方コツクを通して真
空ポンプまたは乾燥窒素または空気管路に接続す
ることができる。この室の内部にはその内壁を通
して冷乾燥窒素を通すことにより冷却することが
できる取外し可能の冷触手がある。冷触手の温度
は熱電対で測つた。昇華させるべき試料は外部の
室の底に置きそして熱的接触を極大にするように
支持体を冷触手に密着させるように付着させた。 実施例 １ 少量（0.25ｇ）の２，2′−ジメチル−６（ｐ−
ニトロフエニル）−４−フエニル−１，３−ジア
ザビシクロ〔3.1.0〕ヘキス−３−エンを昇華装
置の底に置いた。清浄な２mm厚味の石英支持体を
導電性接着テープによつて昇華管の平らな冷触手
に固く付着させた。装置を組立てそして約0.15ト
ルに排気した。排気ガスの温度が約−130℃で安
定するまで冷触手のジヤケツトを通して冷窒素ガ
スを通過させた。この時点で、熱油浴（140℃）
を用いてアジリジンを暖めそして石英支持体に向
けて昇華させた。 これらの条件の下で、透明なアジリジンフイル
ムが約0.6ミクロンの厚さに２分間で付着した。
油浴を取除きそして冷窒素管路を室温圧縮空気管
路と交換して冷触手を急速に室温にまで暖めた。
その時点で空気を室内に入れそしてアジリジン−
フイルムを着けた支持体を取外した。それは光学
的に清澄であつた。次いで支持体を直ちに４重量
％ポリビニルアルコール水溶液に浸漬させて酸素
遮断層を与えそしてホトクロミツクアジリジンの
それ以上の結晶成長を防いだ。次いで支持体を乾
かしそして全面積に亘つて均質な塗被を保証する
ために再浸漬した。 新に付着したアジリジンフイルム（ポリビニル
アルコールで塗被する前）の電子顕微鏡写真はこ
れらが典型的に約0.6ミクロンの厚さであり、そ
して均質構造であることを示している。空気また
は窒素中に放置してあつたフイルム（ポリビニル
アルコールの保護塗被のない）は24時間以内に光
学的清澄から混濁に変化する。写真のネガを使用
して試料を密着焼付けをした場合シルバニア
F4T5／BLB暗光から15ミリジユール／cm2を使用
して無色透明背景上に明澄な鋭い青い像が得られ
た。露光に続いて試料を室温において空気中に暗
所に貯蔵した。一年の期間に亘つて像の忠実度は
実質的に残存した。僅かにポリビニルアルコール
塗被の厚みが減少する試料の端部で、または塗被
汚点において像は消色された。 上に記載したようにして同様のアジリジン−フ
イルムを造つた支持体に像を造つた。次いで像を
造つた支持体を光不透過箱に入れたが、この箱に
は紫外線遮断−可視透過フイルター（コダツク
CS−３−69）で作つた窓を有していた。板を入
れた箱を約1/2時間日光中に置いた。続いて暗室
中で黄色光の下で箱を開いた。像は完全に消色さ
れた、即ち消滅した。板を前に記したようにして
紫外線に再露出しそして再び清澄な鋭い像を得
た。仮像（ghost）は検出されなかつた。この方
法は得られる像の質に認めうる程の損失なしに何
回も繰返すことができた。 アジリジン−フイルム形成石英板の分解能を定
常波格子を記録し次いで読み取ることにより測定
した。黄色安全光の下で、ヘリウム−カドミウム
レーザーの325nm線からの干渉する二つの伸張ビ
ーム（expanded beam）により縞模様を形成し
た。試料を17ミリジユール／cm2に露出した。１mm
につき1020線の対の像が記録された。この格子が
記録された事実はヘリウム−ネオンレーザービー
ム（633nm）を像を造つた試料に通過させそして
Ｏ級（zero order）のビームから回折した点を観
察して確かめた。第１級ビームの強さ対Ｏ級ビー
ムの強さの比は0.4％であつた。 ポリビニルアルコール−塗被アジリジン−フイ
ルムを付着した石英板の反応時間は10ナノ秒UV
−窒素レーザーパルス（345nm）に露出後の時間
の関数として633nmにおけるその透過率の変化を
測定して決定した。１ミリジユールレーザーパル
ス（25ミリジユール／cm2）に対する反応時間は測
定を行うために使用した光電子増倍管の200ナノ
秒反応時間よりも少なかつた。試料は200ナノ秒
よりも少なく着色することが判つた。 露出された青色形態の熱安定性は二つの実験に
おいて決定した。第一の実験で、アジリジンのフ
イルムを着けた支持体を特殊の光学用試料室に入
れそして空気中で52℃に保つた。キセノン光源に
よる紫外線照射の後620nmピークの吸収を時間の
関数として監視した。試料は60分の間に何等検出
しうる程の変化を示さなかつた。ポリビニルアル
コール遮断塗被を施さないフイルムは30分以内に
完全に消色された。 第二の実験において、試料の一つに像を造りそ
して次に暗室中に室温において１年間貯蔵した。
遮断層が薄かつた試料の端部においてだけで、そ
の他には認めうる熱的消色は何等なかつた。 赤色（633nm）光線の消色作用によつて露出さ
せたポリビニルアルコール塗被ホトクロミツクア
ジリジンフイルムの光学的消色速度の測定を行つ
た。予め露出させた（青色）試料をヘリウム−ネ
オンレーザーからの伸張ビーム通路に置いた。試
料平面におけるそのビームの強さをガンマ サイ
エンチフイツク820A光度計で測定した。フイル
ム上に入射するビームの小部分およびフイルムか
ら出るビームはビームスプリツターの方法による
試料であつた。従つて、そのブームの透過率の変
化は試料が消色されるのに追随できた。試料の透
過光学濃度の0.65から0.325の濃度に消色するの
におよそ350ミリジユール／cm2の露光が必要であ
つた。 実施例 ２ 二つの清浄な２mm厚味の石英支持体に実施例１
に記したようにして２，2′ジメチル−６−（ｐ−
ニトロフエニル）−４−フエニル−１，３−ジア
ザビシクロ〔3.1.0〕ヘキス−３−エンを塗被し
た。塗被した支持体を直ちにポリビニルアルコー
ルの４重量％水溶液中に浸漬しそして乾かした。
ポリビニルアルコール塗被手順は数回繰り返して
約２μｍの厚さの乾燥ポリビニルアルコール塗被
物を与えた。 一試料を26KVの加速電圧、10マイクロアンペ
アのビーム電流および2.88cm2のビーム面積（21ミ
リジユール／cm2）を有する電子ビームに0.232秒
露出（真空中で）させた。試料は消去しうる像を
発色させたがこれは透過光学濃度約0.5を有して
いた。第二の試料に165KVの加速電圧、５ミリア
ンペアのビーム電流および225cm2のビーム面積
（7.3ジユール／cm2）を有する電子ビームの２秒の
露出（真空中で）を与えた。高良質の像が得られ
これは可視光線に露光すると消去が可能であつ
た。 実施例 ３ ２，2′−ジメチル−６（ｐ−ニトロフエニル）
−４−フエニル−１，３−ジアザビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−３−エンの飽和ベンゼン溶液中
に濾紙の条片を浸漬しそして乾かした。得られた
条片は引続きポリビニルアルコールの４重量％水
溶液中に浸漬して塗被しそして熱銃で乾かした。
条片の一つをポリビニルアルコールに浸しそして
乾燥を１回行い、別の条片は３回そしてさらに別
のは５回行つた。これらの条片および未塗被条片
をシルバニアF4T5／BLB暗光からの紫外線照射
に露出させた約0.90の反射光学濃度にもたらし次
いで空気中で暗室で50℃の濾中に貯えた。第二の
組は暗所の空気中で０℃の冷蔵庫中に貯えた。
種々の時間間隔で試料を取り出しそして反射光学
濃度測定を行つた。これらの測定結果を次の第
および表中に示す。
前掲の諸表から、中間物の凝縮温度は、少なく
ともジメチル誘導体を用いる場合には望ましくは
約−120℃ないし約−140℃の範囲に現われるもの
と思われる。この凝縮温度は第および表中に
