JPS61271614A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野Ｊ 本発明は、耐食性、耐摩耗性、耐久性に優れた磁気記録
媒体に関するものである。

［従来の技術］ 近年、Ｆｅ、　Ｃａ、　Ｃｒ、　Ｎｉ等の金属またはそ
れらの合金を含む強磁性薄膜が種々の方法により基体上
に形成された磁気記録媒体が実用化されはじめている。

この磁気記録媒体の大きな特徴として、前記強磁性薄膜
の厚みをきわめて薄く構成することができるため、磁気
記録媒体に記録された信号を再生するに際し、厚み損失
を少なくすることができる。したがって、短波長での再
生が有利になる点をあげることができる。

しかし、先に記した金属又は合金から成る強磁性薄膜は
、腐食を起こすという重大な問題をかかえている。

さらに大きな問題として、このような金属薄膜型磁気記
録媒体をたとえば磁気テープとして記録・再生用の装置
内で走行させ、ガイドボストあるいは磁気ヘッドと接触
、摺動した際、磁気テープを構成している強磁性薄膜が
摩耗するという問題がある。

以りの問題は、磁気記録媒体としての信頼性にかかわる
重要な問題であるが、これらの問題を解決する方法とし
て、従来から脂肪酸炭化水素、高級脂肪酸、オキシ脂肪
酸、脂肪酸アミド、脂肪酸エステル、脂肪アルコール、
金属セッケン等を表面に塗布することが行なわれてきた
。

［発明が解決しようとする問題点］ 従来公知の方法ではトップコート層の厚みを均−にする
ことがむずかしく、易滑その他の効果が使用するにつれ
て低下し、耐久性がない為に満足すべきものではなかっ
た。また塗布膜が厚くなると、スペーシングロスによる
出力低下が生じる。

以上のように、薄くて耐久性があり所定の効果を持つ被
膜を形成することは困難であった。

本発明は、上記従来例の欠点であった腐食の問題と摩耗
の問題をきわめて少なくした磁気記録媒体を提供するこ
とを目的とする。

［問題点を解決するための手段及び作用］本発明は非磁
性基体上に強磁性薄膜の磁気記録層を有し、さらに前記
強磁性薄膜の表面にＭｏあるいはＷの少なくとも一種類
の元素とＣＯとの合金酸化膜層を有する磁気記録媒体で
ある。

以下、本発明を図面を参照して説明する。

第１図は本発明の媒体の構成図である。

非磁性基体ｌは、厚み５〜１００１ｔ、ｔｘのポリエチ
レンテレフタレート、ポリイミド、ポリカーボネート、
ポリアミド等から成るプラスチックフィルムあるいはス
テンレス、アルミニウム、ガラス等である。

磁気記録層２は、Ｆｅ、Ｇｏ、Ｎｉ等の金属又は少なく
ともそれらを含む合金を、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンブレーティング法、メッキ法等の手段により
形成した。その膜厚は０．０５μｍ〜１．０μ国の範囲
が好ましい。

保護膜層３はＮｏあるいはＷの中から選ばれる少なくと
も一種の金属とＣｏとの合金の酸化物からなり、厚みは
５０〜５００Ａが好ましい。５０Ａ以下であると保護、
潤滑膜としての効果が発揮されず、また５００　Ａ以上
ではヘッドと磁気記Ｒ層との間隙を増加させ、記録再生
効率を低下させる。Ｇｏと阿０あるいはＷとの組成比率
は１：９〜９：１が好ましく、さらに２：８〜８：２が
より好ましい範囲である。　Ｇｏが多い場合は耐食性向
上の効果が十分でなく、またＣＯが少ない場合は摩擦係
数の低減効果が小さい。

保護膜層３は酸素あるいはオゾン等の酸化性ガス雰囲気
中で前記合金を真空蒸着法あるいはイオンブレーティン
グ法で形成される。あるいは酸化性ガスを含む不活性ガ
ス中で前記合金をスパッタリングすることにより形成さ
れる。酸化性ガスの分Ｅ範囲は、使用する装置の大きさ
、蒸発源と被着すべき磁気媒体との距離、成膜速度に依
存するが、真空蒸着法、イオンブレーティング法では通
常１０−４〜１０１Ｔｏｒｒ、スパッタリング法では全
スパッタガスに対し数％以上である。