示されるように、フイルムを形成するために用い
る個々のアジリジンに応じて幾分変化するであろ
う。 記録用媒体を造るのに蒸着を必要としない場合
には、アジリジンは単に有機溶剤、例えばベンゼ
ン中に、均質な微結晶被膜を与えるのに十分な濃
度で溶かし、支持体表面に適用し、そして乾か
す。この場合には多孔質支持体、例えば紙上の着
色を極大にするために飽和溶液を使用することが
望ましい。次いで、フイルム−形成酸素遮断物質
を微結晶アジリジン層の上に一回の塗被操作でま
たは、望ましくは像の安定性を極大にするために
多重塗被によつて塗被することができる。 別法として、硝酸セルロース、ポリアクリロニ
トリル、ポリビニルアルコール等のようなフイル
ム−形成結合物質を伴つた分散物からアジリジン
を塗被することができる。この場合には、本発明
における機能を果すためにアジリジンは支持体上
で微結晶形であることが肝要であつて、従つて結
合剤物質はその中にアジリジンが可溶なものは避
けるべきである。分散物中の粒状アジリジンの濃
度は支持体上に均質な微結晶アジリジン被膜を与
えるのに十分なものでなければならない。 この後者の場合、別の酸素遮断保護被膜は不必
要になつてくるので、それ自身が酸素を実質的に
透過しないフイルム−形成結合物質、例えば、ポ
リビニルアルコールを用いることが望ましい。 本発明において使用する受容支持体は可撓性ま
たは剛性であつてよく、そして反射性、不透明、
または透明であつてよく、そして単なる溶液塗被
の場合には多孔質も同様によい。ガラス、石英、
ポリカルボジイミド−下塗りのポリエステルフイ
ルム、酸化錫−塗被石英およびガラス、およびア
ルミニウムを蒸着させたポリエステルのようなア
ジリジン−塗被支持体上に良質の像を生じさせる
ことができる。支持体表面の物理的性質はもちろ
ん、薄いホトクロミツクフイルムの組織に影響を
与えるであろう。もしも、例えば、粗い研磨きず
のある石英支持体上に蒸着を企図する場合には、
そのような研磨に基づく細縞がフイルム上に明ら
かに観察される。 比較的低強度の紫外線照射によつて読みやすい
像が生じる。例えば、ジメチル誘導体を用いる場
合、約10ないし約20ミリジユール／cm2（325nm
で）の範囲の照射は優れた分解能を有する像を生
じるであろう。５ミリジユール／cm2もの低い照射
によつて読みやすい像が得られる。 支持体としてコダツク（Kodak）KTFRフオト
レジスト（photoresist）および電子ビームレジ
スト、例えばエポキシド化ポリブタジエンおよび
ポリメチルメタクリレートを使用してホトクロミ
ツク記録媒体の試料を造つた。これらの支持体は
ホトクロミツクアジリジンを単に蒸着塗被しそし
て引続きポリビニルアルコールで保護塗被した。
この構造は、例えば、誤り−訂正コードを記録す
る必要のある録画デイスク原型のような物品を作
る場合の情報の「記録−後−読む」即時検査を可
能にする。この構造はまた最終浮彫り像の現像前
の石版刷および印刷版における像の質を検査する
のに有用である。アジリジンおよびポリビニルア
ルコール層は検査工程に引続いて未重合耐蝕膜物
質と一緒に単純に除去することができる。 本発明の実体を下記の非限定的実施例の助けを
借りてここでより特別に記載するが、そこでは別
記しない限り総ての部は重量による。総ての場
合、ホトクロミツクフイルムの調製は無関係の紫
外線照射を除くために黄色安全光を取付けた実験
室内で行つた。 昇華はガラス製実験室用装置内で行つた。この
装置は肉厚の外部の部屋で三方コツクを通して真
空ポンプまたは乾燥窒素または空気管路に接続す
ることができる。この室の内部にはその内壁を通
して冷乾燥窒素を通すことにより冷却することが
できる取外し可能の冷触手がある。冷触手の温度
は熱電対で測つた。昇華させるべき試料は外部の
室の底に置きそして熱的接触を極大にするように
支持体を冷触手に密着させるように付着させた。 実施例 １ 少量（0.25ｇ）の２，2′−ジメチル−６（ｐ−
ニトロフエニル）−４−フエニル−１，３−ジア
ザビシクロ〔3.1.0〕ヘキス−３−エンを昇華装
置の底に置いた。清浄な２mm厚味の石英支持体を
導電性接着テープによつて昇華管の平らな冷触手
に固く付着させた。装置を組立てそして約0.15ト
ルに排気した。排気ガスの温度が約−130℃で安
定するまで冷触手のジヤケツトを通して冷窒素ガ
スを通過させた。この時点で、熱油浴（140℃）
を用いてアジリジンを暖めそして石英支持体に向
けて昇華させた。 これらの条件の下で、透明なアジリジンフイル
ムが約0.6ミクロンの厚さに２分間で付着した。
油浴を取除きそして冷窒素管路を室温圧縮空気管
路と交換して冷触手を急速に室温にまで暖めた。
その時点で空気を室内に入れそしてアジリジン−
フイルムを着けた支持体を取外した。それは光学
的に清澄であつた。次いで支持体を直ちに４重量
％ポリビニルアルコール水溶液に浸漬させて酸素
遮断層を与えそしてホトクロミツクアジリジンの
それ以上の結晶成長を防いだ。次いで支持体を乾
かしそして全面積に亘つて均質な塗被を保証する
ために再浸漬した。 新に付着したアジリジンフイルム（ポリビニル
アルコールで塗被する前）の電子顕微鏡写真はこ
れらが典型的に約0.6ミクロンの厚さであり、そ
して均質構造であることを示している。空気また
は窒素中に放置してあつたフイルム（ポリビニル
アルコールの保護塗被のない）は24時間以内に光
学的清澄から混濁に変化する。写真のネガを使用
して試料を密着焼付けをした場合シルバニア
F4T5／BLB暗光から15ミリジユール／cm2を使用
して無色透明背景上に明澄な鋭い青い像が得られ
た。露光に続いて試料を室温において空気中に暗
所に貯蔵した。一年の期間に亘つて像の忠実度は
実質的に残存した。僅かにポリビニルアルコール
塗被の厚みが減少する試料の端部で、または塗被
汚点において像は消色された。 上に記載したようにして同様のアジリジン−フ
イルムを造つた支持体に像を造つた。次いで像を
造つた支持体を光不透過箱に入れたが、この箱に
は紫外線遮断−可視透過フイルター（コダツク
CS−３−69）で作つた窓を有していた。板を入
れた箱を約1/2時間日光中に置いた。続いて暗室
中で黄色光の下で箱を開いた。像は完全に消色さ
れた、即ち消滅した。板を前に記したようにして
紫外線に再露出しそして再び清澄な鋭い像を得
た。仮像（ghost）は検出されなかつた。この方
法は得られる像の質に認めうる程の損失なしに何
回も繰返すことができた。 アジリジン−フイルム形成石英板の分解能を定
常波格子を記録し次いで読み取ることにより測定
した。黄色安全光の下で、ヘリウム−カドミウム
レーザーの325nm線からの干渉する二つの伸張ビ
ーム（expanded beam）により縞模様を形成し
た。試料を17ミリジユール／cm2に露出した。１mm
につき1020線の対の像が記録された。この格子が
記録された事実はヘリウム−ネオンレーザービー
ム（633nm）を像を造つた試料に通過させそして
Ｏ級（zero order）のビームから回折した点を観
察して確かめた。第１級ビームの強さ対Ｏ級ビー
ムの強さの比は0.4％であつた。 ポリビニルアルコール−塗被アジリジン−フイ
ルムを付着した石英板の反応時間は10ナノ秒UV
−窒素レーザーパルス（345nm）に露出後の時間
の関数として633nmにおけるその透過率の変化を
測定して決定した。１ミリジユールレーザーパル
ス（25ミリジユール／cm2）に対する反応時間は測
定を行うために使用した光電子増倍管の200ナノ
秒反応時間よりも少なかつた。試料は200ナノ秒
よりも少なく着色することが判つた。 露出された青色形態の熱安定性は二つの実験に
おいて決定した。第一の実験で、アジリジンのフ
イルムを着けた支持体を特殊の光学用試料室に入
れそして空気中で52℃に保つた。キセノン光源に
よる紫外線照射の後620nmピークの吸収を時間の
関数として監視した。試料は60分の間に何等検出
しうる程の変化を示さなかつた。ポリビニルアル
コール遮断塗被を施さないフイルムは30分以内に
完全に消色された。 第二の実験において、試料の一つに像を造りそ
して次に暗室中に室温において１年間貯蔵した。
遮断層が薄かつた試料の端部においてだけで、そ
の他には認めうる熱的消色は何等なかつた。 赤色（633nm）光線の消色作用によつて露出さ
せたポリビニルアルコール塗被ホトクロミツクア
ジリジンフイルムの光学的消色速度の測定を行つ
た。予め露出させた（青色）試料をヘリウム−ネ
オンレーザーからの伸張ビーム通路に置いた。試
料平面におけるそのビームの強さをガンマ サイ
エンチフイツク820A光度計で測定した。フイル
ム上に入射するビームの小部分およびフイルムか
ら出るビームはビームスプリツターの方法による
試料であつた。従つて、そのブームの透過率の変
化は試料が消色されるのに追随できた。試料の透
過光学濃度の0.65から0.325の濃度に消色するの
におよそ350ミリジユール／cm2の露光が必要であ
つた。 実施例 ２ 二つの清浄な２mm厚味の石英支持体に実施例１
に記したようにして２，2′ジメチル−６−（ｐ−
ニトロフエニル）−４−フエニル−１，３−ジア
ザビシクロ〔3.1.0〕ヘキス−３−エンを塗被し
た。塗被した支持体を直ちにポリビニルアルコー
ルの４重量％水溶液中に浸漬しそして乾かした。
ポリビニルアルコール塗被手順は数回繰り返して
約２μｍの厚さの乾燥ポリビニルアルコール塗被
物を与えた。 一試料を26KVの加速電圧、10マイクロアンペ
アのビーム電流および2.88cm2のビーム面積（21ミ
リジユール／cm2）を有する電子ビームに0.232秒
露出（真空中で）させた。試料は消去しうる像を
発色させたがこれは透過光学濃度約0.5を有して
いた。第二の試料に165KVの加速電圧、５ミリア
ンペアのビーム電流および225cm2のビーム面積
（7.3ジユール／cm2）を有する電子ビームの２秒の
露出（真空中で）を与えた。高良質の像が得られ
これは可視光線に露光すると消去が可能であつ
た。 実施例 ３ ２，2′−ジメチル−６（ｐ−ニトロフエニル）
−４−フエニル−１，３−ジアザビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−３−エンの飽和ベンゼン溶液中
に濾紙の条片を浸漬しそして乾かした。得られた
条片は引続きポリビニルアルコールの４重量％水
溶液中に浸漬して塗被しそして熱銃で乾かした。
条片の一つをポリビニルアルコールに浸しそして
乾燥を１回行い、別の条片は３回そしてさらに別
のは５回行つた。これらの条片および未塗被条片
をシルバニアF4T5／BLB暗光からの紫外線照射
に露出させた約0.90の反射光学濃度にもたらし次
いで空気中で暗室で50℃の濾中に貯えた。第二の
組は暗所の空気中で０℃の冷蔵庫中に貯えた。
種々の時間間隔で試料を取り出しそして反射光学
濃度測定を行つた。これらの測定結果を次の第
および表中に示す。
【表】
【表】
この実験の終に試料を100ワツトの黄色ゼネラ
ルエレクトリツクの「バグ ライト（Bug
Lite）」に６インチの距離から1/2時間露出して光
学的に消色した。試料に再度像を造らせたところ
明らかな感度の損失は認められず、また仮像模様
も存在しなかつた。 実施例 ４ ２，2′−ジメチル−６（ｐ−ニトロフエニル）
−４−フエニル−１，３−ジアザビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−３−エンの試料1.0ｇを乳鉢と乳
棒を用いて微細粒に磨砕した。ポリビニルアルコ
ールの４重量％水溶液の10ｇをアジリジンに加え
次いで混合物を数分間磨砕して均質分散物を得
た。分散物を刷毛で白色厚紙に適用しそして熱銃
で乾かした。浸漬および乾燥をさらに３回反復し
てアジリジンを空気から完全に封鎖した。 この媒体を次に「コライト（Colite）」露出装
置中で水銀灯に５秒間露出してネガから密着印刷
した。白色背景上に清澄な鋭い青色像を生じた。
この線は黄色白熱灯のゼネラルエレクトリツク
「バツグ ライト」に６インチの距離で1/2時間露
出させて消色してしまつた。それに再び像を造つ
たときに、そこには何らの仮像も生ぜずまたは明
らかな感度の損失もなかつた。この像を造つた試
料を一週間に亘つて暗所に貯蔵したが像の劣化は
なかつた。 この試料は第二の部分をポリビニルアルコール
の４重量％水溶液の25ml中に溶かした0.15ｇのア
リザリン黄染料の溶液に２回浸漬塗被および乾燥
を繰り返した。この試料をネガを通して「コライ
ト」装置に60秒間露出した。黄色背景上に鋭い緑
色像を得た。この像中の背景は頭上の「冷白色」
蛍光灯に30分露出した後に僅かに出てきた。 アジリジンを輻射線の監視に使う場合には、監
視すべき輻射の特性のみをアジリジン化合物に到
達させるようにアジリジン化合物と化学線源との
間に濾過手段を配置する。少なくとも一つの色標
準を用意しこれによつてアジリジン化合物によつ
て発色した色を比較する。望ましい実施態様にお
いては、色標準は、例えば支持体の背景色のよう
にアジリジン化合物から切り離す。アジリジン化
合物によつて発色した色が特定の色に合つた場合
には、使用者は予め選定した輻射線曝露量に達し
たことを知らされる。 特定のアジリジンに色標準の色の発生を引き起
させる輻射線量は試料平面において露出計により
ランプの出力の強さと露出時間を測定することに
よつて正確に決定することが可能である。強さと
露出時間の積は露出（例えばジユール／cm2）を与
える。パツチ（patch）の色と色標準時間の目視
による合致を「終点」と規定する。与えられた参
照色について一つの特殊アジリジンの数個の異に
したパツチを使用してよい。各パツチはアジリジ
ン化合物が露出される輻射線量を減衰するために
異なつたフイルターによつて覆うことができる。
このようにして、使用者が各パツチを参照色と合
致するように着色させるために必要な輻射線量に
ついて知らされるように各パツチは検定される。
別法として、特定のアジリジンを数個の別の標準
と色合わせすることができる。再び、合わせた色
は別の予め検定した露出を表わすであろう。しか
し、単一の色標準を使用することが望ましい。 一つ以上の別のアジリジン化合物のパツチが存
在しそしてパツチが監視されるべき化学線に対し
て異なる感度を有する場合には（異なる強さの減
衰層でパツチの上に層を重ねて）、別々の色標準
は必要ではない。そのような監視器においてはア
ジリジンパツチそれ自身は使用者に対して予め決
められた輻射線量に達したことを警告するための
比較の手段として役に立つことができる。各ホト
クロミツクアジリジンの飽和（可能な限りの最濃
厚青色）時における光学密度は比較的一定である
から、飽和したパツチは別の不飽和パツチに対し
て色標準として使うことができる。最小に減衰す
るフイルターを持つパツチは最初に飽和に達し、
そして最大に減衰するフイルターは最後に飽和に
達するであろう。このように、光度検定によつて
飽和のための露光量は各パツチに対して決定する
ことが可能である。従つて、一連のパツチを含む
監視器を使用することが可能であつて、これはあ
る中間水準において予め決定した露光の臨界水準
を含む。例えば、もしも許容しうる８時間照射線
量が3.0ミリジユール／cm2である場合には、1.0，