［実施例］ 以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明する。

実施例１ １２μ覆厚のポリエチレンテレフタレート上に。

組成がＣｏｏ、　ＢＮｉｏ、　２である強磁性薄膜を斜
め蒸着法・により０．２　ｇｍ形成し、さらにその表面
にＣｏ−Ｎ。

酸化物層をスパッタ法により１００　Ａ形成した。

Ｇｏ−Ｎｏ酸化物はＧｏとＮｏの２源ターゲツトを同時
に使用し、酸素ガス１０％を含むＡｒガス中でスパッタ
した。ＣＯとＮｏのターゲツト面積比は１：１である。

比較例１ 比較のために、Ｇｏ−Ｎｏ酸化物層を形成しないＣａ−
Ｎｉの磁性層のみの磁気テープを作製した。

以上の媒体を％インチに裁断し、ＶＨＳビデオ用デツキ
でスチル画像を２０分間再生した後、磁性層の摩耗量を
調べたところ、本発明の磁気テープはほとんど塵耗せず
再生出力も変化しなかったのに対し、比較例１のテープ
は１０秒で磁性層がけずり取られてしまった。

さらに、温度７０℃、湿度９０％の恒温恒湿からなる環
境の中に、約１００時間本発明の磁気テープと比較例１
の磁気テープを入れたところ、比較例１の媒体は腐食さ
れた部分が点在していたが、本発明の磁気テープは腐食
が全く検知されなかった。

またＳＵＳ製ポスト（４φ、表面粗さ０．２３）に対す
る動摩擦係数は、比較例１の磁気テープが０．４８であ
ったのに対し、本発明の磁気テープは０．２８であり、
極めて摩擦係数が減少した。

実施例２ 厚み４０１のポリイミドフィルム上にＮｉ８０ｗｔ＄　
−Ｆｅ　２０ｗｔＨｆ＊を０．５　ｇｍ　、　Ｃｏ　８
０ｗｔＸ−Ｃｒ　２０ｗｔ＄の垂直磁化膜を０．３　ｇ
ｒｎスパッタリング法により形成した。さらにスパッタ
リング法によりＣＯとＷのターゲットを使用し、９％の
酸素分圧中でＧｏ−Ｗ酸化膜層を２０ＯＡ形成した。こ
の際ＣＯとＷのターゲツト面積比は２：１であった。こ
の様に作製した本発明の垂直二層フロッピーディスクＡ
と、比較としてＧｏ−Ｗ酸化膜のない垂直二層フロッピ
ーディスクＢの耐久試験を行なった。

その結果第２図に示した様にＧｏ−Ｗ酸化膜のないディ
スクＢは、９万バス後に再生出力が６ｄＢ減少したのに
対し、本発明のディスクＡは１００万バス後も出力の低
下およびヘッド走行キズが発生せず、極めて耐久性に優
れている。

実施例３ 実施例２と同じベースフィルム及び磁気記録層の磁気デ
ィスク上にスパッタリング法によりＧｏとＭｏとＶのタ
ーゲットを使用し、１０％の酸素分圧中でＧｏ　−Ｍｏ
　−Ｖ酸化膜層を２０ＯＡ形成した。

この際、ＧｏとＭｏとＶのターゲットの面積比は４：ｌ
：１であった。この様にして作製した未発明の東向ユ層
フロンビーディスクＣについて耐久試験を行なった結果
、１５０万パス後も出力の低下およびヘッド走行キズが
発生せず、極めて耐久性に優れていた。

「発明の効果」 以上説明したように、本発明によれば、耐食性ならびに
耐摩耗性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の構成図である。第２図
は垂直二層フロッピーディスクの耐久試験結果を示す図
である。 ■・・・非磁性基体 ２・・・磁気記録層 ３・・・保護膜層

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 非磁性基体上に強磁性薄膜からなる磁気記録層を有し、
   さらにその表面にＭｏあるいはＷの少なくとも一種類の
   元素とＣｏとの合金酸化膜層を有することを特徴とする
   磁気記録媒体。