2.0，3.0，4.0および5.0ミリジユール／cm2で飽和
に達するパツチを有する監視器を使うことができ
る。第一のパツチが発色しそして第一に飽和に達
し、そして次に第二が先例通りになる。この時点
で使用者は２ミリジユール／cm2に露出したことに
なる。第三のパツチは青くなりつつありそして第
四のパツチはより薄い青になる。ある場合には第
三パツチが第一および第二パツチと同一の色にな
る前に、使用者は許容限度まで露出するのを避け
るために化学線区域を残すべきである。 このような監視器は乾癬（psoriasis）の処置
において特に有用であつて、そこでは患者は光活
性薬剤を受けそして定期的に紫外線で照射され
る。パリツシユ（Parrish）等によるニユーイン
グランド ジヤーナル オブ メジシン291，
1207−11（1974）中の論文で乾癬の光学的治療を
記載している。患者はまず経口または局所投薬に
よつて光活性薬剤（例えば８−メトキシプソラレ
ン）で手当され、続いて特殊の化学線で照射す
る。一般に、320ないし390ナノメーターの範囲の
近紫外線照射が用いられる。必要な照射量は約１
と20ジユール／cm2の間に変化しそして患者の許容
限度および薬剤に対する反応によつて決まる。こ
の方法は当初の集中的治療段階から引続く長期間
の持続計画を含むものと期待される。患者各人に
ついて当初治療の許容限度と効果を決定するため
に「力価測定」される。治療において利用する
UV照射量は光活性薬剤の効能と紅斑のような有
毒反応の極小化の両方で臨界的であるため、輻射
線照射の正確な監視は重要である。 現在、放射線量を監視するために高価な電子積
算装置が利用されそして開発されている。廉価
で、加工が容易で、信頼性がありそして再使用が
可能な本発明の監視器はこの治療法に使用するの
に好適である。 この監視器は太陽照射監視用としてもまた用い
ることができるが、この用途に対しては陽光中に
存在する大量の可視光線による消色を防ぐために
追加のフイルターを加えることが望ましい。この
器具は日光浴者または陽光照射に対する過敏性の
人々によつて使われ、そしてアジリジン化合物の
色の適度の変化は紅斑発生光線の照射量を示す。
監視器はまた据付けたパネルの色の変化速度を比
較することにより太陽光線集光パネルの必要な調
整を示すのに使つてもよい。 本発明に使われるホトクロミツクアジリジンは
約450ナノメーターもの外方までの化学線に感応
するので；適当したフイルターを伴つたこのよう
な器具は植物によつて受とられる照射量を監視す
るのに使用可能である。435ナノメーター（青）
周辺の累積照射が無色から青への変化によつて示
され、そして選択的に675ナノメーター（赤）周
辺の照射は青から無色への光による消色程度と関
連性を有する。このようにして、葉緑素の形成、
光による形態形成、向光性、等のような成長に影
響を与える光の照射を監視することができる。 この器具はまた黄疽の治療を受ける幼児に与え
られる紫外線療法を監視するのに使用しうる。こ
の装置の別の用途は工場労働者による紫外線照射
および種々の製造工程に使用される電子ビーム照
射の検査である。 実施例 ５ 乾癬治療監視器 アジリジン化合物、２，2′−ジメチル−６（ｐ
−ニトロフエニル）−４−フエニル−１，３−ジ
アザビシクロ〔3.1.0〕ヘキス−３−エン（0.25
ｇ）を乳鉢と乳棒で微細粒子に磨砕した。ポリビ
ニルアルコール（PVA）水溶液（３ｇの４％溶
液）をアジリジン化合物に加えそしてこの混合物
を数分間磨砕して均質分散物を作つた。分散物を
刷毛で証券用紙上に適用しそして熱銃によつて乾
かした。支持体全体を次いで４％PVA水溶液中
に浸漬しそして熱銃によつて乾かした。浸漬と乾
燥をさらに３回繰り返してアジリジン化合物を完
全に酸素から遮断した。 アジリジン塗被支持体のパツチ（約0.25cm2）を
色標準シートに貼り付けた。色標準シートは青色
のベンジヤミン ムーア処方９−31フラツトラテ
ツクス塗料を塗被した証券用紙であつた。この塗
料を選んだ理由はフイルター系（下に記載する）
を通して目視した場合に0.84の反射光学濃度にお
いてこの塗料とアジリジン分散物の着色形態との
間の目視的一致のためである。アジリジンを塗被
した５枚のパツチを約1.5cm×7.5cmの色標準シー
トの条片に貼り付けそれによつてパツチは完全に
着色した背景に取囲まれるようにした。条片全体
を次いで４％のPVA水溶液で塗被した。 減衰フイルターは始めに原混合物を造り次いで
連続的に稀釈して種々の濃度を得るようにして造
つた。原混合物は次のようにして造つた：ハイレ
ンWS（53.5ｇ−デユポン４，4′−メチレンビス
−シクロヘキシルイソシアネート）を250ml三つ
首フラスコに装入しそして撹拌して50℃に熱し
た。ポリカプロラクトーンポリオール（83.0ｇ−
分子量約530）を添加すると温度は84℃に上つ
た。２時間撹拌した後に、温度は65℃に下つた。
次いでジラウリン酸ジブチル錫（0.24ｇ）を加え
た。ヒドロキシエチルメタクリレート
（HEMA，37.4ｇ）を徐々に撹拌混合物に加えそ
して約45分間反応させた。その結果得られたシロ
ツプ状混合物をオリゴマー「Ａ」と名付けた。オ
リゴマー「Ａ」（5.05ｇ）を5.05ｇのＶ−パイロ
ールモノマー（Ｎ−ビニル−２−ピロリドンで
GAFコーポレーシヨンから得られる）と混合し
た。この混合物にアニソインエチルエーテル
（0.5ｇ）とα，α−ジエトキシアセトフエノン
（0.1ｇ）を加えた。その結果得られた溶液にゼナ
クリル黄3G（C.I.＃48055，2.0ｇ）、２，４−ジ
ヒドロキシベンゾフエノン（0.424ｇ）およびア
リザリン黄5GS（C.I.＃14055，0.0386ｇ）を引続
いて加えそして溶解するまでかきまぜた。この溶
液をオリゴマー「Ａ」（43.3ｇ）、HEMA（43.3
ｇ）およびα，α−ジエトキシアセトフエノン
（0.866ｇ）の混合物に加えて原混合物を形成し
た。原混合物を第表中に示すように１：１のオ
リゴマー「Ａ」：HEMA＋１重量％α，α−ジ
エトキシアセトフエノンで造つた稀釈剤の種々の
量で稀釈した。
ルエレクトリツクの「バグ ライト（Bug
Lite）」に６インチの距離から1/2時間露出して光
学的に消色した。試料に再度像を造らせたところ
明らかな感度の損失は認められず、また仮像模様
も存在しなかつた。 実施例 ４ ２，2′−ジメチル−６（ｐ−ニトロフエニル）
−４−フエニル−１，３−ジアザビシクロ
〔3.1.0〕ヘキス−３−エンの試料1.0ｇを乳鉢と乳
棒を用いて微細粒に磨砕した。ポリビニルアルコ
ールの４重量％水溶液の10ｇをアジリジンに加え
次いで混合物を数分間磨砕して均質分散物を得
た。分散物を刷毛で白色厚紙に適用しそして熱銃
で乾かした。浸漬および乾燥をさらに３回反復し
てアジリジンを空気から完全に封鎖した。 この媒体を次に「コライト（Colite）」露出装
置中で水銀灯に５秒間露出してネガから密着印刷
した。白色背景上に清澄な鋭い青色像を生じた。
この線は黄色白熱灯のゼネラルエレクトリツク
「バツグ ライト」に６インチの距離で1/2時間露
出させて消色してしまつた。それに再び像を造つ
たときに、そこには何らの仮像も生ぜずまたは明
らかな感度の損失もなかつた。この像を造つた試
料を一週間に亘つて暗所に貯蔵したが像の劣化は
なかつた。 この試料は第二の部分をポリビニルアルコール
の４重量％水溶液の25ml中に溶かした0.15ｇのア
リザリン黄染料の溶液に２回浸漬塗被および乾燥
を繰り返した。この試料をネガを通して「コライ
ト」装置に60秒間露出した。黄色背景上に鋭い緑
色像を得た。この像中の背景は頭上の「冷白色」
蛍光灯に30分露出した後に僅かに出てきた。 アジリジンを輻射線の監視に使う場合には、監
視すべき輻射の特性のみをアジリジン化合物に到
達させるようにアジリジン化合物と化学線源との
間に濾過手段を配置する。少なくとも一つの色標
準を用意しこれによつてアジリジン化合物によつ
て発色した色を比較する。望ましい実施態様にお
いては、色標準は、例えば支持体の背景色のよう
にアジリジン化合物から切り離す。アジリジン化
合物によつて発色した色が特定の色に合つた場合
には、使用者は予め選定した輻射線曝露量に達し
たことを知らされる。 特定のアジリジンに色標準の色の発生を引き起
させる輻射線量は試料平面において露出計により
ランプの出力の強さと露出時間を測定することに
よつて正確に決定することが可能である。強さと
露出時間の積は露出（例えばジユール／cm2）を与
える。パツチ（patch）の色と色標準時間の目視
による合致を「終点」と規定する。与えられた参
照色について一つの特殊アジリジンの数個の異に
したパツチを使用してよい。各パツチはアジリジ
ン化合物が露出される輻射線量を減衰するために
異なつたフイルターによつて覆うことができる。
このようにして、使用者が各パツチを参照色と合
致するように着色させるために必要な輻射線量に
ついて知らされるように各パツチは検定される。
別法として、特定のアジリジンを数個の別の標準
と色合わせすることができる。再び、合わせた色
は別の予め検定した露出を表わすであろう。しか
し、単一の色標準を使用することが望ましい。 一つ以上の別のアジリジン化合物のパツチが存
在しそしてパツチが監視されるべき化学線に対し
て異なる感度を有する場合には（異なる強さの減
衰層でパツチの上に層を重ねて）、別々の色標準
は必要ではない。そのような監視器においてはア
ジリジンパツチそれ自身は使用者に対して予め決
められた輻射線量に達したことを警告するための
比較の手段として役に立つことができる。各ホト
クロミツクアジリジンの飽和（可能な限りの最濃
厚青色）時における光学密度は比較的一定である
から、飽和したパツチは別の不飽和パツチに対し
て色標準として使うことができる。最小に減衰す
るフイルターを持つパツチは最初に飽和に達し、
そして最大に減衰するフイルターは最後に飽和に
達するであろう。このように、光度検定によつて
飽和のための露光量は各パツチに対して決定する
ことが可能である。従つて、一連のパツチを含む
監視器を使用することが可能であつて、これはあ
る中間水準において予め決定した露光の臨界水準
を含む。例えば、もしも許容しうる８時間照射線
量が3.0ミリジユール／cm2である場合には、1.0，
2.0，3.0，4.0および5.0ミリジユール／cm2で飽和
に達するパツチを有する監視器を使うことができ
る。第一のパツチが発色しそして第一に飽和に達
し、そして次に第二が先例通りになる。この時点
で使用者は２ミリジユール／cm2に露出したことに
なる。第三のパツチは青くなりつつありそして第
四のパツチはより薄い青になる。ある場合には第
三パツチが第一および第二パツチと同一の色にな
る前に、使用者は許容限度まで露出するのを避け
るために化学線区域を残すべきである。 このような監視器は乾癬（psoriasis）の処置
において特に有用であつて、そこでは患者は光活
性薬剤を受けそして定期的に紫外線で照射され
る。パリツシユ（Parrish）等によるニユーイン
グランド ジヤーナル オブ メジシン291，
1207−11（1974）中の論文で乾癬の光学的治療を
記載している。患者はまず経口または局所投薬に
よつて光活性薬剤（例えば８−メトキシプソラレ
ン）で手当され、続いて特殊の化学線で照射す
る。一般に、320ないし390ナノメーターの範囲の
近紫外線照射が用いられる。必要な照射量は約１
と20ジユール／cm2の間に変化しそして患者の許容
限度および薬剤に対する反応によつて決まる。こ
の方法は当初の集中的治療段階から引続く長期間
の持続計画を含むものと期待される。患者各人に
ついて当初治療の許容限度と効果を決定するため
に「力価測定」される。治療において利用する
UV照射量は光活性薬剤の効能と紅斑のような有
毒反応の極小化の両方で臨界的であるため、輻射
線照射の正確な監視は重要である。 現在、放射線量を監視するために高価な電子積
算装置が利用されそして開発されている。廉価
で、加工が容易で、信頼性がありそして再使用が
可能な本発明の監視器はこの治療法に使用するの
に好適である。 この監視器は太陽照射監視用としてもまた用い
ることができるが、この用途に対しては陽光中に
存在する大量の可視光線による消色を防ぐために
追加のフイルターを加えることが望ましい。この
器具は日光浴者または陽光照射に対する過敏性の
人々によつて使われ、そしてアジリジン化合物の
色の適度の変化は紅斑発生光線の照射量を示す。
監視器はまた据付けたパネルの色の変化速度を比
較することにより太陽光線集光パネルの必要な調
整を示すのに使つてもよい。 本発明に使われるホトクロミツクアジリジンは
約450ナノメーターもの外方までの化学線に感応
するので；適当したフイルターを伴つたこのよう
な器具は植物によつて受とられる照射量を監視す
るのに使用可能である。435ナノメーター（青）
周辺の累積照射が無色から青への変化によつて示
され、そして選択的に675ナノメーター（赤）周
辺の照射は青から無色への光による消色程度と関
連性を有する。このようにして、葉緑素の形成、
光による形態形成、向光性、等のような成長に影
響を与える光の照射を監視することができる。 この器具はまた黄疽の治療を受ける幼児に与え
られる紫外線療法を監視するのに使用しうる。こ
の装置の別の用途は工場労働者による紫外線照射
および種々の製造工程に使用される電子ビーム照
射の検査である。 実施例 ５ 乾癬治療監視器 アジリジン化合物、２，2′−ジメチル−６（ｐ
−ニトロフエニル）−４−フエニル−１，３−ジ
アザビシクロ〔3.1.0〕ヘキス−３−エン（0.25
ｇ）を乳鉢と乳棒で微細粒子に磨砕した。ポリビ
ニルアルコール（PVA）水溶液（３ｇの４％溶
液）をアジリジン化合物に加えそしてこの混合物
を数分間磨砕して均質分散物を作つた。分散物を
刷毛で証券用紙上に適用しそして熱銃によつて乾
かした。支持体全体を次いで４％PVA水溶液中
に浸漬しそして熱銃によつて乾かした。浸漬と乾
燥をさらに３回繰り返してアジリジン化合物を完
全に酸素から遮断した。 アジリジン塗被支持体のパツチ（約0.25cm2）を
色標準シートに貼り付けた。色標準シートは青色
のベンジヤミン ムーア処方９−31フラツトラテ
ツクス塗料を塗被した証券用紙であつた。この塗
料を選んだ理由はフイルター系（下に記載する）
を通して目視した場合に0.84の反射光学濃度にお
いてこの塗料とアジリジン分散物の着色形態との
間の目視的一致のためである。アジリジンを塗被
した５枚のパツチを約1.5cm×7.5cmの色標準シー
トの条片に貼り付けそれによつてパツチは完全に
着色した背景に取囲まれるようにした。条片全体
を次いで４％のPVA水溶液で塗被した。 減衰フイルターは始めに原混合物を造り次いで
連続的に稀釈して種々の濃度を得るようにして造
つた。原混合物は次のようにして造つた：ハイレ
ンWS（53.5ｇ−デユポン４，4′−メチレンビス
−シクロヘキシルイソシアネート）を250ml三つ
首フラスコに装入しそして撹拌して50℃に熱し
た。ポリカプロラクトーンポリオール（83.0ｇ−
分子量約530）を添加すると温度は84℃に上つ
た。２時間撹拌した後に、温度は65℃に下つた。
次いでジラウリン酸ジブチル錫（0.24ｇ）を加え
た。ヒドロキシエチルメタクリレート
（HEMA，37.4ｇ）を徐々に撹拌混合物に加えそ
して約45分間反応させた。その結果得られたシロ
ツプ状混合物をオリゴマー「Ａ」と名付けた。オ
リゴマー「Ａ」（5.05ｇ）を5.05ｇのＶ−パイロ
ールモノマー（Ｎ−ビニル−２−ピロリドンで
GAFコーポレーシヨンから得られる）と混合し
た。この混合物にアニソインエチルエーテル
（0.5ｇ）とα，α−ジエトキシアセトフエノン
（0.1ｇ）を加えた。その結果得られた溶液にゼナ
クリル黄3G（C.I.＃48055，2.0ｇ）、２，４−ジ
ヒドロキシベンゾフエノン（0.424ｇ）およびア
リザリン黄5GS（C.I.＃14055，0.0386ｇ）を引続
いて加えそして溶解するまでかきまぜた。この溶
液をオリゴマー「Ａ」（43.3ｇ）、HEMA（43.3
ｇ）およびα，α−ジエトキシアセトフエノン
（0.866ｇ）の混合物に加えて原混合物を形成し
た。原混合物を第表中に示すように１：１のオ
リゴマー「Ａ」：HEMA＋１重量％α，α−ジ
エトキシアセトフエノンで造つた稀釈剤の種々の
量で稀釈した。
【表】
これらの各溶液を＃44メイヤー（Meyer）棒で
マイラー上に塗被しそして窒素雰囲気の下でシル
バニアF15T ８／BL ランプの列に塗被側面を
2.5分間、背面を10分間、そして塗被側面を追加
して５分間照射した。その結果得られた硬化した
フイルムは近紫外線に対して比較的均一なスペク
トル応答を与える。 硬化したフイルムは容易にマイラーから外しそ
してホトクロミツクアジリジンパツチの上に合う
ように適当な寸法に切る。最も濃い混合物のフイ
ルムは支持体の一端において都合よくパツチに貼
付され、他のパツチに亘つて規則正しい濃度減少
にする。 スペクトル反応形成フイルターは次の成分を
１：１のオリゴマー「Ａ」とHEMAの混合物48.5
ｇ中に溶かして造つた： 0.750ｇのゼナクリル黄3G（C.I.＃48055）； 0.0782ｇのジヒドロキシベンゾフエノン； 0.213ｇのフエニルサリシレート； 0.252ｇのアニソインエチルエーテル；および 0.260ｇのα，α−ジエトキシアセトフエノ
ン。 その結果得られた溶液を＃44メイヤー棒によつ
てマイラー上に塗被しそして窒素雰囲気中でシル
バニアF15T ８／BL ランプの列で硬化させ
た。塗被した側は10分間そして背面を５分間照射
した。得られたフイルムをマイラーから剥がすと
0.068mmの厚味であつた。このフイルムの一部1.5
cm×7.5cmを減衰フイルターに貼付した。全組立
物をマイラー層で包んで監視器を形成させた。監
視器を一対のシルバニアFR40 BL−235ランプで
照射した。これらのランプは乾癬治療に使用する
ランプと同様の放射スペクトルを有する。監視器
が輻射線で照射されるとホトクロミツクアジリジ
ンは青色に変化する。減衰フイルター５の下のパ
ツチは最初に色標準の色に一致し続いて照射時間
の増加と共に４から１へと一致する。フイルター
１の下のパツチが標準の色に一致する時までに、
その他のパツチは暗色化し従つてそれらの「終
点」が経過したことを目視的に決定することは極
めて容易であつた。 ホトクロミツクアジリジンパツチの色が色標準
と一致した点において、シアンフイルターを持つ
マクベスRD−519濃度計によつて監視器のフイル
ターを通して測定した反射光学濃度（以後「光学
濃度」と称する）は0.88であつた。 総てのパツチの色が「終点」を通つてしまうま
で監視器をシルバニアFR40 BL−235ランプで照
射した。各パツチの光学濃度を測定し次いで監視
器を暗所に72時間置いた。この時間の終に光学濃
度を再度測定した。データは第表中に記録す
る。暗所に72時間置いた後光学濃度に僅かな変化
があつた。次いで監視器を黄色G.E.「バツグラ
イト」に15cmの距離で２時間照射した。光学濃度
を測定した。その結果は（また第表中に示され
る）可視線照射下の消色が生じ、そして監視器が
再び使用しうることを示す。
マイラー上に塗被しそして窒素雰囲気の下でシル
バニアF15T ８／BL ランプの列に塗被側面を
2.5分間、背面を10分間、そして塗被側面を追加
して５分間照射した。その結果得られた硬化した
フイルムは近紫外線に対して比較的均一なスペク
トル応答を与える。 硬化したフイルムは容易にマイラーから外しそ
してホトクロミツクアジリジンパツチの上に合う
ように適当な寸法に切る。最も濃い混合物のフイ
ルムは支持体の一端において都合よくパツチに貼
付され、他のパツチに亘つて規則正しい濃度減少
にする。 スペクトル反応形成フイルターは次の成分を
１：１のオリゴマー「Ａ」とHEMAの混合物48.5
ｇ中に溶かして造つた： 0.750ｇのゼナクリル黄3G（C.I.＃48055）； 0.0782ｇのジヒドロキシベンゾフエノン； 0.213ｇのフエニルサリシレート； 0.252ｇのアニソインエチルエーテル；および 0.260ｇのα，α−ジエトキシアセトフエノ
ン。 その結果得られた溶液を＃44メイヤー棒によつ
てマイラー上に塗被しそして窒素雰囲気中でシル
バニアF15T ８／BL ランプの列で硬化させ
た。塗被した側は10分間そして背面を５分間照射
した。得られたフイルムをマイラーから剥がすと
0.068mmの厚味であつた。このフイルムの一部1.5
cm×7.5cmを減衰フイルターに貼付した。全組立
物をマイラー層で包んで監視器を形成させた。監
視器を一対のシルバニアFR40 BL−235ランプで
照射した。これらのランプは乾癬治療に使用する
ランプと同様の放射スペクトルを有する。監視器
が輻射線で照射されるとホトクロミツクアジリジ
ンは青色に変化する。減衰フイルター５の下のパ
ツチは最初に色標準の色に一致し続いて照射時間
の増加と共に４から１へと一致する。フイルター
１の下のパツチが標準の色に一致する時までに、
その他のパツチは暗色化し従つてそれらの「終
点」が経過したことを目視的に決定することは極
めて容易であつた。 ホトクロミツクアジリジンパツチの色が色標準
と一致した点において、シアンフイルターを持つ
マクベスRD−519濃度計によつて監視器のフイル
ターを通して測定した反射光学濃度（以後「光学
濃度」と称する）は0.88であつた。 総てのパツチの色が「終点」を通つてしまうま
で監視器をシルバニアFR40 BL−235ランプで照
射した。各パツチの光学濃度を測定し次いで監視
器を暗所に72時間置いた。この時間の終に光学濃
度を再度測定した。データは第表中に記録す
る。暗所に72時間置いた後光学濃度に僅かな変化
があつた。次いで監視器を黄色G.E.「バツグラ
イト」に15cmの距離で２時間照射した。光学濃度
を測定した。その結果は（また第表中に示され
る）可視線照射下の消色が生じ、そして監視器が
再び使用しうることを示す。
【表】
いた後
可視光線で照射 0.26 0.26 0.26 0.26 0.26
した後
この器具のスペクトル応答と８−メトキシプソ
ラーレンの摂取後の人間の皮膚の生理学的応答と
を比較すると乾癬治療における輻射線照射量の決
定用の優れた監視器になるであろうことを示して
いる。 実施例 ６ アジリジン化合物、２，2′−ジメチル−６（ｐ
−ニトロフエニル）−４−フエニル−１，３−ジ
アザビシクロ〔3.1.0〕ヘキス−３−エンをポリ
ビニルアルコール水溶液中に分散させた。この溶
液を白色厚紙に適用しそして実施例５に記載した
ようにして完全にPVA中に封じた。 次いで監視器を次のようにして造つた： 全体の光に敏感な支持体をマスキングテープで
覆つた。色標準を適用すべき部分のマスキングテ
ープを切除した。全表面をベンジヤミンムーア９
−31艶消ラテツクス塗料で被覆した。次いでマス
キングテープ（光に敏感なパツチの部分）を除去
した。 次いで全支持体を４％PVA中で浸漬塗被しそ
いて乾燥した（３回繰り返した）。 個々のパツチの上に置くべきフイルター（スペ
クトル応答造形フイルターと減衰フイルターを一
つに組合わせて）を次のようにして造つた。 染料原液混合物を次の成分を変性酢酸セルロー
ズ（mod.cell.acetate）の20.5％アセトン溶液の
1324ｇ中に加えて造つた： 14.8391ｇ ゼナクリル黄（ベルンカラース、
インク．−ベルナクリル黄、4G）； 14.4298ｇ アリザリン黄（ベルンカラース、
インク．−ベルナクロム黄、6G）； 2.3421ｇ ジヒドロキシベンゾフエノン；およ
び 2.0992ｇ フエニルサリシレート。 混合物を温めそしてかきまぜて染料を溶かし次
いで加圧フイルターを通した。 この原液混合物の一連の稀釈物を種々の量で
20.5％変性酢酸セルローズ／アセトン溶液を添加
して造つた。これら試料の溶液を3.65mmの湿潤厚
さでナイフ塗被し次いで炉中で80℃で風乾した
（0.0457mm乾燥）。試料はアジリジン分散物の上に
置きそしてFR40BL−235ランプで照射した場合
に各フイルムの代表的終点を与えるように選ん
だ。この実施例で使用した稀釈度は下に与えられ
る。
可視光線で照射 0.26 0.26 0.26 0.26 0.26
した後
この器具のスペクトル応答と８−メトキシプソ
ラーレンの摂取後の人間の皮膚の生理学的応答と
を比較すると乾癬治療における輻射線照射量の決
定用の優れた監視器になるであろうことを示して
いる。 実施例 ６ アジリジン化合物、２，2′−ジメチル−６（ｐ
−ニトロフエニル）−４−フエニル−１，３−ジ
アザビシクロ〔3.1.0〕ヘキス−３−エンをポリ
ビニルアルコール水溶液中に分散させた。この溶
液を白色厚紙に適用しそして実施例５に記載した
ようにして完全にPVA中に封じた。 次いで監視器を次のようにして造つた： 全体の光に敏感な支持体をマスキングテープで
覆つた。色標準を適用すべき部分のマスキングテ
ープを切除した。全表面をベンジヤミンムーア９
−31艶消ラテツクス塗料で被覆した。次いでマス
キングテープ（光に敏感なパツチの部分）を除去
した。 次いで全支持体を４％PVA中で浸漬塗被しそ
いて乾燥した（３回繰り返した）。 個々のパツチの上に置くべきフイルター（スペ
クトル応答造形フイルターと減衰フイルターを一
つに組合わせて）を次のようにして造つた。 染料原液混合物を次の成分を変性酢酸セルロー
ズ（mod.cell.acetate）の20.5％アセトン溶液の
1324ｇ中に加えて造つた： 14.8391ｇ ゼナクリル黄（ベルンカラース、
インク．−ベルナクリル黄、4G）； 14.4298ｇ アリザリン黄（ベルンカラース、
インク．−ベルナクロム黄、6G）； 2.3421ｇ ジヒドロキシベンゾフエノン；およ
び 2.0992ｇ フエニルサリシレート。 混合物を温めそしてかきまぜて染料を溶かし次
いで加圧フイルターを通した。 この原液混合物の一連の稀釈物を種々の量で
20.5％変性酢酸セルローズ／アセトン溶液を添加
して造つた。これら試料の溶液を3.65mmの湿潤厚
さでナイフ塗被し次いで炉中で80℃で風乾した
（0.0457mm乾燥）。試料はアジリジン分散物の上に
置きそしてFR40BL−235ランプで照射した場合
に各フイルムの代表的終点を与えるように選ん
だ。この実施例で使用した稀釈度は下に与えられ
る。
【表】
これらのフイルムの試料は寸法に切りそしてダ
ウコーニングのシラスチツク732RTV接着剤でア
ジリジンパツチに固着させた。２ミルのマイラー
の層を全部のフイルターにシラスチツク接着剤に
よつて接着し、そして全体の組立品を加圧下で24
時間硬化させた。 監視器は一対のFR40BL−235ランプに2.08ミ
リワツト／cm2（ガンマサイエンチフイツク820A
光度計で測定して）の割合でそれぞれの終点に達
するまで照射した。次いで試料をG.E.「バツク
ライト」によつて光学的に消色した。 第四次のサイクルで、各パツチの光学的濃度を
周期的に（フイルターを通して）RD−100濃度計
で測定した。試料を引続き光学的に消色しそして
第五次のUV照射を与えた。第五次照射の終に試
料を暗室に置きそして室温で69時間放置した。次
いで光学濃度の読みをとつた。これらのデータは
下に集約する。 各試料における下線を付した読みは予め判断し
た目視「終点」である。このように、これら10件
の測定において目視終点は光学的終点との間で
0.89と0.92（＜３％）の間で変り、そして暗黒中
での消色度合は最小であつた。
ウコーニングのシラスチツク732RTV接着剤でア
ジリジンパツチに固着させた。２ミルのマイラー
の層を全部のフイルターにシラスチツク接着剤に
よつて接着し、そして全体の組立品を加圧下で24
時間硬化させた。 監視器は一対のFR40BL−235ランプに2.08ミ
リワツト／cm2（ガンマサイエンチフイツク820A
光度計で測定して）の割合でそれぞれの終点に達
するまで照射した。次いで試料をG.E.「バツク
ライト」によつて光学的に消色した。 第四次のサイクルで、各パツチの光学的濃度を
周期的に（フイルターを通して）RD−100濃度計
で測定した。試料を引続き光学的に消色しそして
第五次のUV照射を与えた。第五次照射の終に試
料を暗室に置きそして室温で69時間放置した。次
いで光学濃度の読みをとつた。これらのデータは
下に集約する。 各試料における下線を付した読みは予め判断し
た目視「終点」である。このように、これら10件
の測定において目視終点は光学的終点との間で
0.89と0.92（＜３％）の間で変り、そして暗黒中
での消色度合は最小であつた。
【表】
【表】
【表】
光 学 濃 度
暗黒中に69時間放置後
暗黒中に69時間放置後
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ その表面上に、式 （式中R1およびR2は別々に水素、フエニル、
低級アルキル、またはオルトーもしくはパラー低
級アルキルもしくは低級アルコキシ−置換フエニ
ルであるか、またはR1およびR2はこれらが結合
する炭素原子と一緒になつて４ないし７個の炭素
原子を有するアルキレンを表わす）で示されるホ
トクロミツクアジリジンの第一被膜；および前記
第一被膜の上に設置されており、そこを化学線が
通過するに十分な化学線透過性を有する、実質的
に酸素−不透過性の遮断被膜を有する支持体から
なる熱に安定な光学的に消去しうる記録用媒体。 ２ 第一被膜が薄い均質な蒸着したフイルムであ
る特許請求の範囲第１項に記載の記録用媒体。 ３ 第一被膜が微結晶からなる特許請求の範囲第
１項に記載の記録用媒体。 ４ 前記のフイルムが透明な、樹枝状結晶を含有
しないものであり、そして遮断被膜が結晶成長を
防止するものである特許請求の範囲第２項に記載
の記録用媒体。 ５ R1およびR2がメチル基である特許請求の範
囲第１項に記載の記録用媒体。 ６ 遮断被膜がポリビニルアルコールを含む特許
請求の範囲第１項に記載の記録用媒体。 ７ 遮断被膜がゼラチンを含む特許請求の範囲第
１項に記載の記録用媒体。 ８ アルキレンがシクロヘキシレンおよびシクロ
ペンチレンから成る群から選択される特許請求の
範囲第１項に記載の記録用媒体 ９ 支持体が多孔質である特許請求の範囲第１項
に記載の記録用媒体。 １０ 支持体が紙である特許請求の範囲第９項に
記載の記録用媒体。 １１ 第一被膜が、式 （式中R1およびR2は別々に水素、フエニル、
低級アルキル、またはオルト−もしくはパラ−低
級アルキルもしくは低級アルコキシ−置換フエニ
ルであるか、またはR1およびR2はこれらが結合
する炭素原子と一緒になつて４ないし７個の炭素
原子を有するアルキレンを表わす）で示されるホ
トクロミツクアジリジンおよびフイルム形成性結
合剤からなる特許請求の範囲第１項に記載の記録
用媒体。 １２ 結合剤がポリビニルアルコールである特許
請求の範囲第１１項に記載の記録用媒体。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US81125577A | 1977-06-29 | 1977-06-29 | |
| US81125477A | 1977-06-29 | 1977-06-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5411889A JPS5411889A (en) | 1979-01-29 |
| JPS6127428B2 true JPS6127428B2 (ja) | 1986-06-25 |
Family
ID=27123453
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7849578A Granted JPS5411889A (en) | 1977-06-29 | 1978-06-28 | Medium for optically erasable recording |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5411889A (ja) |
| AU (1) | AU522529B2 (ja) |
| BR (1) | BR7804114A (ja) |
| CA (1) | CA1116005A (ja) |
| DE (1) | DE2828965A1 (ja) |
| ES (1) | ES471185A1 (ja) |
| FR (1) | FR2396330B1 (ja) |
| GB (1) | GB2006808B (ja) |
| IT (1) | IT1105341B (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0771829B2 (ja) * | 1986-09-22 | 1995-08-02 | 東レ株式会社 | フオトクロミツク複合体 |
| DE19538129A1 (de) * | 1995-10-13 | 1997-04-17 | Beiersdorf Ag | UV-Indikator |
| DE10159880B4 (de) * | 2000-12-07 | 2007-12-06 | Rodenstock Gmbh | Photochrome UV-Detektions- und Meßsysteme |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3609165A (en) * | 1968-07-19 | 1971-09-28 | Research Corp | 1,3-diazabicyclo {8 3.1.0{9 {0 hex-3-enes |
| US3710109A (en) * | 1970-05-27 | 1973-01-09 | L Chalkley | Precision dosimetry of high energy radiation |
| US3716489A (en) * | 1970-10-02 | 1973-02-13 | American Cyanamid Co | Supersaturated solid solutions of photochromic materials in epoxies |
| US3787687A (en) * | 1972-02-23 | 1974-01-22 | T Trumble | Ultraviolet radiation dosimeter |
| JPS5021723A (ja) * | 1973-05-25 | 1975-03-07 | ||
| US3984177A (en) * | 1974-03-18 | 1976-10-05 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Articles employing photochromic materials |
| US3964823A (en) * | 1974-03-18 | 1976-06-22 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Articles employing photochromic materials |
| US4166043A (en) * | 1974-12-23 | 1979-08-28 | American Optical Corporation | Stabilized photochromic materials |
-
1978
- 1978-06-05 CA CA304,779A patent/CA1116005A/en not_active Expired
- 1978-06-27 ES ES471185A patent/ES471185A1/es not_active Expired
- 1978-06-28 DE DE19782828965 patent/DE2828965A1/de active Granted
- 1978-06-28 JP JP7849578A patent/JPS5411889A/ja active Granted
- 1978-06-28 GB GB7828146A patent/GB2006808B/en not_active Expired
- 1978-06-28 FR FR7819264A patent/FR2396330B1/fr not_active Expired
- 1978-06-28 AU AU37527/78A patent/AU522529B2/en not_active Expired
- 1978-06-28 IT IT50079/78A patent/IT1105341B/it active
- 1978-06-28 BR BR7804114A patent/BR7804114A/pt unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1116005A (en) | 1982-01-12 |
| FR2396330B1 (fr) | 1985-05-31 |
| DE2828965C2 (ja) | 1987-10-29 |
| FR2396330A1 (fr) | 1979-01-26 |
| ES471185A1 (es) | 1979-10-01 |
| GB2006808B (en) | 1982-04-15 |
| AU3752778A (en) | 1980-01-03 |
| BR7804114A (pt) | 1979-04-03 |
| GB2006808A (en) | 1979-05-10 |
| JPS5411889A (en) | 1979-01-29 |
| AU522529B2 (en) | 1982-06-10 |
| DE2828965A1 (de) | 1979-01-18 |
| IT7850079A0 (it) | 1978-06-28 |
| IT1105341B (it) | 1985-10-28 |
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